【課題】経時安定性を有し分散安定性が高く濃厚であり、環境性に優れた金属微粒子分散物、並びに、これを用いた着色組成物、感光性転写材料、並びに、高い黒色の膜またはブラックマトリックスを初めとする遮光画像若しくは薄膜で濃度の高い着色膜をはじめとする画像を有する遮光画像付き基板、また、平坦性に優れ、表示ムラが低いカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】硫黄原子および／または窒素原子を１個以上有するアルカリ可溶性ポリマーと、金属微粒子と、少なくとも１種の有機酸と、を含有することを特徴とする金属微粒子分散物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、酸発生剤成分とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、第三級アルキル基を含む酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、オリゴマー、少なくとも１種類のモノマー、およびある量の実質的に非反応性のオリゴマー添加剤を有する硬化生成物に関する。この実質的に非反応性のオリゴマー添加剤は、この非反応性のオリゴマー添加剤を含まない、そうでなければ同じ組成の硬化生成物の破壊靭性値よりも高い破壊靭性値を有する硬化生成物を生成するのに効果的な量で存在する。本発明はまた、硬化性組成物を有する、被覆光ファイバ、光ファイバリボンまたはバンドル、および通信システムにも関する。
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【課題】光学的に透明であり、耐光性に優れ、吸水率が小さく、かつ紫外線硬化型樹脂との接着性に優れた光学部品用スチレン系熱可塑性樹脂および樹脂組成物を提供する。
【解決手段】飽和吸水率が０．６重量％以下であり、かつ飽和吸水時の寸法変化率が０．０７％以下であるスチレン系熱可塑性樹脂及びスチレン系熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高いイオン伝導性、かつ高いリチウムイオン輸率を発現するイオン伝導性電解質を得ることができる電解質樹脂組成物、また高いイオン伝導性、かつ高いリチウムイオン輸率を有し、二次電池におけるサイクル特性に優れたイオン伝導性電解質、さらにはそれを用いた二次電池を提供する。
【解決手段】 重合性官能基を有するオニウムカチオンと重合性官能基を有する有機アニオンから構成される塩モノマーと、カチオン及びアニオンから構成されるイオン性液体と、リチウムカチオンとアニオンから構成されるリチウム塩とを、必須成分とする電解質用樹脂組成物であって、前記イオン性液体を構成するアニオンとリチウム塩を構成するアニオンとが、同一の構造を有するものであることを特徴とする電解質樹脂組成物。前記電解質樹脂組成物を用いて得られるイオン伝導性電解質。前記イオン伝導性電解質を構成要素とする二次電池。 （もっと読む）

【課題】金属−ポリマー錯体を含む抗微生物剤組成物を適用することによる表面の殺菌または消毒方法を提供する。
【解決手段】表面を消毒する方法であって；該方法は、（ａ）エタノールおよびイソプロパノールから選択されるアルコールを少なくとも５０％；および（ｂ）ポリマーで錯化された金属：を含む抗微生物剤組成物を、表面に適用することを含み；ここで、金属は銅、銀、金、スズ、亜鉛、及びその組み合わせから選択され；かつ、ポリマーは、残基Ａ、残基Ｂ、残基Ｃ、およびその混合物から選択されるモノマー残基を含み；ただし、ポリマーは９９．５重量％を超えない残基Ｂのモノマー残基を含む。 （もっと読む）

【課題】光学的に透明であり、耐光性に優れ、吸水率が小さく、かつ紫外線硬化型樹脂との接着性に優れたスチレン系熱可塑性樹脂および樹脂組成物からなる光学部品を提供する。
【解決手段】飽和吸水率が０．６重量％以下であり、かつ飽和吸水時の寸法変化率が０．０７％以下であるスチレン系熱可塑性樹脂及びスチレン系熱可塑性樹脂組成物からなる光学部品。 （もっと読む）

【課題】大量生産に適した塗布型の反射防止フィルム作製のための皮膜形成用組成物、この皮膜形成用組成物を用いた、十分な反射防止能、耐擦傷性を有すると共に、防汚性の向上した反射防止フィルム、及びこの反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供する。
【解決手段】主鎖にポリシロキサンセグメントを有するフッ素含有共重合体と、主鎖が炭素原子のみからなるフッ素含有共重合体とを、それぞれ少なくとも一種含み、かつ、主鎖にポリシロキサンセグメントを有するフッ素含有共重合体の含有率が共重合体全体に対して３０質量％以下である皮膜形成用組成物。この皮膜形成用組成物を、透明支持体上に塗設することにより形成される低屈折率層を含む反射防止フィルム。この反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、一方に用いられている偏光板。これら反射防止フィルム又は偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】逆波長分散特性を示す位相差フィルムの製造方法であって、成形加工性や生産性に優れた位相差フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも１種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】分子量を制御しつつ、分子量分布の狭いリビング重合体を容易に、効率よく得ることができるポリビニルエーテル系ブロック共重合体のバッチ式のリビング重合方法を提供する。
【解決手段】ビニルエーテルモノマー初期濃度が０．５ｍｏｌ／Ｌ以上であり、さらに重合開始剤と触媒の添加量比率および触媒と負触媒の添加量比率を以下の範囲とする。重合開始剤：触媒＝１：３．０〜１：８．０ 且つ触媒：負触媒＝１：１００〜１：４００ （もっと読む）

