光酸発生剤を含むレジスト用共重合体及びその製造方法を提供する。ＡＦＭリソグラフィー用レジストまたは電子線リソグラフィー用レジストとして使うことができる共重合体及びその製造方法であって、有機溶媒に対する溶解性と塗布性とに優れ、リソグラフィー工程でさらに向上したパターン形成が可能なフルオロアルキルスルホ二ウム塩の光酸発生剤を含む共重合体及びその製造方法である。
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【課題】親水性及び生体適合性の高い高分子材料の製造に有用な新規重合性化合物、及び該重合性化合物を重合して製造されるポリマーの提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される化合物：


（式中、Ｒ¹⁰は水素原子又はメチル基を表し；Ｘは、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−等を表し；Ｒは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基等を表す）及び該化合物を含む重合性化合物を重合して得られるポリマー。 （もっと読む）

【課題】単環性または二環性の化合物よりもさらに高い耐熱性、高屈折率を有する三環性の化合物を含有し、光又は熱エネルギーにより容易に重合させることのできる重合性組成物を提供する。
【解決手段】９，１０−ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシ）−１，４−ジヒドロアントラセン化合物及びラジカル重合開始剤を含有してなる重合性組成物及び当該組成物を重合して得られる重合物。重合開始剤としては、熱ラジカル重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤を用いることができる。 （もっと読む）

独立して、式（Ｉ）


又は式（ＩＩ）により表される第１の二価単位と、


四級アンモニウム基を含む第２の二価単位と、を有するフッ素化ポリマー。フッ素化ポリマー及び溶媒を含有する組成物、これらの組成物を用いて炭化水素含有地層を処理する方法、及びフッ素化ポリマーで処理された物品を開示する。フッ素化ポリマーを含有する組成物の作製方法も開示する。
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【課題】片末端部位に官能基を有する重合体およびその製造方法、並びに該重合体を含む樹脂添加剤を提供する。
【解決手段】次の（ｉ）〜（ｉｉｉ）を同時に満たす一般式（Ｉ）の二重結合含有重合体と、一般式（ＩＩ）のチオール化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させて得られる末端官能基含有重合体。（ｉ）エチレン単位が８１〜１００ｍｏｌ％、炭素原子数３〜２０のα−オレフィン単位が０〜１９ｍｏｌ％の範囲、（ｉｉ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１〜３．０、且つＭｗが４００〜５０００００の範囲、（ｉｉｉ）末端ビニル基含有率（Ｌ）が５０ｍｏｌ％以上、且つ末端不飽和率（Ｍ）が７０ｍｏｌ％以上。


