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Fターム[4J100BA30]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | N含有基 (5,481) | −NHR基 (228)

Fターム[4J100BA30]に分類される特許

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【課題】有機半導体デバイスの材料とするための、酸化されにくく、材料の劣化に問題がなく、また塗膜の均一性に問題のないアルキル基を有するペンタセン化合物を提供する。
【解決手段】下記に示すジイン構造化合物。
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【課題】レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いレーザー彫刻用樹脂組成物を提供すること。また、彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能な画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法により得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】(A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合を有する多官能重合性化合物、及び、(B)バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物、それを用いた画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、並びにレリーフ印刷版の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 重合反応中に発生する粗大凝集物の発生が極めて少なく、かつ、重合反応系外からの過大な加熱を必要とせず、省エネルギー性に優れた効率のよい紙塗工用重合体ラテックスを提供すること。
の提供。
【解決手段】 脂肪族共役ジエン20〜60重量%、シアン化ビニル5〜30重量%、エチレン系不飽和カルボン酸単量体1〜10重量%およびそれらと共重合可能な他の単量体0〜74重量%からなる重合性単量体合計100重量部を乳化重合して得られる共重合体ラテックスであって、単量体の一部または全量を仕込み完了後、重合系内の温度T1が0〜45℃の範囲で重合を開始した後、重合系内の温度T2を55〜100℃の範囲に到達させるに際し、その温度上昇(T2−T1)に必要な熱量の15%以上を重合による重合熱を利用して昇温させる紙塗工用共重合体ラテックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】固相抽出及びクロマトグラフィー用の新規な多孔質樹脂、及び該樹脂による溶質を単離又は除去するために溶液を処理する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの疎水性成分、少なくとも1つの親水性成分及び少なくとも1つのイオン交換官能基を含む多孔質樹脂。疎水性成分としてはジビニルベンゼン、親水性成分としてNービニルピロリドン、イオン交換官能基としてはスルホン基が好ましい。溶液を処理する方法は、溶質を有する溶液を該多孔質樹脂と、溶質が該多孔質樹脂に収着するような条件下で接触させることを含む。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率と優れた機械強度を有し、面性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物(塗布液)を提供すること。さらには該膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜及び該絶縁膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】(A)下記式(1)で表されるモノマー単位を含み、重量平均分子量が1,500以上である重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物。


式(1)中、XはO、S又はCH2を表し、Rはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基又はトリアリールシリル基を表し、Rはさらに置換基を有していてもよく、互いに結合して環構造を形成してもよい。nは0〜4の整数を表す。 (もっと読む)


【課題】耐熱性が高く、特に長時間高温化に置かれても、伸びなどの物性が低下し難いアクリルゴム架橋物を与えることができるアクリルゴムおよび架橋性アクリルゴム組成物を提供する。
【解決手段】特定のジフェニルアミン構造含有単量体単位0.01〜5重量%、アクリル酸アルキルエステル単量体単位および/またはアクリル酸アルコキシアルキルエステル単量体単位80〜99.49重量%、架橋剤により架橋可能な基を有するエチレン性不飽和単量体単位0.5〜5重量%並びにその他のエチレン性不飽和単量体単位0〜10重量%からなるアクリルゴムを用いて、架橋性アクリルゴム組成物を構成する。 (もっと読む)


【課題】表面平滑性、非タック性(表面ベトツキ抑制)、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して得られるオーバープリント、及び、その製造方法を提供すること。
【解決手段】消臭能を有する化合物、重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用したオーバープリント、及び、その製造方法。 (もっと読む)


【課題】現像処理後の残色率を高め、パターニング後の熱処理に伴なう熱ダレによる形状変化を抑制する。
【解決手段】(A)有機溶剤可溶性染料と、(B)光重合開始剤と、(C)アミン構造を含む光重合性化合物と、(D)前記(C)アミン構造を含む光重合性化合物と異なる光重合性化合物と、(E)有機溶剤とを含む染料含有ネガ型硬化性組成物である。光重合性化合物のアミン構造は、3級アミン構造が好ましい。 (もっと読む)


【課題】 粒子の均一分散の長期安定性に有用な成分である樹脂組成物及びそれを用いた分散剤を提供する。
【解決手段】 下記(イ)〜(ハ)の特徴を有する共重合体を含有する樹脂組成物。
(イ)アミノ基を有するモノマー(A)、該モノマー(A)を除くモノマー(B)とを含む共重合体。
(ロ)5%溶液時の全光線透過率95%以上、且つ500nmでの透過率95%以上。
(ハ)分子量分布1.0〜2.0。 (もっと読む)


式(I)[式中、Rは、1〜12個の炭素を有し、かつ酸素、窒素および硫黄から選択される1もしくは複数のヘテロ原子を有していてよい]の官能基を有する化合物、オリゴマーまたはポリマーは、基(I)と反応性の活性水素官能基を有する硬化性組成物中で有用である。式(I)の官能基および活性水素官能基は、同一の材料の一部であってもよいし、異なった材料の一部であってもよい。実施態様次第では充填剤が表面変性により式(I)の官能基を有する。式(I)の官能基を有する材料の製造方法も開示する。
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【課題】低い屈折率を有し、スィングカーブがなだらかであり、スィング比が小さい上面反射防止膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】親水性基を含んでなるアントラセン骨格含有化合物と溶媒とを含んでなる上面反射防止膜形成用組成物。この組成物はレジスト膜上に反射防止膜を形成させ、160〜260nmの光を用いてパターンを形成させるフォトリソグラフィーに用いられる。 (もっと読む)


