【課題】電子デバイスなどの層間膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有する絶縁膜形成用組成物とその製造方法を提供すること。さらには該組成物を用いて得られる電子デバイスの層間絶縁膜および該絶縁膜を層構成層として有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】（１）炭素-炭素三重結合を有する化合物を含む反応液を少なくともラジカル発生剤のラジカル発生温度に加熱する工程と、（２）ラジカル発生剤を含む液体を、該反応液に添加する工程とを含む反応工程によって該化合物を重合させることを特徴とする炭素-炭素三重結合を有する化合物の重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる、誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる組成物を提供する。さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜、および該絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】三重結合及びまたは二重結合を合計で複数個有するトリプチセン誘導体を重合単位として重合した重合体を含有することを特徴とする組成物、該組成物を用いた絶縁膜及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および
（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、エチレン不飽和アルコキシシリル官能性シラン（Ｓ）１００重量部とエチレン不飽和コモノマー（Ｃ）０〜１００重量部の重合によって得られるアルコキシル官能性オリゴマー（Ａ）とその加水分解物および縮合物と、表面にオリゴマー（Ａ）を有するコア・シェル粒子（ＰＡ）と、複合材料（Ｋ）を生成するための粒子（ＰＡ）の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が改善され、液浸露光時に於いて、水に対する追随性、およびラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物に好適に用いることができる樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、−ＣＯＮＨＳＯ₂−基とを有する樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はフェニレン基、−Ｏ−Ｒ⁶−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ⁶−。Ｙは酸素原子又はＮＨ、Ｒ⁶はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。Ｘ^-は少なくとも１個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。）
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】低誘電率であり、面状が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物、該組成物により形成した絶縁膜、及び、該絶縁膜を有する電子デバイス、該膜形成用組成物に含有される重合体および化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物の重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の原子、基または数を表す。
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本発明は、その他のモノマーと共に、複素環式塩基性基を含むモノマーが１０％〜９０重量％共重合されていて、かつビニルピロリドンをモノマー成分として含まないコポリマーの、基材に対する固相ペイント膜の接着性を改良するためのペイント用添加剤としての使用に関する。
本発明はさらに、その他のモノマーと共に、複素環式塩基性基を含むモノマーが１０％〜９０重量％共重合されていて、かつビニルピロリドンをモノマー成分として含まないコポリマーを、基材に対する固相ペイント膜の接着性を改良するための添加剤として含む、硬化および未硬化ポリマー組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】反撥弾性に優れ、よって省燃費性に優れた変性ジエン系重合体ゴム、その製造方法及び該重合体ゴムを用いたゴム組成物を提供する。
【解決手段】炭化水素溶媒中において、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとをアルカリ金属系触媒を用いて重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体に対して、下式（１）を反応させて得られる変性ジエン系重合体ゴム。


（（１）式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は独立に炭素数が１〜８のアルキル基を表し、Ｒ⁵は炭素数が１〜８のアルキル基又は置換基を有してよいフェニル基を表す。）
芳香族ビニルモノマーとしては、得られる重合体の物性、工業的に実施する上での入手性の観点から、スチレンが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 均一にスルホン酸基を導入した固体電解質膜で、その電極接合体を電気化学デバイス及び燃料電池として用いる置換ポリアセチレン電解質膜の製造方法と電解質膜を提供する。
【解決手段】 式（１）で表される繰り返し単位を有する置換ポリアセチレンを膜状に成形し、スルホン化剤に接触させてスルホン化するスルホン酸基を有する置換ポリアセチレン膜の製造方法、及び、該製造方法によって製造され、スルホン酸基の分布が膜厚方向に均一である置換ポリアセチレン膜としたものである。
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【課題】遮光剤の含有割合が多くて光硬化が困難であっても、現像残渣がなく、良好なパターンを広い現像マージンで得ることができるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（A）エポキシ基を２個以上有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有樹脂、（B）3個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、（C）下記式（２）で表されるエチレン性不飽和結合を有するポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート型の光重合性モノマー、(D)光重合開始剤及び(E)遮光性分散顔料を必須成分として含有するブラックレジスト用感光性樹脂組成物。


（２）
（式中、R₁はH又はメチル基、R₂はH、アルキル基、アルキルフェノキシ基又は（メタ）アクリロイル基、ｍ＋ｎ＝4〜15） （もっと読む）

【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そしてｎは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数３から２０を表す］で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。 （もっと読む）

