【課題】酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる含フッ素不飽和カルボン酸オニウム塩。
【化】


（式中、Ｒ^１は、重合性二重結合含有基、Ｒ^２は、フッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗ^１は、二価の有機基、Ｑ^＋は、スルホニウムカチオン、またはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)水酸基を置換した芳香族環を側鎖に有する繰り返し単位（１）を含むベースポリマーと、酸存在下に繰り返し単位（１）への求電子反応により架橋を形成する架橋剤との組み合わせ(Ｂ)酸発生剤(Ｃ)塩基性成分として窒素含有化合物を有し、上記ベースポリマーの少なくとも一部は、式(３)


(Ｒ³はアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、メルカプトアルキル又はアルキルチオアルキル。)で示される基を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基のＨが下記一般式（１）の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ネガ型レジスト組成物であって、ベース樹脂は、スチレン系繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜１０，０００であり、塩基性成分として窒素を含有する化合物は、カルボキシル基を有し、かつ塩基性中心である窒素原子に共有結合で結合する水素を有しないアミン化合物の１種以上を含むものであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、レジスト下層膜用芳香族環含有重合体およびこれを含むレジスト下層膜組成物を提供する。
前記芳香族環含有重合体は、化学式１で表される単位構造を含む。前記化学式１の定義は、明細書に記載されたとおりである。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での誘電正接が極めて小さく、配線埋め込み性、及び耐熱性に優れた積層体の製造に有用な、重合性組成物、架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、それらを用いて得られる積層体を提供すること。
【解決手段】シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物、及びビニリデン基を３つ有する三官能化合物を含有してなり、かつ前記一官能化合物、前記二官能化合物、及び前記三官能化合物の含有割合が重量比（一官能化合物：二官能化合物：三官能化合物）で１０〜８０：１０〜８０：５〜４０である、重合性組成物、該組成物を用いてなる架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、少なくとも、前記架橋性樹脂成形体、又は前記架橋樹脂成形体からなる層を有してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】オレフィンに対する高い重合活性と高い共重合性を有し、かつ分子量の高い重合体を製造するオレフィン重合用触媒、および該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法の提供。
【解決手段】オレフィン重合用触媒は、下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）を含んでなる。


（式中、Ｍは周期律表４〜６族の遷移金属原子を示し、Ｒ¹は炭素原子数７〜３０のアルキル置換アリール基であり、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基等から選ばれ、Ｒ⁴およびＲ⁶は塩素原子である。） （もっと読む）

【課題】非晶質環状オレフィン重合体の透明性、耐熱性及び機械的物性といった特性を維持しつつ、熱インプリント性をさらに改善する。
【解決手段】非晶質環状オレフィン重合体１００重量部に対し、２−ノルボルネンが７５〜１００重量％と置換基含有ノルボルネン類が２５〜０重量％とを含有してなる重合性単量体を開環重合し、水素添加して得られる、融点が５５〜１４５℃である結晶性ノルボルネン系重合体を１〜１０重量部含有する樹脂組成物からなるフィルムであり、非晶質環状オレフィン重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ａ、結晶性ノルボルネン系重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ｂとしたとき、０．６≦Ｍｗ_Ａ/Ｍｗ_Ｂ≦１．０であることを特徴とする樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】各種光学部品及び電子部品の封止材料、絶縁材料として有用な極性基含有環状オレフィン系重合体の原料モノマーであるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体の精製方法の提供。
【解決手段】代表例としてＮ−（２−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド（ＮＥＨＩ）であるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体を、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とからなる混合イオン交換樹脂に接触させる精製方法。前記混合イオン交換樹脂における、前記陽イオン交換樹脂と前記陰イオン交換樹脂との割合は、陽イオン交換樹脂：陰イオン交換樹脂の重量比で、１：１〜１０：１であることが好ましい。前記単量体を前記混合イオン交換樹脂とは、１０〜１００℃の条件で、接触させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】アシル基によって保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を有する単位構造を含むポリマーの脱保護反応において、より短時間に、他の部分構造を保存したまま脱アシル化を行うことができ、かつポリマーとして取出した際、反応に係わるポリマー以外の物質による汚染を高度に抑制可能な保護ポリマーの脱保護方法を提供する。
【解決手段】アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ＣｌｏｇＰの値が１．００以下である第１級または第２級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬（但し、第２級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第３級ではない）とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法が提供できる。上記第１級または第２級アミン化合物は、好ましくは ＨＮＲ^１_２−ｎＲ^２_ｎ （１） で示される。 （もっと読む）

