【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＣＯＯ⁻構造を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】イオン交換樹脂用のモノマー、および、該モノマーから得られるイオン交換ポリマーに関するものであり、特に、フューエルセル、アルカリクロリドプロセスのような電気化学用途、並びに、有機化学における不均一触媒のような膜に結合したアニオン中心の解離に関連したカチオンイオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】一般式〔Ｔ−ＳＯ2−Ｙ−ＳＯ2Ｔ’〕-Ｍ+（式中、ＴおよびＴ’は同一であるかまたは異なり、不飽和基または開環可能な環のような重合活性官能基を少なくとも１つ有する有機基、Ｍ+はカチオン、ＹはＮまたはＣＱ、ＱはＨ、ＣＮ、Ｆ、ＳＯ2Ｒ3、Ｃ1-20アルキル、Ｃ1-20アリール、Ｃ1-20アルキレン、置換基は１以上のハロゲン、そして、鎖は１以上の置換基Ｆ、ＳＯ2Ｒ、アザ、オキサ、チアまたはジオキサチアを含み、そして、Ｒ3は特定の置換基）の二官能性モノマー、およびこれから誘導されるポリマー。 （もっと読む）

【課題】従来の生分解性を有する吸水性樹脂粒子の吸水性能が著しく劣るという問題点を解決し、吸水性能に優れ、かつ生分解性に優れた吸水性樹脂粒子を提供する。
【解決手段】水溶性ビニルモノマー（ａ）及び内部架橋剤（ｂ）を必須構成単位として重合により得られる架橋重合体を含み、かつ、架橋重合体が主鎖にエーテル結合を含んでなる吸水性樹脂粒子。架橋重合体が、水溶性ビニルモノマー（ａ）、内部架橋剤（ｂ）並びに３，３−ジシアノプロピルビニルエーテル（ＤＣＰＶＥ）及び／又は２−チオシアナトエチルビニルエーテル（ＴＣＥＶＥ）を必須構成単位とする架橋重合体であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

構造Ｉ：に従って提供されるポリマーであって、ここでＹは、以下の部分：のうちの１種以上から選択されるチオール反応性基であり、Ｚは、以下の部分：のうちの１種以上から選択されるイオン生成基であるポリマー。ポリマー基質の表面は、上記表面と、構造ＩＩもしくは構造ＩＩＩに従うポリマー：とを接触させ、上記表面を紫外線に曝すことによって、改変される。本発明は、ポリマー材料の表面（特に、ポリウレタン基材を含む）を改変して、上記基材表面上におけるその後の自己内皮播種を促進するための方法および組成物を提供する。
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【課題】圧電性や焦電性を持つ有機圧電材料として、特に、配向性が高く、かつ熱的に安定な有機圧電材料及びそれを用いた超音波探触子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を、少なくとも１種類以上含む化合物を含有し、かつそのガラス転移温度が１００℃以上、１３０℃以下であることを特徴とする有機圧電材料。


〔式中、Ｑは高分子主鎖を表す。Ａ_１はアルキレン基、オキシアルキレン基を表し、Ａ_１、Ａ_２はメソゲン基を表す。Ｙはウレア基、チオウレア基、ウレタン基、チオウレタン基、アミド基、チオアミド基、カーボネート基、スルホンアミド基、スルホンジアミド基から選ばれる２価の連結基を表す。Ｚは、炭素数１〜２５の脂肪族基、芳香族基及び複素環基から選ばれる基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 工業的に安価で簡便な新規なトリチオカーボネート化合物の製法を提供すること。
【解決方法】 一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物とする。式（１）中、Ｒが、置換基を有していてもよく、その炭素鎖中にヘテロ原子又は環構造を含有していてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。ジチオールを塩基性条件下で二硫化炭素と反応させたのち、アリルハイラドと反応させることにより、一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物を製造することができる。
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【課題】優れた水分散性を有するジチオカルバメート基を有する高分子化合物と金属イオンの複合体、及びこれらと機能性色素との機能性複合体を提供すること。
【解決手段】本発明は、ジチオカルバメート基を有する高分子化合物のジチオカルバメート基に金属イオン又は銀微粒子を付着もしくは結合する構造の複合体、及び金属イオン又は銀微粒子を含む前記複合体が機能性色素を包接する構造をなす機能性複合体に関する。 （もっと読む）

