【課題】核酸合成の固相合成用担体として有用な多孔質樹脂ビーズを提供すること。
【解決手段】第一の芳香族モノビニル化合物−ジビニル化合物−（メタ）アクリロニトリル−第二の芳香族モノビニル化合物系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズであって、第二の芳香族モノビニル化合物が、脱水縮合反応によりカルボキシル基と結合し得る基を含有し、かつ膨潤体積が３〜６ｍＬ／ｇであることを特徴とする、多孔質樹脂ビーズ。 （もっと読む）

【課題】優れたセメント分散性能を有するとともに、セメントおよびセメント組成物の凝固時間を短縮できる、オキシカルボン酸類あるいは糖類、スルホン酸系分散剤、ポリカルボン酸系分散剤からなるセメント混和剤及びこれを用いたセメント組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数が２〜８のアルケニル基を有するポリカルボン酸系分散剤（Ａ）、スルホン酸系分散剤（Ｂ）、オキシカルボン酸類あるいは糖類（Ｃ）からなるセメント混和剤であって、（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）の含有割合が、５〜９０重量％：５〜９０重量％：１〜９０重量％（ただし、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＝１００重量％）を含有することを特徴とするセメント混和剤。 （もっと読む）

本発明は、部分的または完全に塩化された強酸機能を有する少なくとも１種のモノマーの、少なくとも１種の中性モノマーおよび式（Ｉ）を有する少なくとも１種のモノマーとの、分枝または架橋されたアニオン性高分子電解質に関する。
【化１】


ここで、Ｒは８〜２０個の炭素原子を含む線状または分枝アルキルラジカルを表し、ｎは１以上２０以下の数を表す。また、本発明は局所組成物中の増粘剤としてのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための含フッ素単量体、及び、該含フッ素単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】相当するフッ素アルコール化合物をエステル化して得られる一般式（５）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ^１はＨ、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、この時、−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれＨ、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、Ｒ^５はＨ、Ｆ、−ＣＨ_３又は−ＣＦ_３を示す。） （もっと読む）

少なくとも１つの（例えば、フリーラジカル）重合性イオン液体と、少なくとも１つの他のエチレン性不飽和モノマー、オリゴマー又はポリマーと、の混合物を含む硬化性組成物が、本明細書で記載される。重合性イオン液体は、少なくとも０．７０の窒素に対する空気の硬化発熱比率を有するものとして特徴付けられる。このような硬化性組成物からの物品及び物品製造方法もまた記載される。非重合性置換イミダゾリウムカチオン性基と、重合性スルホン酸アニオンと、を含む、一官能性重合性イオン液体もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、インク組成物、コーティング組成物、接着剤用組成物、ナノインプリント用組成物、光造形材料用組成物等に利用可能なカチオン重合性組成物を提供することである。
【解決手段】塩基性の窒素含有化合物および塩基性を発現する窒素含有化合物からなる群から選択される１種以上の窒素含有化合物と、ビニルエーテルと、酸発生剤とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物が、硬化時の重合熱による着色が抑制され、硬化後の加熱や経時による着色が抑制されることを見出した。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料。 （もっと読む）

モノエチレン性不飽和水溶性表面活性モノマー（ａ）、ならびにモノマー（ａ）とは異なる、モノエチレン性不飽和親水性モノマー（ｂ）を含有する、疎水性で会合性の水溶性コポリマー。前記コポリマーは、非重合性の界面活性剤の存在下で製造され、かつ水性系中での顕著な増粘作用を有する。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性を有する硬化性環状ホスファゼン系化合物およびこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】６つの置換位置を持っている環状ホスファゼン物質に２〜６つの硬化性反応基を導入し、残りの位置に様々な構造の置換基を導入する方法で硬化度や分子の分極化および自由体積などを調節することにより、低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性および界面接着力を有する物質を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は溶解速度調整剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有していてもよい触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法に関する。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ポリマーを有する銀ナノワイヤーの化合物を提供する。
【解決手段】ポリマーを有する銀ナノワイヤーの化合物であって、樹脂と、樹脂と共重合し得る分散剤（該分散剤は複数の分散剤モノマーを含み、各複数の分散剤モノマーは、それぞれ少なくとも１個のキレート性官能基を有する）と、複数のキレート性官能基のそれぞれと結合し、樹脂中に分散する、複数の銀ナノワイヤーを含む化合物であり、前記樹脂が、アルファウレタンアクリレート及び２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレートエステルからなるポリマーを含むと好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＣＯＯ⁻構造を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤またはその前駆体として有用な新規な化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^Ｘはヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり；Ｒ^１は２価の連結基であり；Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり；ｎは１〜３の整数であり；Ｚはｎ価の有機カチオン（ただし、アミンイオンおよび第４級アンモニウムイオンを除く。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】
電子情報分野の部材を形成するレジスト用のバインダー樹脂として好適な、感光性、アルカリに対する現像速度、耐溶剤性能やパターン形状、密着性に優れた新規な共重合体を提供する。また、該樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いて高品質のカラーフィルター部位を歩留まりよく形成する。
【解決手段】
イタコン酸とアクリル酸エステルモノマーを含むモノマーを共重合して得られる共重合体をバインダー樹脂として用いる。また、該樹脂、ラジカル重合性化合物、光開始剤、及び溶剤を必須成分として含む感光性樹脂組成物を、カラーフィルター用レジストとして用いる。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】水溶液による現像が可能で、且つ、めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物を提供すること。また、基板との密着性に優れた金属パターンを、水溶液による現像を用いて簡易に形成しうる金属パターン材料の作製方法、及び、被めっき組成物に有用な新規ポリマーを提供する。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基、ラジカル重合性基、及びイオン性極性基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物、及び、これを用いた金属パターン材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）

【課題】本発明は、長期に渡って優れた防汚性が維持され、塗膜表面の崩落現象、クラッキングやフレーキングの発生等の現象を抑制でき、かつ、長期貯蔵時の安定性に優れた防汚塗料組成物に適した共重合体及び該共重合体を含む防汚塗料組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される有機ケイ素含有単量体から選択される少なくとも１種の単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜７０重量％、（ｂ）一般式（２）で表される有機ケイ素含有単量体から選択される少なくとも１種の単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜７０重量％、及び（ｃ）単量体（ａ）及び単量体（ｂ）以外の重合性単量体を、単量体（ａ）〜（ｃ）の合計量に対して１〜９８重量％
からなる単量体組成物を重合して得られる共重合体である。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、ラクトンがフェノールにおけるＯＨ基の水素と置換された基と酸脱離基とを含むポリマーを有する化学増幅型レジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。その後、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】従来のアクリル系高分子化合物よりもさらに使用感に優れ、水分保持能が向上し、皮膚外用剤や化粧料に配合した場合には、該皮膚外用剤や化粧料に保湿性を付与する親水性高分子化合物を提供すること。
【解決手段】１又は２以上の重合性単量体化したピログルタミン酸と別の重合性含窒素単量体とを共重合させることにより得ることができる、水又は水アルコール溶液に可溶であり、水又は水アルコール溶液に溶解した場合には膨潤するという性質を有する親水性高分子化合物。 （もっと読む）