【課題】 不溶分が無く、透明性に優れ、黄色度の低いスチレン系共重合体が得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】 特定の構造単位を有するスチレン系共重合体の製造方法であって、
スチレンおよびα−メチルスチレンから選ばれる少なくとも一種と、下記式（４）で表される単量体（４）とを、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、またはアニオン重合開始剤の存在下で共重合反応させた後、酸の存在下で単量体（４）に由来する構造単位中の−OR¹⁴で表される基を−OH基に変換し、その後、塩基性物質を添加して系内の酸と反応させる工程を含むことを特徴とする、スチレン系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガムチェーファーの耐破壊性とリム滑り性とを高度にバランスした重荷重用タイヤを提供すること。
【解決手段】ゴム成分と充填材を含有し、かつ前記ゴム成分が、アミン系官能基変性スチレン−ブタジエン共重合体を１０〜１００質量％と天然ゴムとを含むゴム組成物をガムチェーファーに用いたことを特徴とする重荷重用タイヤである。 （もっと読む）

【解決すべき課題】アリールボレート化合物と酸性化合物との組み合わせを用いる歯科用化学重合触媒において、重合活性のみならず、保存安定性にも優れた化学重合触媒を提供する。
【解決手段】（Ａ）アリールボレート化合物；（Ｂ）酸性化合物；（Ｃ）＋IV価または＋Ｖ価のバナジウム化合物；（Ｄ）下記一般式（１）：
【化２２】


式中、Ｘ^１，Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ、水素原子、または、水酸基、アル
コキシ基及びアルキル基からなる群より選択された置換基である、
で表されるフェノール系化合物；からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルケニルシランの含有量が高くかつ高分子量のα−オレフィン−アルケニルシラン共重合体を高活性に製造することができる重合触媒、およびこれを用いたα−オレフィン−アルケニルシラン共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】メタロセン錯体［Ａ］と共触媒［Ｂ］とを含むことを特徴とする重合触媒、および、その重合触媒の存在下に、少なくとも一種以上の炭素数２以上のα−オレフィンとアルケニルシランとを共重合させることを特徴とするオレフィン−アルケニルシラン共重合体の製造方法。成分［Ａ］：
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【課題】
高屈折率と高アッベ数とを兼ね備えた光学部品を得ることができる樹脂材料、及びこの樹脂材料を用いて得られる光学レンズ等の光学部品を提供する。
【解決手段】
−Ａ−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）（Ｒ^３）（Ａは単結合等であり、Ｒ^１〜Ｒ^３は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基等である。）で表される含ケイ素基と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、芳香環構造を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ａ）５〜３０重量％と、芳香環構造と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、ケイ素原子を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ｂ）５０〜９０重量％と、これらと共重合可能な重合性単量体（Ｃ）０〜４５重量％とからなる重合性単量体組成物を、少なくとも重合して得られる脂環構造含有重合体、この脂環構造含有重合体、及び無機化合物を含有する脂環構造含有重合体組成物、この組成物を用いて得られる、屈折率が１．５６以上、アッベ数が５０以上、３ｍｍ厚の板での全光線透過率が８５％以上である光学部品。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの（メタ）アクリレート成分と少なくとも１つの（メタ）アクリルアミド成分とを含むランダムプレポリマーを形成するプロセスに関する。より具体的には、本発明はプロセスに関するものであり、このプロセスは、第１の反応速度定数ｋ_１を有する少なくとも１つの（メタ）アクリレート成分を含む第１の反応混合物を提供する工程と、この第１の反応混合物に、反応時間を含む反応条件下で、約０．５ｋ_１未満である第２の反応速度定数ｋ_２を有する少なくとも１つの（メタ）アクリルアミド成分を添加する工程と、を含み、（メタ）アクリレート成分と（メタ）アクリルアミド成分とのうち少なくとも１つがシリコーンを含み、（メタ）アクリレート成分と（メタ）アクリルアミド成分とのうち少なくとも１つが少なくとも１つの親水性成分を含み、少なくとも１つの（メタ）アクリルアミド成分がある反応時間にかけてプレポリマー反応条件下で徐々に添加されてプレポリマーを形成する。
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【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、ＰＥＢ温度依存性が小さく、パターン倒れも少なく、良好なプロファイルを示し、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水樹脂（Ｃ）が重合開始剤とチオール化合物誘導体とを使用して重合することにより得られる疎水性樹脂、および、（Ｄ）溶剤、を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スチレン系共重合体とノルボルネン系重合体からなる組成物であって、優れた相溶性を有して相分離せず、フィルム化が容易であり、かつ、着色がなくより透明性に優れ、加熱による着色を生じにくい樹脂組成物を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（１）および下記式（２）で表される構造単位（２）を有し、色測計を用いて測定した１０重量％トルエン溶液の黄色度（ＹＩ）が５．０以下であるスチレン系共重合体と、（Ｂ）ノルボルネン系重合体とを含有する。
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【課題】 分子量および分子量分布の制御されたポリマーを製造するための環状オレフィン系ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを、触媒存在下、イオン液体中で重合する環状オレフィン系ポリマーの製造方法により達成される。前記イオン液体は、アニオン成分として、イミド結合を有するアニオンを含むものである前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法は、マイクロ波を照射して重合するものである。 （もっと読む）