【課題】酸・酸塩型基を有するポリマーからなり、基材に塗布又は多孔質材料に含浸したのち架橋することにより機械特性に優れ水分量による寸法変化の小さい架橋体を製造することができる液状組成物を提供する。
【解決手段】液状媒体と、架橋性官能基を有する架橋性含フッ素ポリマーとからなる含フッ素ポリマー液（Ａ）からなる含フッ素ポリマー液状組成物であって、上記含フッ素ポリマー液（Ａ）は、酸・酸塩型基、若しくは、加水分解してカルボキシル基に変換する有機基を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＤ）からなる粒子が液状分散媒に分散している含フッ素ポリマー液状分散液（ＡＤ）、又は、酸・酸塩型基若しくは酸・酸塩型基の前駆体を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＳ）がフッ素系溶剤若しくはアルコール／水混合溶剤に溶解してなる含フッ素ポリマー溶液（ＡＳ）であることを特徴とする含フッ素ポリマー液状組成物である。 （もっと読む）

【課題】高温で長時間の処理を行わないで架橋され、表面接着性に優れた絶縁層を形成可能な有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ウレア結合もしくはウレタン結合を介して結合した感光性基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、（Ｂ）硬化剤と、（Ｃ）有機溶剤とを含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物である。有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物をオーバーコート層に用いることを特徴とした有機薄膜トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】共重合体の主鎖には光酸発生剤が連結している。これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。 （もっと読む）

基質表面上にナノ粒子を有する基質を含んでいる細胞培養物品であって、ナノ粒子はここに定義される化学式（Ｉ）の重合体を含んでいる。バイオセンサ物品又は細胞培養物品を作るための方法及びバイオセンサ物品でリガンドのアッセイを実行するための方法も開示される。
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【課題】ラインエッジラフネスを低くし、ガス発生量を減らし、高い感度や高い熱安定性などの特性を有する化学増幅型レジスト組成物とそれに用いられる光酸発生剤を含有した新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】化学式１で表される化合物。


（化学式１） （もっと読む）

【課題】電極の腐食を防止し安定的に膨潤・収縮を繰り返す高分子ゲル含有組成物、該高分子ゲル含有組成物を用いた調光デバイス及び調光方法の提供。
【解決手段】本発明の高分子ゲル含有組成物は、２０℃における比誘電率εが５より低い溶媒と、電圧駆動で体積変化するイオン性高分子ゲルとを含有する。好適な前記イオン性高分子ゲルは疎水性基とイオン性基を有し、該イオン性基は電荷が非局在化していることが望ましく、更にイオン性高分子ゲルは親水性基を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】新たなジエン重合体を提供する。
【解決手段】本発明に係る重合体は、トレオジアイソタクチックトライアッドが７０モル％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性を維持しつつ、さらに低温時の防振特性を改良した防振ゴム材およびこれを用いた自動車用エンジンマウントを提供する。
【解決手段】
２−クロロ−１，３−ブタジエンと２−メチル−１，３−ブタジエンの共重合体を主成分とする防振ゴム材。共重合体に含有される２−メチル−１，３−ブタジエンの共重合量が１〜４６ｍｏｌ％であることが好ましく、さらに、２，３−ジクロロ−１，３―ブタジエンを１５ｍｏｌ％以下の範囲で共重合させたものであることが好ましい。配合剤として、チオウレア系加硫促進剤、イミダゾール化合物を採用することにより、より好適な防振ゴム材を提供する。防振ゴム材は、加硫させることにより加硫ゴムとすることができ、加硫ゴムは、防振ゴム材、特に自動車用エンジンマウントとして利用することができる。 （もっと読む）

【課題】ガソリン透過性が小さく、耐サワーガソリン性および耐寒性に優れたニトリル共重合体ゴム架橋物を与えるゴム組成物、および該ゴム組成物を与えるラテックス組成物を提供すること。
【解決手段】α，β−エチレン性不飽和ニトリル単量体単位１０〜７５重量％、共役ジエン単位５〜８９．９重量％、ならびに、カチオン性単量体単位および／またはカチオンを形成可能な単量体単位０．１〜２０重量％、を有するニトリル共重合体ゴム（Ａ）のラテックスと、アスペクト比が３０〜２，０００である無機充填剤（Ｂ）と、カップリング剤（Ｃ）と、を含有し、前記ニトリル共重合体ゴム（Ａ）１００重量部に対する、前記カップリング剤（Ｃ）の含有量が、０．１〜２０重量部であるニトリル共重合体ラテックス組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスと微細パターンまで倒れないポジ型レジスト組成物及び該組成物に用いる新規なスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉｂ）で示される構造単位を有する重合体化合物。
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【解決すべき課題】アリールボレート化合物と酸性化合物との組み合わせを用いる歯科用化学重合触媒において、重合活性のみならず、保存安定性にも優れた化学重合触媒を提供する。
【解決手段】（Ａ）アリールボレート化合物；（Ｂ）酸性化合物；（Ｃ）＋IV価または＋Ｖ価のバナジウム化合物；（Ｄ）下記一般式（１）：
【化２２】


式中、Ｘ^１，Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ、水素原子、または、水酸基、アル
コキシ基及びアルキル基からなる群より選択された置換基である、
で表されるフェノール系化合物；からなることを特徴とする。 （もっと読む）