【課題】安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物から選択される少なくとも１種、（ａ２）特定のオキセタニル基含有不飽和化合物、（ａ３）特定の不飽和化合物の共重合体、ならびに〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物から選択される少なくとも１種、（ａ２）特定のオキセタン基含有不飽和化合物、および（ａ３）特定のエーテル構造を有する不飽和化合物の共重合体、ならびに〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】 機械的強度及び耐熱性に優れ、均一でムラのない光学異方体を提供し、この光学異方体を得るために有用な、重合性化合物及び室温付近で液晶相を示す重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物の、アクリル酸又はメタクリル酸エステルである単官能アクリレート又は単官能メタクリレートを含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性液晶組成物、及びこれを重合してなる光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、室温付近で液晶状態を示すので、液晶状態における光重合の際に熱重合が進行する恐れがなく、不均一なムラがなく、機械的強度と耐熱性に優れる光学異方体が得られる。従って、高品質な光学異方体、特に液晶表示装置の位相差板、配向膜、偏光板の材料として有用である。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルターやマイクロレンズを形成する際の露光工程において、下地基板からの乱反射光を効果的に抑制でき、かつ高度の耐熱性を有し、ドライエッチングでも膜荒れが発生しないハレーション防止膜を形成するのに適した熱硬化性組成物、それを用いてハレーション防止膜を形成する方法およびその方法により形成されたハレーション防止膜、ならびにそのハレーション防止膜を有する固体撮像素子を提供すること
【解決手段】オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物とそれ以外の重合性不飽和化合物の共重合体、および
２，４，２’，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの如き特定のベンゾフェノン系放射線吸収剤
を含有する熱硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物から選択される少なくとも１種、（ａ２）特定のオキセタニル基含有不飽和化合物および（ａ３）分子中にラクトン構造を有する不飽和化合物の共重合体、ならびに〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物を含有する。
層間絶縁膜およびマイクロレンズは、上記組成物から形成される。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、かつ高多重記録が可能なホログラム記録用組成物、及び情報光及び参照光により形成する干渉像の高多重記録化を図ることができるホログラム型の光記録媒体、並びに該光記録媒体を用いる光記録方法及び光記録装置を提供すること。
【解決手段】本発明の光記録用組成物は、水素結合形成可能な官能基、及びエチレン性二重結合を有する重合性モノマーと、イソシアネート基を末端に有するプレポリマー、及びポリオールの混合により形成されるマトリックスポリマーとを含む。 （もっと読む）

【課題】接着力の経時上昇抑制、剥離性（被着体耐汚染性）と高速剥離性のバランスに優れた官能基含有アクリル系共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を含有する粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が２０万以上、２００万以下の官能基含有アクリル系共重合体（Ａ）であって、該官能基含有アクリル系共重合体（Ａ）の重量平均分子量をＳとした場合、分子量が２Ｓ／３以上の官能基含有アクリル系共重合体（Ａ１）を構成する官能基含有モノマーの含有量Ｘと、分子量が２Ｓ／３未満の官能基含有アクリル系共重合体（Ａ２）を構成する官能基含有モノマーの含有量Ｙとの重量比Ｘ／Ｙが１未満である官能基含有アクリル系共重合体。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】 硬化性および引張物性に優れるシーラントや接着剤として有用なポリオキシアルキレン系重合体および／または（メタ）アクリル酸エステル系重合体、および、該重合体を含有する硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）：
−（ＳｉＲ^１_２Ｏ）_ｎＳｉＲ^１_２−ＣＲ^２Ｒ^３−ＣＨＲ^４−Ｒ^５−ＳｉＸ_３ （１）
で表される基（ａ）と、一般式（２）：
−（ＳｉＲ^１_２Ｏ）_ｎＳｉＲ^１_２−ＣＲ^４（ＣＨＲ^２Ｒ^３）−Ｒ^５−ＳｉＸ_３ （２）
で表される基（ｂ）とを有し、（ａ）と（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が、ｍｏｌ比で平均して９９／１〜７５／２５であるポリオキシアルキレン系重合体および／または（メタ）アクリル酸エステル系重合体（式中、Ｒ^１は炭化水素基またはトリオルガノシロキシ基。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子又は炭化水素基。Ｒ^５は２価の炭化水素基または直接結合。Ｘは水酸基または加水分解性基。ｎは０から１００の整数）。 （もっと読む）