1種類以上のアミノ・モノマーからなるモノマー単位を含むシリコーン・ヒドロゲル。1種類以上のアミノ・モノマーの例として、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジイソプロピルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジブチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノブチル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノヘキシル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸イソブチルアミノ-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチルアミノ-プロピル、(メタ)アクリル酸イソブチルアミノ-エチル、(メタ)アクリル酸オクチルアミノ-エチル、(メタ)アクリル酸イソヘキシルアミノエチル、(メタ)アクリル酸(N-プロピル-N-メチル)アミノ-エチル、酢酸t-ブチルアミノ-エチルビニル、クロトン酸t-ブチルアミノ-エチル、イソクロトン酸t-ブチルアミノ-エチル、クロトン酸N,N-ジメチルアミノ-エチル、イソクロトン酸N,N-ジエチルアミノ-エチルと、これら化合物それぞれの第四級生成物がある。 （もっと読む）

【課題】主鎖が複数種類の重合単位からなり、それらの重合単位のそれぞれがシクロペンタン環構造を含み、且つそれらの重合単位がランダムに配列された、耐熱性に優れたランダム共重合体、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下式（１）で表される少なくとも２種類の重合単位を含むランダム共重合体およびその製造方法。


（１） （もっと読む）

【課題】 レジスト材料などとして有用な、分子量が揃ったポリマーを提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ−１）


で表される繰り返し単位の少なくとも一種を含有し、数（又は重量）平均分子量が５，０００以下、好ましくは２，０００〜４，０００であることを特徴とする(メタ)アクリレート系コポリマー。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、並びに、前記絶縁膜を有する電子デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】分子内に、一般式（１）で表される部分構造を少なくとも一つ有する化合物（Ａ）と絶縁膜用樹脂またはその前駆体（Ｂ）とを含有する絶縁膜形成用組成物。


一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に任意の置換基を表し、任意のＲ^１〜Ｒ^６がそれぞれ互いに連結して環構造を形成していてもよい。同一炭素上の置換基（Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６）が２つ合わせて二重結合を表してもよい。） （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好であり、かつ基板との密着性が良好であり、更に塗布液の安定性に優れる層間絶縁膜形成用組成物を提供することである。
【解決手段】以下の成分を含む層間絶縁膜用組成物により、上記課題が解決される。
（Ａ）少なくとも一般式（１）の化合物を一種含む原料を重合して得られる重合体。


（Ｂ）溶媒。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、耐熱性等の膜特性が良好であり、かつ基板との密着性が良好で、塗布液の安定性に優れる層間絶縁膜形成用組成物の提供。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）及び（２）の化合物を含む原料を重合して得られる重合体。


Ｒ_０は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基、Ａｒは置換基を有しても良いアリール基またはヘテロアリール基、Ｒ_Ａは水素原子または有機基、Ｒ_ｃは、少なくとも１つのＲ_Ａ−Ｃ≡Ｃ−基が橋頭位に直接結合したカゴ型構造を有する有機基を表わす。 （もっと読む）

【課題】金属層から、電子構造素子のポリマー活性有機半導体層への電子の注入のための電極を提供することであり、これはｎ型ドーピングに相当する。
【解決手段】基板、少なくとも２つの単層もしくは複層の電極、その間にある少なくとも１つの活性有機半導体層、電極層と活性有機半導体層との間の中間層及び／又は界面層を含む溶液処理された有機電子構造素子であって、有機のモノ−、オリゴ−及びポリ−カルボン酸もしくはスルホン酸のセシウム塩が、中間層／界面層中のｎ型ドーパントとして含まれていることを特徴とする有機電子構造素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】 低誘電性であり、かつ塗膜形成後の経時によって一旦上昇した誘電率を加熱処理によって回復させる能力（k値回復性）を良化させた絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 (A)少なくとも一種の有機ポリマーまたは２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする。
【化１】


（R₁はメチル基等を表し、x₁は0〜95mol%, x₂は5〜100mol%、x₁+ x₂ = 100mol%であり、R₂, R₃はアルキル基等を、R₄はメチル基等を表し、X₃は5〜100mol%, x₄は0〜95mol%、x₃ +
x₄ = 100mol%であり、Rfはフルオロアルキル基を表し、x₅は0〜95mol%, yは5〜100mol%、x₅ + x₆ = 100mol%である。） （もっと読む）

【課題】反応温度が−２８℃以上でも分子量分布が狭いポリマーを効率よく製造することができる、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるポリマーの製造方法を提供すること。また、連続的な工程で製造でき、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるブロックポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の液体を混合可能な流路を備えるマイクロリアクターを用いて、モノマーを開始剤の存在下でリビング重合させることを特徴とする、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるポリマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】気体透過膜の単量体として有用な、新規のアセチレン系化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（ｌは１又は２であり、ｍは０、１又は２であり、ｎは０又は１であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれメチル基又は水素原子であって、ｎが１のとき、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４のうち少なくとも１つがメチル基であり、ｎが０のとき、Ｒ^１及びＲ^２のうち少なくとも１つがメチル基であり、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３の有機基であって、上記有機基はハロゲン原子及び珪素原子のうち１つ以上の原子を含んでよい）で示される化合物。 （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は２〜４価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（２＋ａ１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜４の整数を表し、ａ２は２〜４の整数を表す。
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