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【課題】フォトレジスト用として用いた場合に優れた酸脱離性を示す高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示し、Ｒ^bは１位に水素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ^cは水素原子又は炭化水素基を示し、Ｒ^dは環式骨格を含む有機基を示す）で表される不飽和カルボン酸ヘミアセタールエステルに対応する繰り返し単位を含む高分子化合物。この高分子化合物は、さらに、ラクトン骨格含有単量体、環状ケトン骨格含有単量体、酸無水物基含有単量体及びイミド基含有単量体から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位、及び／又はヒドロキシル基含有単量体、メルカプト基含有単量体及びカルボキシル基含有単量体から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、高感度であり、形成されるパターンの基板密着性および耐薬品性に優れ、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸類、（ａ２）チオメタクリル酸Ｓ−（テトラヒドロピラン−２−イル）エステルに代表される特定の化合物および（ａ３）不飽和オキシラニル化合物類の共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】低い加熱処理温度でも諸特性を満足するマイクロレンズを形成することができ、且つドライフィルムを作成した後の保存安定性にも優れる感放射線性ドライフィルムを提供すること。
【解決手段】感放射線性ドライフィルムは、ベースフィルム、ベースフィルム上に積層された（Ａ）アルカリ可溶性重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤および（Ｄ）オキシラニル基、エピスルフィド基またはオキセタニル基を有する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物層、並びに感放射線性樹脂組成物層上に積層されたカバーフィルムからなり、前記（Ａ）アルカリ可溶性重合体として、（ａ１）酸性官能基を有する重合性不飽和化合物と、（ａ２）チオメタクリル酸Ｓ−（テトラヒドロピラン−２−イル）エステルに代表される特定の化合物を含有してなる重合性不飽和化合物の共重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】新たなジエン重合体を提供する。
【解決手段】本発明に係る重合体は、トレオジアイソタクチックトライアッドが７０モル％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。また、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、この着色パターンを有するカラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、及びこのカラーフィルタを備える液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む共重合体を含有する着色硬化性組成物（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ）−を表し、ｍ１は０〜１８の整数を表し、ｎ１は１〜１８の整数を表す。ここで、Ｒは、水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）。
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【課題】硬化物のヤング率が低く、柔軟性に優れ、特に光ファイバのプライマリ材として有用な液状硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）並びに（Ｃ）：
（Ａ）ポリエーテルジオール化合物、ジイソシアネート化合物および水酸基含有（メタ）アクリレート化合物にそれぞれ由来する構成単位を有し、該ポリエーテルジオール化合物に由来する構造単位を２〜５個有するウレタン（メタ）アクリレートである、次の（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を含むウレタン（メタ）アクリレート ６０〜８５質量％、
（Ａ１）２個の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレート
成分（Ａ）中４０〜６０質量％、
（Ａ２）１個の（メタ）アクリロイル基および１個の−ＮＨＣＯＯＲ¹で表される構造を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ｒ¹は、炭素数１〜３のアルキル基である。）
成分（Ａ）中２０〜３５質量％、
（Ａ３）１個の（メタ）アクリロイル基および１個の−ＮＨＣＯＳＲ²で表される構造を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ｒ²は、トリアルキルシリル構造を有する１価の基である。） 成分（Ａ）中５〜１０質量％、
（Ｂ）重合性不飽和単量体 １０〜３０質量％、
（Ｃ）重合開始剤 ０．０１〜５質量％
を含有する液状硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光学補償フィルムの面状を改良、輝点欠陥を低減することにより、品質特性の優れた光学補償フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明支持体１０上に、密着性付与処理を施した後、配向膜形成用組成物１６を塗布して配向膜１８を形成し、その上に液晶性化合物を含む液晶性化合物を塗布して光学異方層２０を形成して成る光学補償フィルムの製造方法において、前記配向膜形成用組成物１６を含有する塗布液の固形分濃度が０．５〜２．０質量％であることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 不溶分が無く、透明性に優れ、黄色度の低いスチレン系共重合体が得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】 特定の構造単位を有するスチレン系共重合体の製造方法であって、
スチレンおよびα−メチルスチレンから選ばれる少なくとも一種と、下記式（４）で表される単量体（４）とを、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、またはアニオン重合開始剤の存在下で共重合反応させた後、酸の存在下で単量体（４）に由来する構造単位中の−OR¹⁴で表される基を−OH基に変換し、その後、塩基性物質を添加して系内の酸と反応させる工程を含むことを特徴とする、スチレン系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】主鎖が複数種類の重合単位からなり、それらの重合単位のそれぞれがシクロペンタン環構造を含み、且つそれらの重合単位がランダムに配列された、耐熱性に優れたランダム共重合体、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下式（１）で表される少なくとも２種類の重合単位を含むランダム共重合体およびその製造方法。


（１） （もっと読む）

【課題】本発明は、難接着性樹脂に対して、優れた接着性および意匠性を有する塗膜となることができる硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）と、（メタ）アクリルアミド系モノマー（ａ２）と、カルボキシ基を有するビニルモノマー（ａ３）とを含む単量体成分を重合させて得られる共重合体（Ａ）と、硬化性樹脂（Ｂ）とを含有し、前記共重合体（Ａ）の重量平均分子量が、１０，０００〜１５０，０００であり、前記硬化性樹脂（Ｂ）が光硬化性アクリル樹脂（Ｂ２）であり、更に、光重合開始剤（Ｄ）を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）熱により分解し分子量が低下する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 基材に対する密着に優れるとともに、耐薬品性、特に耐アルカリ性に優れた硬化物の得られる共重合体を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示す。Ｒ³はイソシアネート基のブロック剤Ｒ³Ｈの残基を示す）
で表されるブロックされたイソシアネート基を有するビニル単量体Ａに対応するモノマー単位と、３〜５員の環状エーテル基を有するビニル単量体Ｂに対応するモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、さらに、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、芳香族ビニル化合物、ヒドロキシル基含有単量体、カルボキシル基含有単量体に対応するモノマー単位を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの４点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアセタール構造を有する繰り返し単位と特定のアセタール構造を有する繰り返し単位とを有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合性基を持つアントラセン化合物を重合可能な組成物として提供すること及びその工業的に有用な重合方法を提供すること並びに光学材料として有用な重合物を提供すること。
【解決手段】少なくとも、ラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物、ジエノフィル及びラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物、及び当該ラジカル重合性組成物においてラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物とジエノフィルを反応させたのちラジカル重合させる重合方法。 （もっと読む）