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Fターム[4J100BA53]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | S含有基 (2,613) | −SR基 (92)

Fターム[4J100BA53]に分類される特許

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【課題】高周波(ギガヘルツ)帯域用途に適した低比誘電率及び低誘電損失の特性を有し、かつ基板を構成する金属材料等に対する接着性を有する熱硬化性樹脂組成物を用いた高性能高周波電子部品分野に適用できる電子部品を提供すること。
【解決手段】ビニルベンジル系化合物とポリカルボジイミド化合物とを含有することにより、高周波(ギガヘルツ)帯域用途に適した低比誘電率及び低誘電損失の特性、及び基板を構成する金属材料に対する接着性を有し、かつ、高周波帯域において伝送特性と長期信頼性に優れる熱硬化性樹脂組成物を用いた高性能高周波電子部品分野に適用できる電子部品である。 (もっと読む)


【課題】 新たなハーフメタロセン触媒及びそれを利用したシンジオタクチックポリスチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】 周期律表3族から10族までの遷移金属の一方にη配位結合を生成するシクロアルカンジエニル基またはその誘導体が結合され、他の一方に複数の結合部位を有しつつ、高い立体障害を有するトリエタノールアミン系やN−アルキルジエタノールアミン系やN−ジアルキルエタノールアミン系の化合物が導入された単核ハーフメタロセン構造を有る新規なメタロセン触媒である。これにより、シンジオタクチック構造に優れたビニル芳香族重合体を高活性で製造できるだけでなく、多様な分子量分布の重合体も製造できる。 (もっと読む)


【課題】経時安定性を有し分散安定性が高く濃厚であり、環境性に優れた金属微粒子分散物、並びに、これを用いた着色組成物、感光性転写材料、並びに、高い黒色の膜またはブラックマトリックスを初めとする遮光画像若しくは薄膜で濃度の高い着色膜をはじめとする画像を有する遮光画像付き基板、また、平坦性に優れ、表示ムラが低いカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】硫黄原子および/または窒素原子を1個以上有するアルカリ可溶性ポリマーと、金属微粒子と、少なくとも1種の有機酸と、を含有することを特徴とする金属微粒子分散物。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、PEB温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(A1)で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】 セレン原子を含む透明光学材料及びプラスチックレンズの提供。
【解決手段】 分子内に少なくとも1個以上のセレン原子を含む透明光学材料及びプラスチックレンズ並びに、分子内に少なくとも1個以上のセレン原子を有する反応性モノマーまたはオリゴマーを少なくとも1種以上含む組成物を注型重合する透明光学材料及びプラスチックレンズの製造方法 (もっと読む)


【課題】レーザー光による描画に適し、適切な明るさの作業環境を達成可能なセーフライト下でスクリーン線数200線以上の高精細AMスクリーンやFMスクリーンが使用可能な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、(A)バインダーポリマー、(B)鉄アレーン錯体化合物、(C)重合可能なエチレン性不飽和結合基含有化合物及び、(D)360〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する増感色素を含有する感光層を有する光重合型感光性平版印刷版において、バインダーポリマー(A)が一般式(1)で表される繰り返し単位を有する重合体であることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版。
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【課題】 放射線の照射に対して高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインク組成物、特にインクジェット記録用インク組成物、並びにそれを用いるインクジェット記録方法及び印刷物を提供する。
【解決手段】 (a)重合性化合物として下記一般式(I)で表されるイタコンイミド化合物、及び(b)重合開始剤、を含有することを特徴とするインク組成物。
【化1】


(式中、R1、R2、R3は各々独立して、水素原子もしくは一価の有機基を表す。) (もっと読む)


本発明は、酸素または硫黄ベース求核試薬のアルキル金属塩の存在下、相間移動触媒、特に臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化トリオクチルメチルアンモニウムを用いた無溶媒条件下での、ブチルエラストマー、特にハロブチルエラストマーの改質に関する。本発明での使用のための好適な求核試薬には、適切な水酸化物塩基での中和によって製造される、第三ブチル酢酸、ステアリン酸、安息香酸、4−(ジメチルアミノ)安息香酸、アントラセン−9−カルボン酸、リノール酸またはそれらの混合物の金属塩が含まれる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、また材料コストが低く抑えられる光導波路および光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体9は、コア部94と、該コア部94より屈折率が低いクラッド部95とを備えるコア層93と、該コア層93の両面に接触して設けられ、前記コア部93より屈折率の低いクラッド層91、92とを有する光導波路90と、光導波路90の両面に設けられた導体層901、902とを有し、前記クラッド層91、92は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている。 (もっと読む)


