【課題】本発明は、新規な液状樹脂およびそれを配合してなる粘着物性の優れた粘着剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】テルペン単量体と芳香族単量体を、フリーデルクラフト触媒存在下に共重合させて得られるテルペン系液状樹脂である。このテルペン系液状樹脂は、水素添加されていることが好ましい。また、テルペン単量体が、α−ピネン、β−ピネン、ジペンテン及びｄ−リモネンから選ばれた少なくとも１種であり、芳香族単量体がスチレンであることが好ましい。また、上記テルペン系液状樹脂をエラストマーまたはアクリルポリマー１００重量部に対して０．１〜５０重量部の割合で配合してなる粘着剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】工業的生産が容易であり、優れた気体透過性、熱安定性、機械強度を持つ環状オレフィン付加重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物、又は式（１）の化合物と式（２）の化合物とを、触媒（Ａ）と助触媒（Ｂ）を用いて付加重合して得られ、式（１）由来の構造単位の割合が重合体中３５〜１００モル％であり、Ｍｎが２十万〜１００万である環状オレフィン付加重合体。
〔触媒（Ａ）〕
式（３）で表される遷移金属錯体。
ＭＬ_nＫ¹_xＫ²_yＫ³_z （３）
（ＭはＮｉ又はＰｄ、Ｌはシクロペンタジエニル系配位子。Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³は陰性配位子又は中性配位子。ｎは１〜３、ｘ、ｙ、ｚは０〜７、ｘ＋ｙ＋ｚは０〜７。）
〔助触媒（Ｂ）〕
（ａ）有機Ａｌ化合物、（ｂ）触媒（Ａ）と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物、（ｃ）触媒（Ａ）の配位子の解離を促進する化合物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる化学増幅レジスト膜を形成するための化学増幅ポジ型レジスト組成物であって、少なくとも、（Ａ）３級アルキル基によってフェノール性水酸基が保護された繰り返し単位を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、前記３級アルキル基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分（Ｄ）有機溶剤、を含有し、回転塗布によって１０〜１００ｎｍの膜厚を有する前記化学増幅レジスト膜が得られるように固形分濃度を調整したものであることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程、平版印刷版、酸硬化性組成物に使用される感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、ＤＯＦ、現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、光反応性ノルボルネン系単量体を含む光反応性ノルボルネン系重合体、その製造方法及びこれを利用した配向膜に関する。前記光反応性ノルボルネン系重合体は、ハロゲン系、特にフッ素系置換基を有する光反応性作用基を含んでおり、配向膜内の組成斜面を与え、配向速度、配向性、及び接着性を向上させることができる。
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【課題】良好な電気特性と優れた難燃性を有する回路基板用絶縁膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】環状オレフィン重合体および硬化剤を含有してなる硬化性樹脂組成物であって、環状オレフィン重合体が、例えば、水素原子がフッ素原子またはトリフルオロメチル基で置換された単環の含フッ素環状オレフィン１分子に対して、シクロペンタジエン１分子〜３分子をディールスアルダー反応により付加させることで容易に合成できる含フッ素環状オレフィン化合物を少なくとも単量体の一部として用いて開環重合して得られるもの、またはその水素添加物であり、かつ、硬化剤と反応して結合を形成しうる官能基を有するものであることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】



（式中、Ｒ¹は重合性二重結合含有基、Ｒ²はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ³及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ¹は連結基を表す。） （もっと読む）

【解決手段】側鎖に、芳香族炭化水素基および三級炭素を含有する鎖状または環状のアルキル基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明の材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。また、マスク加工における、ＥＢ描画において、微細パターンの解像性、高感度で高加速電圧ＥＢ露光に相応しく、エッチング耐性に優れたポジ型レジスト材料を提供でき、マスク加工に極めて有用でもある。 （もっと読む）

【課題】剥離層材料、それを含む基板構造およびその作製方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、フレキシブル電子デバイスに適用される環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）の剥離層材料。及び、キャリア１２、１つまたはそれ以上のブロックでキャリアを第１の面積で覆う、特定の構造を有する環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）を含む剥離層１４、ならびに、剥離層およびキャリアを第２の面積で覆うフレキシブル基板１６、を含み、第２の面積は第１の面積より大きく、かつフレキシブル基板１６は、剥離層１４のキャリア１２に対する密着度よりも高い密着度を有する基板構造１０。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される環状アセタール構造を有する含フッ素単量体。


（Ｒは、水素原子の一部がハロゲン原子で置換されていてもよく、又は、メチレン基の一部が酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、Ｚは、両端で結合するアルキレンオキシ基と共に五員環又は六員環を形成し、重合性不飽和基を含む二価の有機基）
【効果】本発明により、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用な、環状アセタール構造を有する新規含フッ素単量体が提供される。中でも、該単量体を用いた重合体は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、また優れた撥水性を有すると共に構造の選択により撥水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【課題】従来よりも高温条件下において、高分子量のβ−ピネン重合体を有利に製造することが出来る方法を提供すること。
【解決手段】β−ピネン、又はβ−ピネンとカチオン重合性単量体とからなる単量体群を、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン及び下記一般式（Ｉ）にて表わされる化合物の存在下、カチオン重合又はカチオン共重合せしめる。
ＣＨ₃ＣＲ_AＲ_B−ＯＲ_C ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ_A は置換基を有していてもよいアリール基を、また、Ｒ_B は水素原子、炭 素数が１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を、更に
、Ｒ_C は水素原子又は炭素数が１〜１０のアルキル基を、それぞれ示す。） （もっと読む）