【課題】偏光子の少なくとも片面に、接着剤層、複屈折層および透明保護フィルムをこの順で有する偏光板であって、当該偏光板を液晶パネルに適用した場合にも表示ムラを小さく抑えることができる、偏光板を提供すること。
【解決手段】偏光子の少なくとも片面に、接着剤層、複屈折層および透明保護フィルムをこの順で有する偏光板であって、前記複屈折層は、nx≧ny>nz(但し、面内屈折率が最大となる方向をX軸、X軸に垂直な方向をY軸、厚さ方向をZ軸とし、それぞれの軸方向の屈折率をnx、ny、nzとする)の関係を満足し、かつ、前記透明保護フィルムは不飽和カルボン酸アルキルエステル単位およびグルタル酸無水物単位を有する(メタ)アクリル系樹脂を含有することを特徴とする偏光板。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、透明保護フィルムが等方性に優れ、さらに、クニックの発生が抑制された偏光板を提供することである。
【解決手段】 本発明の偏光板1は、透明保護フィルム2と、偏光子3と、複屈折層4とが、この順で積層されており、前記透明保護フィルム2が、グルタル酸無水物構造を有する(メタ)アクリル系樹脂を含み、前記透明保護フィルム2と偏光子3が、金属化合物コロイドが含有されたポリビニルアルコール系接着剤5を用いて貼り合わされている。 (もっと読む)


【課題】分子量分布が狭く、高変性率(1級アミノ基の導入率)のアミノ基含有共役ジエン重合体を得ることが可能なアミノ基含有共役ジエン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】1,3−ビス(ジフェニルエテニル)ベンゼン又はその誘導体と、所定の有機リチウム化合物の反応生成物の存在下で共役ジエン化合物を重合させて、共役ジエン重合体を得る工程、及び得られた共役ジエン重合体と、所定の変性剤を反応させる工程を有するアミノ基含有共役ジエン重合体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】硬化性に優れ、高屈折率性、帯電防止性、ハードコート性、透明性、塗工性および耐薬品性にすぐれた硬化性組成物、およびそれを用いた硬化膜とその積層体を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が5〜100nmの酸化ケイ素(A)と、
平均一次粒子径が5〜100nmの金属酸化物(B)(酸化ケイ素を除く)と、
アクリレート化合物またはメタクリレート化合物に第一級アミンまたは第二級アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物(C)と、
有機ケイ素化合物(D)とを含む硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】 不溶分が無く、透明性に優れ、黄色度の低いスチレン系共重合体が得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】 特定の構造単位を有するスチレン系共重合体の製造方法であって、
スチレンおよびα−メチルスチレンから選ばれる少なくとも一種と、下記式(4)で表される単量体(4)とを、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、またはアニオン重合開始剤の存在下で共重合反応させた後、酸の存在下で単量体(4)に由来する構造単位中の−OR14で表される基を−OH基に変換し、その後、塩基性物質を添加して系内の酸と反応させる工程を含むことを特徴とする、スチレン系共重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガムチェーファーの耐破壊性とリム滑り性とを高度にバランスした重荷重用タイヤを提供すること。
【解決手段】ゴム成分と充填材を含有し、かつ前記ゴム成分が、アミン系官能基変性スチレン−ブタジエン共重合体を10〜100質量%と天然ゴムとを含むゴム組成物をガムチェーファーに用いたことを特徴とする重荷重用タイヤである。 (もっと読む)


【課題】低発熱性及び耐摩耗性に優れた加硫ゴムを提供することができる変性共役ジエン系重合体を得ることが可能な変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系化合物を、少なくとも一つの3族元素を含有するメタロセン型錯体または少なくとも一つの3族元素を含有するビス(フォスフィノフェニル)アミド型錯体を含む重合触媒組成物の存在下で重合させ、シス−1,4−結合含量が75%以上である共役ジエン系重合体を得、得られた共役ジエン系重合体に所定の化合物(α)を反応させて一次変性重合体を得、得られた一次変性重合体に所定の化合物(β)を反応させる変性共役ジエン系重合体の製造方法。 (もっと読む)


(a)1種以上のエステル化アミノアルコールモノマー、及び、(b)1種以上のバイオメディカルデバイス形成性モノマーを含むモノマー混合物の重合生成物から形成されるバイオメディカルデバイスがここに提供される。上記のモノマーは一般式XNR(式中、Xは重合可能なエチレン系不飽和有機エステル含有基であり、Rは水素であるか、又は、ヒドロキシル基で場合により置換されていてよいC〜C30非重合性ヒドロカルビル基であり、Rはヒドロキシル基を含有する非重合性基である)を有する。 (もっと読む)


【課題】粘弾性特性を維持しながら、生産性を損なわず、十分な薄暗さを有するアクリル系粘弾性体層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアクリル系粘弾性体層の製造方法は、活性エネルギー線によって開裂する光重合開始剤を用いる光重合反応と、酸化剤及び還元剤の作用によるレドックス重合反応とを併用して、着色物質を含有させたアクリル系モノマー組成物又はその部分重合組成物を重合に付すことを特徴とする。活性エネルギー線によって開裂する光重合開始剤を用いる光重合反応と、酸化剤及び還元剤の作用によるレドックス重合反応との併用は、活性エネルギー線によって開裂する光重合開始剤、酸化剤、還元剤及び着色物質を含むアクリル系モノマー組成物又はその部分重合組成物に活性エネルギー線を照射して、光重合反応とレドックス重合反応とをともに進行させることであってもよい。 (もっと読む)


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