【課題】
有機物で修飾された基板の表面を高度に平滑とし、メッキ核の吸着サイトを均一に分散し、さらにメッキ浴に対する化学的安定性を高めることによって、ナノレベルで均一な金属皮膜を有する無電解メッキ用基板、無電解メッキされたメッキ基板の提供。
【解決手段】
疎水性の繰り返し単位1と金属ナノ粒子が吸着する機能を有する機能団を含む繰り返し単位2を含有するランダム共重合体の単分子膜が1層以上被覆され、金属ナノ粒子が吸着する機能を有する機能団に吸着した金属ナノ粒子をメッキ核として無電解メッキされたメッキ基板およびその製造方法。
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輝度向上フィルムのために特に有用な重合性組成物。
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【課題】乾燥ムラや風ムラの改善と界面活性剤特にフッ素系界面活性剤転写の低減を両立した界面活性剤(好ましくはフルオロ脂肪族基含有共重合体)を含む塗布組成物を提供する。
【解決手段】フルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位A及び、少なくとも1種のモノマーに相当する繰り返し単位Bを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する塗布組成物において、該繰り返し単位Bのみを重合して得られる重合体のガラス転移点が300K以上である塗布組成物。 (もっと読む)


【課題】 ポリマー鎖にジスルフィド化合物由来の有機官能基を導入する。
【解決手段】 ポリマー(A)を、ラジカル開始剤(B)及び式(I)又は(II):
【化1】


【化2】


で示される化合物(C)を用いて変性させることによって、ポリマー(A)に式(I)又は(II)由来の有機基Xを導入するポリマーの変性方法。 (もっと読む)


【課題】 高周波対応の電子回路基板や電子部品に用いられる電気絶縁材料に適し、ハロゲンを含まない熱硬化性難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ビニルベンジル系化合物を主成分とする熱硬化性樹脂に、一般式(I)で表されるリン酸エステル化合物を配合してなる組成物であって、該組成物中のリン含有量が0.5〜5重量%であることを特徴とする熱硬化性難燃性樹脂組成物。
【化1】
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本化合物はオキセタン官能基及びスチレン官能基を含む。オキセタン官能基はカチオン又はアニオン開環を起こす反応において単独重合でき、スチレン官能基は電子受容体化合物などの化合物で重合できる。二種の官能基を有することにより二種の硬化方法が可能である。この化合物は、下記式の構造を有する(ここで、R1はメチル基又はエチル基であり;R2及びR3はH又はメチル基若しくはエチル基であり;R4は直接結合又は二価の炭化水素基であり;X及びYは独立して直接結合又はエーテル、エステル、アミド若しくはカルバメート基であり、ただしX及びYは共に直接結合とならないことを条件とし;Qは、N、O又はSのヘテロ原子を含んでもよい二価の炭化水素基であり;Gは、−OR1、−SR1、又は−N(R2)(R3)であり、ここで、R1、R2及びR3は上記のとおりである)。
【化1】

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本発明は、特に眼用アプリケーション(ophthalmic applications)及びその生成と使用の方法に有用な新規材料に関する。とりわけ、本発明は眼内レンズ、コンタクトレンズ及び他の眼用インプラントの生産における使用に特に適した、比較的柔軟で、光学的に透明な、折りたたみ可能である高屈折率材料、及びその製造と使用の方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 高い表面平滑性を有し、光学特性が均一なディスコティック液晶性化合物から形成された光学異方性フィルムを提供する。
【解決手段】 支持体上に、ディスコティック液晶性化合物と、フルオロ脂肪族基及びアミド基を有する含フッ素ポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物から形成された光学異方性層、好ましくは、可視光に対してReが10nm以下で、且つRthが60〜250nmである光学異方性層、を少なくとも一層有する光学異方性フィルムである。 (もっと読む)


【課題】 屈折率、特に300nm以下の波長の光源に対する屈折率が高く、かつ解像性にも優れたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 一般式(a0−1)[Rは水素原子または低級アルキル基、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、Zは2価の環式基、Xはカルボニル基、s,t,u,はそれぞれ独立して0または1〜3の整数、vは0または1、wは0または1〜3の整数。]で表される構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を有する(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化1】
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本発明はa)環状オレフィン単量体または環状オレフィン単量体とエチレンを重合させて環状オレフィン高分子溶液を製造する段階と、b)前記環状オレフィン高分子溶液に非溶媒を徐々に滴加する方式で添加して環状オレフィン高分子を沈殿させる段階と、 c)沈殿した環状オレフィン高分子をろ過及び乾燥する段階とを含む環状オレフィン高分子の製造方法及び、これによって製造された環状オレフィン高分子を提供する。本発明の方法は環状オレフィン高分子溶液からバルク密度が高くて球形を有する環状オレフィン高分子を容易に沈殿させて分離することができる。
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【課題】フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用な新規なアダマンタン誘導体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(I−a)で表わされる構造を有するアダマンタン誘導体、及び対応するアダマンタン誘導体を原料として上記アダマンタン誘導体を製造する方法である。


(R1はH、CH3又はCF3、R2aは、ヘテロ原子を有する、C(炭素数)1〜30のアルキル基、又はC3〜30のシクロアルキル基若しくはC6〜30のアリール基を含む炭化水素基、X1及びX2は、それぞれ独立にO又はS、YはC1〜10のアルキル基、ハロゲン原子、OH、SH又は2つのYが一緒になって形成された=O若しくは=S。kは0〜14の整数、m及びnは0〜2の整数。) (もっと読む)


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