【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】冷却流延製膜法に適用可能なノルボルネン系付加重合体を提供する。
【解決手段】少なくとも一種の下記一般式（１Ａ）で表される繰り返し単位と、少なくとも一種の下記一般式（１Ｂ）で表される繰り返し単位とを含むノルボルネン系付加重合体。


（一般式（１Ａ）および一般式（１Ｂ）中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立に単結合、または２価の連結基を表す。ｍ、ｐはそれぞれ独立に０または１の整数、ｎ、ｑはそれぞれ独立に１〜４の整数、ｒ、ｓはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。なお、ｒ、ｓが２以上の場合は、Ｒ^１、Ｒ^３は各々同一でも異なっていてもよい。ＡはＣＯＯＲ^５またはＯＣＯＲ^５を表し、Ｒ^５は置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】冷却流延製膜法に適用可能なノルボルネン系付加重合体を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの下記一般式（１Ｂ）で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系付加重合体。


（一般式（１Ｂ）中、Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^２およびＲ^４は、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のアルキル基もしくはアリール基を表し、このうち少なくともひとつが水酸基を含有するアルキル基もしくはアリール基である。Ｌ^２は単結合、または２価の連結基を表す。ｐは０または１、ｑは１〜４の整数を表す。ｓは１〜３の整数を表す。なお、ｓが２以上の場合は、複数あるＲ^３は同一でも異なっていてもよい。ｑが２以上の場合は、複数あるＲ^２およびＲ^４は同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】本発明は、フィルムに成形した場合、高い透明性を保持しつつ、さらに金属との密着性に優れる環状オレフィン樹脂およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量〔Ｍｗ〕が、ポリスチレン換算で５万〜２０万であり、−ＣＯＯＨ基を１つ以上有する構造単位を含有することを特徴とする環状オレフィン樹脂。 （もっと読む）

【課題】感放射線性樹脂として用いた場合に、硬度、耐溶剤性及び耐熱性に優れた高性能の硬化皮膜を形成できる共重合体を提供する。
【解決手段】共重合体は、カルボキシル基又は酸無水物基含有重合性不飽和化合物（ａ）に対応するモノマー単位（Ａ）、下記式（１）及び（２）


（式中、Ｒ^aは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基等を示し、Ｒ^bは単結合又は炭素数１〜１８のアルキレン基等を示す）で表される化合物から選択される少なくとも１種の重合性不飽和化合物（ｂ）に対応するモノマー単位（Ｂ）を少なくとも含む。 （もっと読む）

不飽和メタセシスポリマー又はインターポリマー及び不飽和二酸無水物の付加物。不飽和メタセシスポリマー又はインターポリマー及び不飽和二酸無水物の付加物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造時の溶液安定性に優れる共重合体水素化物を樹脂成分として含み、かつ高透明性、高防湿性、および適度な耐熱性を有する防湿性成形材料、フィルムおよび包装材料を提供する。
【解決手段】ジシクロペンタジエン化合物由来の構造単位（Ａ）、テトラシクロドデセン化合物由来の構造単位（Ｂ）、及びノルボルネン化合物由来の構造単位（Ｃ）を含有し、（Ａ）の含有量をＭ_１モル％、（Ｂ）の含有量をＭ_２モル％、（Ｃ）の含有量をＭ_３モル％としたとき、下記式（１）〜（３）を満たす脂環構造含有開環重合体の水素添加物を樹脂成分として含んでなる防湿性成形材料。
（１） Ｍ_１＋Ｍ_２＋Ｍ_３＝１００
（２） −０．０３５ＸＭ_３＋２．４ ＜ Ｍ_１÷Ｍ_２ ＜ −０．２３ＸＭ_３＋１３
（３） ４０≦Ｍ_３≦５５ （もっと読む）

【課題】β−ピネン系重合体を水素化する際に、時間あたり、容積あたりの生産効率の高い手法を用いても、高い水素化反応率を達成し、なおかつ望まない副反応を進行させない方法を提供すること。
【解決課題】β−ピネン単位を３０質量％以上含有する重合体の主鎖および／または側鎖にある不飽和結合を水素化反応により飽和結合に変換し、β−ピネン系重合体を得る反応において、水素化反応に供給する重合体溶液を反応工程に供給する前に１ＭＰａ以上の加圧条件下において水素ガスで処理した後、水素化反応を、金属を担持した水素化触媒を含む水素化反応条件下に該重合体を連続的に供給する連続反応方式もしくはセミ連続方式で反応させる水素化方法、並びに該水素化方法により得られるβ−ピネン系重合体。 （もっと読む）