【課題】電子デバイスなどに用いられる絶縁膜を形成するための組成物であって、得られた絶縁膜の誘電率、機械強度等の膜特性が良好であり且つ基板との密着性に優れ、更に塗布液の安定性に優れる絶縁膜形成用塗布液を提供することである。
【解決手段】以下の成分を含む層間絶縁膜用組成物により、解決される。
（Ａ）炭素-炭素二重結合を少なくとも一つ有するアルコキシシランまたはアシロキシシランの加水分解物、
（Ｂ）分子内に、炭素-炭素二重結合または炭素-炭素三重結合を少なくとも２つ有する化合物、
（Ｃ）炭素数１６以下のカルボン酸、及び
（Ｄ）溶媒。 （もっと読む）

【課題】低損失の光導波路および製造方法を提供する。
【解決手段】コア部が、式（Ｉ）の反復単位：


[式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の一つが式（ＩＩ）；


を有するマレイミド基を有するポリマーマトリックスに、光を照射して上記マレイミド基同士を架橋させて得られる光導波路を提供する。 （もっと読む）

【課題】低い比誘電率であり、高い機械強度を有し、かつ面状が優れた膜を得ることができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、及び、前記絶縁膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（I）で表される化合物を重合させた重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、並びに、前記絶縁膜を有する電子デバイス。なお、式（I）中、Ｘは、それぞれ独立に、炭素−炭素三重結合又は炭素−炭素二重結合を含む基を表し、Ｙは、それぞれ独立に、置換基を表し、ｍは、３〜６の整数を表し、ｎは、０〜１７の整数を表す。
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【課題】高い耐熱性、低誘電率などの絶縁膜としての膜性能を維持しつつ、基板との密着性が改良された絶縁膜形成用組成物、更に、該組成物を用いて得られる絶縁膜及び電子デバイスを提供すること。
【解決手段】カゴ型構造と不飽和結合基を有する高分子化合物を含有する絶縁膜形成用組成物であって、上記高分子化合物が更に置換基としてアルコキシシラン基、アシルオキシシラン基またはヒドロキシシラン基を有する化合物であること特徴とする組成物、により解決される。 （もっと読む）

【課題】螺旋型置換ポリアセチレン構造体およびその螺旋型置換ポリアセチレン構造体を電極間に配置した高効率のデバイス構造を提供する。
【解決手段】基体と、主鎖が周期的な螺旋周期構造を有する置換ポリアセチレンからなる構造体であって、前記基体の表面に置換ポリアセチレンが螺旋の主軸と基体の表面の間の傾斜角が６０°以上９０°以下の範囲となる様に傾斜して配置している螺旋型置換ポリアセチレン構造体。基体の上に第一の電極、上記の主鎖が周期的な螺旋周期構造を有する置換ポリアセチレンおよび第二の電極を順次設けてなるデバイス構造。 （もっと読む）

【課題】低発熱性および耐摩耗性をさらに向上させたゴム組成物、特にタイヤのトレッド用ゴム組成物として有用なゴム組成物、さらには前記ゴム組成物からなるトレッドを有するタイヤを提供する。
【解決手段】非置換アミノシラン化合物で変性され、かつビニル含量が３５重量％以下のブタジエンゴムを１０重量％以上含むゴム成分、および該ゴム成分１００重量部に対して１５〜１５０重量部のシリカを含むゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】成形性に優れ、透明性、耐熱着色安定性に優れる硬化物となりうる発光素子用封止材組成物の提供。
【解決手段】１分子中に少なくとも１個のトリアルキルシリル基と少なくとも１個のラジカル重合性官能基とを有するシロキサン化合物と、１分子中に（メタ）アクリロイル基を２個以上有するラジカル重合性化合物と、ラジカル開始剤とを含有する発光素子用封止材組成物。 （もっと読む）

【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが１０．５以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 （もっと読む）

【課題】大量の有機アルミニウムを使用せず、水酸基含有オレフィン共重合体へ変性可能なプロピレン又は／及びエチレンと嵩高い置換基を持つシリロキシ基含有ビニルモノマーとの共重合体、その製造方法、およびその変性方法の提供。
【解決手段】α−オレフィンと下記式で表されるシリロキシ基を有するモノマーとを重合させたオレフィン共重合体、及び、中心金属が４族のメタロセン化合物（Ａ）と、アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物若しくはルイス酸およびイオン交換性層状珪酸塩からなる群より選ばれる（Ｂ）を含む触媒を使用してα−オレフィンと該ビニルモノマーとを共重合、あるいはそのオレフィン共重合体脱シリル化により水酸基含有オレフィン共重合体を製造することを特徴とする変性方法により提供した。ＣＨ２ＣＨ−Ｑ−ＯＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３ （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の脂環ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ１）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどの層間絶縁膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有し、さらには膜の経時安定性の良好な層間絶縁膜を形成できる膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カゴ型構造を有する化合物および（Ｂ）一般式(1)で示される基を有する化合物を含むことを特徴とする。該膜形成用組成物からなる塗布液を用いて、電子デバイスの層間絶縁膜および該絶縁膜を層構成層として有する電子デバイスを得ることができる。
【化１】


