フォトリソグラフィ２層塗布基板を形成する、多層リソグラフィプロセスで使用するためのエッチング耐性熱硬化性下層組成物であって、該組成物は、（ａ）構造式（Ｉ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、構造式（ＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、任意に構造式（ＩＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、から構成される、但し、構造式（Ｉ）、構造式（ＩＩ）及び構造式（ＩＩＩ）のいずれも酸感応性基を含有しない、少なくとも一つのシクロオレフィンポリマーと、（ｂ）アミノ又はフェノール架橋剤からなる群から選択される少なくとも一つの架橋剤と、（ｃ）少なくとも一つの熱酸発生剤（ＴＡＧ）と、（ｄ）少なくとも一つの溶媒と、（ｅ）任意に、少なくとも一つの界面活性剤と、を有する。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液を提供する。
【解決手段】（ア）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するレジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液。 （もっと読む）

【課題】 環状オレフィン付加（共）重合体の製造において、金属触媒残渣及び不純物を簡便かつ効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを用いて、付加重合して得られる環状オレフィン付加（共）重合体を用意し、前記環状オレフィン付加（共）重合体の溶液に、重合性官能基を有するオニウムカチオンと重合性官能基を有する有機アニオンとから構成される塩モノマーの重合体を接触させて精製することを特徴とする環状オレフィン付加（共）重合体の製造方法。前記接触において、前記塩モノマーの重合体と常温溶融塩の混合物を用いる環状オレフィン付加（共）重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アクリル酸エステル単量体に基づく構造単位とノルボルネン系単量体に基づく構造単位からなるアクリル系共重合体を、ラジカル重合開始剤を使用して該開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で製造できる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル単量体(A)と、ノルボルネン系単量体(B)とを、
ルイス酸(C)とニッケル化合物(D)の存在下において、アゾビス系ラジカル重合開始剤を用いて、重合開始温度及び重合発熱によるピーク温度が、該ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で共重合させるアクリル系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】可視光領域において波長に対して逆分散性を示す位相差を与えることができ、かつ低光弾性である光学用フィルムを提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）に示す構造単位を有する熱可塑性樹脂を含む光学用フィルムとする。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、（窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基）、または極性基。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であるとともに、ラインウィズスラフネス及び疎密依存性が低減され、また、特にＥＵＶ露光において、高感度とともに溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】インデノン構造を有する特定の繰り返し単位、かつ酸の作用により分解しアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の環状オレフィン系付加共重合体は、炭素数６のアルキル基を置換基として有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（１）と、炭素数７〜１２のアルキル基を置換基として有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（２）とを有し、必要に応じてその他の環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（３）を有する。
【効果】本発明によれば、溶融成形加工性、透明性および耐熱性に優れ、吸水性および誘電率が低く、金属含有量が少なく、光学フィルムなど光学部品用途に好適に使用できる環状オレフィン系付加共重合体、ならびに該付加共重合体を、少ない触媒使用量で、高収率で製造できる環状オレフィン系付加共重合体の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】新規なスピロ環含有ノルボルネン誘導体、この誘導体から得られるノルボルネン系開環重合体水素化物、これらを含有する光学樹脂材料、光学成形体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示されるスピロ環含有ノルボルネン誘導体とその利用。
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【課題】単層フィルムでも高湿度条件下においてガスバリア性の高い包装材料を調製し得るポリビニルアルコール系樹脂の提供を目的とする。
【解決手段】本発明のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂は、ＰＶＡ構造単位を少なくとも有し、かつ主鎖中に脂環構造を有する単位を有する。このＰＶＡ系樹脂を含有する単層フィルム、およびこのＰＶＡ系樹脂を含有する層を少なくとも１層有する積層体は、高湿度条件下においてもガスバリア性の高い包装材料となり得る。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物の多環式ポリマーを後処理することによって、（１）ポリマー組成物の光学密度の低下および（２）ポリマー組成物中の残留金属および／または残留モノマーの量の低減、のいずれか一方または両方を達成する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの多環式繰り返し単位が不飽和末端基を含有する多環式繰り返し単位を含むポリマーの光学密度を低下させる方法であって：前記ポリマーの溶液を調整すること；当該溶液に、水素、過酸、ヒドロシリル化剤、及びヒドロホルミル化剤から選択される後官能基化剤を導入すること；当該後官能基化剤を、溶解したポリマーの不飽和末端基に反応させること。 （もっと読む）