【課題】放射線感度、現像マージンが高く、耐熱性、耐溶剤性、低誘電性、光線透過率、耐光性、耐ドライエッチング性が優れた層間絶縁膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］ヒンダードアミン構造及び／又はヒンダードフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂、並びに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。［Ａ］成分は、好ましくは、（ａ１）不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物から選ばれる１種以上を含む単量体、並びに（ａ２）ヒンダードアミン及び／またはヒンダードフェノール構造を含むアクリル酸エステル単位、（ａ１）及び（ａ２）の化合物に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体から得られる共重合体であってよい。 （もっと読む）

【課題】薄肉射出充填が可能で高発泡倍率であるがために、軽量性に優れ、表面外観良好な射出発泡成形体を得ることが出来る、射出発泡成形用ポリプロピレン系樹脂組成物および該樹脂組成物からなる射出発泡成形体を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｃ）を含んでなる射出発泡成形用ポリプロピレン系樹脂組成物。（Ａ）歪硬化性を示し、かつメルトテンションが１ｃＮ以上５ｃＮ以下であるポリプロピレン系樹脂、（Ｂ）膨張開始温度が１９０℃以下、最大膨張温度が２１０℃以上である熱膨張性マイクロカプセル、（Ｃ）化学発泡剤および／または物理発泡剤。 （もっと読む）

【課題】過酷な高温・高湿環境下でも十分な伝送性能を長期にわたって維持することができる耐熱性プラスチック光ファイバーを提供する。
【解決手段】芯部と鞘部とによって構成される耐熱性プラスチック光ファイバーである。芯部は、脂環族ポリオレフィン樹脂を含有し、かつガラス転移温度が１５０℃以上である樹脂にて形成される。鞘部は、芯部を形成する樹脂に、屈折率調整剤としての非晶質フッ素樹脂を、鞘部の屈折率が芯部の屈折率よりも低くなるような量で含有させた組成物にて形成される。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性、引張特性を備えたフィルムを製造するのに適した環状オレフィン系樹脂及び当該環状オレフィン系樹脂を用いたフィルムを提供する。
【解決手段】ガラス転移点が、１５０℃以上であり、環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位の割合が、５０ｍｏｌ％から８０ｍｏｌ％であり、非環式オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位の割合が、２０ｍｏｌ％から５０ｍｏｌ％であり、環状オレフィン系成分中における、前記環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位が二量体として存在する割合が、３０ｍｏｌ％以上であり、二量体において、メソ型二連鎖部位とラセモ型二連鎖部位との比（メソ型二連鎖部位／ラセモ型二連鎖部位）が１０以上であり、環状オレフィン系成分中における環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位が三量体として存在する割合が１５ｍｏｌ％以下である環状オレフィン系樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【課題】耐光性や透明性などに優れ、青紫レーザー光源使用時における光学特性の劣化が抑制された成形体を得ることのできる重合体組成物、該重合体組成物を成形して得られる光学部品等の成形体、および光学部品を使用した光ピックアップ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体を含有する重合体組成物であって、上記重合体組成物の鉄原子の含有量が１００ｐｐｂ以下である、重合体組成物、該重合体組成物を成形して得られる光学部品等の成形体、および光学部品を使用した光ピックアップ装置を提供する。 （もっと読む）