本願は、ペンダント側基を有するポリマーを製造する方法を開示しており、当該方法は、（ｉ）（ａ）保護基で保護されてもよいアジド基、又は（ｂ）保護基で保護されてもよいアルキン基で官能化されるオレフィン性不飽和モノマーを、リビングラジカル重合、最も好ましくはＲＡＦＴ、遷移金属媒介リビングラジカル重合（ＴＭＭ−ＬＲＰ）及び／又は原子移動ラジカル重合によって重合して、ポリマー中間体を生成すること、（ｉｉ）存在する場合には、ポリマー中間体から保護基の総数の少なくとも一部を除去すること、（ｉｉｉ）ポリマー中間体を、（ａ）アルキン基又は（ｂ）アジド基で各々官能化された少なくとも１つのペンダント側基部位と反応させて、アルキン基及びアジド基が反応してペンダント側基をポリマー中間体に結合させることを含む。ペンダント側基は、１つ又は複数の糖、置換若しくは非置換アルキル基、置換若しくは非置換ポリアルキレングリコール基、グリセロール基、リポ多糖基又はリン脂質基であり得る。ペンダント側基を含む担体を製造する方法、並びに当該方法によって調製されるポリマー及び担体も開示されている。 （もっと読む）

【課題】耐候性導電材料などに有用なピペリジル基含有高分子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるピペリジル基含有高分子。


（式中、Ａは、炭化水素基を表し、Ｒ₁は、炭素数２〜１８の炭化水素基又は直接結合を表し、ｎは、１〜１００の数を表す。ｍは、２〜１０００００の数を表す。） （もっと読む）

【課題】誘電率、耐クラック性等の膜特性の観点において優れた絶縁膜、およびそれを用いた電子デバイスを得るための膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】カゴ型構造を有するモノマーからカゴ型構造を有する重合体を製造する際、重合体と反応し得る、熱分解性基を有する化合物を溶媒として用いることを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性に優れた新規なエポキシ基含有重合体及びその製法の提供。
【解決手段】式（ｇ）又は式（ｈ）：


｛式中、R⁹＝エチレン性不飽和基｝で表される化合物のエチレン性不飽和結合部分を重合、又は他の１種以上のエチレン性不飽和結合を持つ化合物と共重合させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、特別な反応試剤を用いることなく簡便なプロセスで経済的に重合体を製造することができると共に、物性を低下させる原子を含有しておらず、かつ、両末端水酸基が１級水酸基のみ或いは１級及び２級水酸基である重合体を調節しながら製造できる、両末端水酸基アクリル酸化合物重合体の製造法を提供すること、更に両末端の水酸基が１級のみ或いは１級及び２級である新規な両末端水酸基アクリル酸化合物重合体を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の課題は、（１）アクリル酸化合物をＯＨラジカルを開始剤としてラジカル重合反応させることを特徴とする両末端に水酸基を有するアクリル酸化合物重合体の製造法、（２）過酸化水素と第一鉄塩をＯＨラジカル発生剤として用いる前記製造法、（３）反応溶媒にアセトニトリルと水の混合溶媒或いはエタノールと水の混合溶媒を用いる前記いずれかの製造法などにより解決される。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる、低誘電率であるとともに、耐熱性、機械的強度に優れた膜、該膜を提供できる膜形成用組成物、該膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】アダマンタン、ビアダマンタン、ジアマンタン、トリマンタン、テトラマンタンのカゴ型構造を有するモノマーの重合体よりなり、ラマン分光測定において、ラマンシフト３００〜３１００ｃｍ^-1の領域において最も強度が高いピークが６９０〜８００ｃｍ^-1に存在する膜、該膜を形成する膜形成用組成物、さらには該膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜を提供できる絶縁膜形成用塗布液、さらには該塗布液を用いて得られる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含有し、該化合物に芳香族炭化水素構造を実質的に含まないことを特徴とする膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて膜を形成した芳香族炭化水素構造を実質的に含まないことを特徴とする絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好であるとともに、経時保存後も良好な膜を提供できる膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに関する。
【解決手段】カゴ型構造を有する化合物を含有する膜形成用組成物であって、該組成物から塗布成膜によって得られる膜のハロゲン含量が１００×１０¹⁰ａｔｏｍ／ｃｍ²以下であることを特徴とする膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに関する。 （もっと読む）