フォトリソグラフィー用２層コート基板製造のための多層リソグラフィー工程において使用するためのエッチング耐性の熱硬化性下層組成物であり、該組成物は（ａ）化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の繰り返し単位を含むポリマー、（ｂ）少なくとも１つの架橋剤、（ｃ）少なくとも１つの熱酸発生剤、および（ｄ）少なくとも１つの溶剤の組成物である。
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【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが１０．５以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示す着色層形成用の感放射線性組成物、より具体的には、低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能であり、色純度の高いカラーフィルタおよび遮光性の高いブラックマトリックスを形成しうる新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がスチレンエポキシ系樹脂に不飽和モノカルボン酸、多塩基酸無水物を付加した構造を有し、そして上記感放射線性組成物が着色層の形成に用いられる感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】新規なノルボルネン系重合体の提供。該ノルボルネン系重合体を用いた位相差の波長分散特性に優れたフィルムならびに該フィルムを用いた偏光板の提供。さらに該フィルムもしくは偏光板を用いた表示特性に優れた液晶表示装置の提供。
【解決手段】ノルボルネンに芳香環が縮環した単量体から誘導される下記一般式（１）で表される繰り返し単位のみから、または下記一般式（２）で表される繰り返し単位を同時に含有するノルボルネン系重合体。
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【解決手段】本発明の位相差フィルムは、炭素数４のアルキル基を有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（１）と、炭素数５〜１２のアルキル基を有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（２）とを有し、必要に応じてその他の環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位（３）を有する環状オレフィン系付加共重合体からなるフィルムを延伸してなる。
【効果】本発明の環状オレフィン系付加共重合体からなる位相差フィルムは、透明性および耐熱性に優れ、吸水性および誘電率が低く、金属含有量が少なく、柔軟性および強靭性にも優れる。また、フィルム面内での位相差の均一性が高く、得られた位相差特性が環境の温度や湿度に影響されにくく、経時安定性に優れ、また、位相差の発現性にも優れる。 （もっと読む）

【課題】感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための高分子化合物および単量体、ならびに高解像性かつ粗密依存性及び露光マージンに優れたレジスト材料の提供。
【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１ａ）で示される繰り返し単位のスルホン酸を発生する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基。） （もっと読む）

ノルボルネン系単量体と直鎖状オレフィン化合物から製造され、耐熱性および光学特性に優れ、耐熱性光学部品材料および電子部品用材料にも有用に適用できる重合体または共重合体を開示する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の環状オレフィン系付加重合体の製造方法は、環状オレフィン系化合物を含む単量体を、ニッケル化合物またはパラジウム化合物を含む触媒を用いて、分子量調節剤の存在下に付加重合する方法であって、単量体の総量の、８０重量％以下の量の単量体を使用して重合反応を開始させる工程と、その重合反応中に単量体の残余を反応系に供給する工程とを含むことを特徴としている。
【効果】本発明によれば、分子量分布が狭く、分子量が制御され、加工性と機械的強度のバランスに優れた均質な環状オレフィン系付加重合体を、高い重合転化率で製造することができ、温度制御性に優れ、工業生産性に優れた環状オレフィン系付加重合体の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡便な工程を追加することによって重合体溶液に含まれる金属成分を効果的に除去し、含有金属成分が充分に低減された重合体溶液を得る方法を提供することを目的とする。
【解決手段】金属成分を含む重合体溶液と、メルカプト基を有する金属酸化物からなる吸着剤（Ａ）とを接触させることを特徴とする重合体溶液中の金属成分除去方法。 （もっと読む）

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度性を有し、現像後のレジストパターンの基板（たとえばマスクブランクス）上面内サイズ均一性が良好であり、さらに高いエッチング耐性を有する高分子化合物、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）および（２）で示される繰り返し単位を有し、質量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることを特徴とする高分子化合物。
【化２８】
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