(式中、Ar₁、Ar₂は芳香族炭化水素基を表し、互いに同一であっても異なっていても良い。) （もっと読む）

輻射線感受性組成物およびネガ型画像形成性要素は、疎水性主鎖と、当該疎水性主鎖に共有結合したカチオンおよび当該カチオンと塩を形成しているホウ素含有アニオンを含む塩ペンダント基とを有するポリマーバインダーを含む。これらの特定のポリマーの使用は、露光と現像の間に通常用いられる予熱工程をなくした場合でも、速いデジタルスピード（高イメージング感度）および良好な印刷適性（良好な保存寿命）を提供する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ａ）アンチソルベント、ｂ）単量体、およびｃ）触媒を共に混合して前記ｂ）単量体が重合されると同時に、前記ｂ）単量体の重合により形成される重合体が固相として沈殿するステップを含む沈殿重合（ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）による重合体製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】防汚性、撥水撥油性に優れ、フッ素樹脂の特徴である耐薬品性、耐候性等の優れた特徴を有し、且つ１液で光及び／または熱の手段で硬化を可能とさせる二重結合を含有する含フッ素共重合体を含む硬化塗膜を提供すること。
【解決手段】重合単位として、フルオロオレフィンを１５〜８５モル％、特定の反応性シリコーンオイルを０．００１〜３０モル％、特定の水酸基含有不飽和エーテルを１〜５０モル％含み構成される水酸基含有含フッ素共重合体［Ａ］と、不飽和イソシアネート［Ｂ］との反応により生成され、二重結合を含有することを特徴とする含フッ素共重合体を含む硬化塗膜。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 環状オレフィン系付加共重合体の製造において、付加共重合体としての共重合比を制御することができ、かつ均質な環状オレフィン系付加共重合体を提供する。
【解決手段】 官能基を有する環状オレフィンモノマーを２種以上用いて、付加重合して得られる環状オレフィン系付加共重合体であって、前記環状オレフィンモノマーは、２種以上のうちの少なくとも一つが、０．２以上１．０以下のｅｎｄｏ／ｅｘｏ比を有するものであることを特徴とする環状オレフィン系付加共重合体。 （もっと読む）

【課題】長期にわたる撥水撥油性、繰り返しの汚染除去性に優れ、一液型で光及び／または熱の作用下に硬化可能な新規な不飽和二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニスを提供する。
【解決手段】フルオロオレフィンが１５〜８５モル％、特定の有機珪素化合物が０．００１〜３０モル％、及び特定のヒドロキシル基含有不飽和エーテルが１〜５０モル％を重合単位として含み構成されるヒドロキシル基含有含フッ素共重合体〔Ａ〕と、不飽和イソシアネート〔Ｂ〕との反応により生成されることを特徴とする二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニス。 （もっと読む）

【課題】シロキサン結合を形成することによって架橋し得る珪素含有官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体であって、環境問題を引き起こす可能性がある芳香族化合物を溶剤として含まず、ＧＥＶの２００１年２月１４日版に記載の測定法においてのＴＶＯＣ（全揮発性有機化合物）の放散量が１，５００μｇ／ｍ^３未満である重合体あるいはその組成物を提供する。
【解決手段】分子鎖として（メタ）アクリル酸エステル単量体単位からなり、シロキサン結合を形成することによって架橋しうる珪素含有官能基を有する重合体（Ａ）成分の製造方法であって、（メタ）アクリル酸エステル単量体を重合する工程を含み、重合溶媒として芳香族系溶剤を含まない溶剤を用いることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率を有する高純度のカゴ型構造を有するポリマーを得ること、それを含有する電子デバイスなどの層間膜用の低い誘電率で優れた機械強度の絶縁膜形成用組成物を提供すること。さらには該組成物を用いて得られる電子デバイスの層間絶縁膜および該絶縁膜を層構成層として有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】炭素-炭素三重結合を有する化合物を、ポリマー化もしくはオリゴマー化する方法であって、ポリマー化もしくはオリゴマー化の開始剤としてラジカル発生剤を用い、且つ、溶媒として、特定構造のフェノキシ化合物を用いることを特徴とする炭素-炭素三重結合を有する化合物の重合方法。 （もっと読む）

【課題】フッ素樹脂の持つ耐熱性、耐薬品性、耐候性、電気特性、撥水性、潤滑性とシラン架橋体（シリカ）の持つ高硬度、機械特性、バリア性、ＵＶカット性を併せ持ち、かつ透明性、耐溶剤性、高耐久性を有する高度なフッ素樹脂−シリカハイブリッド硬化物を形成できるシラン変性フッ素樹脂、シラン変性フッ素樹脂組成物およびそれを含有するコーティング剤、フッ素樹脂−シリカハイブリッド硬化物ならびにフッ素樹脂−シリカハイブリッド硬化物を有する積層体を提供する。
【解決手段】溶剤に可溶なエステル基を有するフッ素樹脂（１）とテトラアルコキシシラン部分縮合物および／またはトリアルコキシシラン部分縮合物（２）とをエステル交換反応させることによって得られるアルコキシシリル基含有シラン変性フッ素樹脂。 （もっと読む）