【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】ディフェクトの発生が抑制されたレジストパターンを良好なリソグラフィー特性で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位（ｃ１）および下記一般式（ｃ２−１）で表される構成単位（ｃ２）を有し、前記構成単位の（ｃ２）の割合が２０〜６０モル％である含フッ素共重合体からなる添加剤成分（Ｃ）と、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】十分な透過率を有する塗膜を形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）及び感光物質（Ｃ）を含有し、感光性樹脂組成物に対する水分量が、０．１５〜０．４５質量％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】密着性及び耐溶剤性に優れた硬化物を得ることのできる共重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）


で表されるビニル単量体Ａに対応するモノマー単位と、カルボキシル基含有重合性不飽和化合物Ｂ［但し、（４−ビニルフェニル）酢酸を除く］に対応するモノマー単位を少なくとも含む共重合体。カルボキシル基含有重合性不飽和化合物Ｂとしては、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。この共重合体は、さらに特定のモノマーを含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレン構成単位と、アセタールまたはケタール型酸解離性基を有するヒドロキシスチレン構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル構成単位とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、かつ、スペーサー形成後の密着性に優れたスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。また、本発明は、基板との密着性に優れたスペーサー及びその製造方法、並びに該スペーサーを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸性基を有する樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、並びに（Ｃ）下記一般式（１）で表されるオキシムエステル化合物を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。


〔一般式（１）中、Ｒ及びＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】マトリクス樹脂に対する混合、分散性に優れ、マトリクス樹脂中で凝集を起こさず、しかも従来の線状高分子からなる剥離剤と比べて、該組成物の成形加工工程における混合・成形機械や金型への離型性、或いはフィルム等の他の樹脂成形品に対する剥離性等に優れる内部剥離剤並びに該内部剥離剤を用いることによる樹脂成形品の界面接着性の制御方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、第１観点として、分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも１個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＢとを、該モノマーＡ及び該モノマーＢの合計モルに対して、５モル％以上２００モル％以下の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる、含フッ素高分岐ポリマーからなる内部剥離剤並びに該内部剥離剤を用いる樹脂成形品における界面接着性の制御方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも下記式（ａ−１）で表される繰り返し単位を有する重合体、並びに（Ｂ）酸発生剤、（Ｄ）有機溶剤を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤またはその前駆体として有用な新規な化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^Ｘはヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり；Ｒ^１は２価の連結基であり；Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり；ｎは１〜３の整数であり；Ｚはｎ価の有機カチオン（ただし、アミンイオンおよび第４級アンモニウムイオンを除く。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ露光により酸を発生する基材成分を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分が、ヒドロキシスチレン単位と、側鎖にアセタール結合を有するヒドロキシスチレン単位と、露光により酸を発生する構成単位がアセタール結合を介して結合しているヒドロキシスチレン単位とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布欠陥が低減され、液浸露光においても優れたパターンの提供を可能とする、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する樹脂、及び、（Ｄ）下記一般式（Ｓ１）〜（Ｓ３）で表される群より選択される少なくとも１種の溶剤を含有し、該溶剤の合計の含有率が全溶剤中の３〜２０質量％である混合溶剤。
（もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、（メタ）アクリル酸のメチロール置換ナフトールエステル単位を含有する構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、液浸媒体に対する接触角が７０°以上と大きく、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を用いる。
【解決手段】液浸上層膜用共重合体がカルボキシル基を有する繰返し単位を、全繰返し単位の２０〜６０モル％含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、また、フッ素原子を含む基をその側鎖に有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られ、さらに、水酸基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合して得られる上層膜組成物を用いてパターン形成する。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、露光により発生された酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成できるバイオチップ製造用樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）含窒素基を有する重合体と、（Ｂ）増感剤と、（Ｃ）感放射線性酸発生剤と、（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｅ）溶媒とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。
（もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】優れた感度で、解像性の高い良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ前記構成単位（ａ０）における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式（ａ０−０−１）で表される基を含む。
（もっと読む）

【課題】支持体への塗布性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを含み（ただし、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを混合して調製されたものを除く）、かつ、前記２−ブトキシ−１−プロパノールの割合が、前記１−ブトキシ−２−プロパノール１００質量部に対して１．５質量部以上であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】適正な現像時間を有し、かつ、形状や基板への密着性も良好なスペーサを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、例えば、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）と、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）と、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ３）とを有し、構成単位（ａ２）の割合と構成単位（ａ３）の割合との合計が７１質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】植物性の原料を用い、室温や体温付近でコレステリック相を有する液晶組成物であって、組成を変えることで室温や体温付近で赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することでき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し、コレステリック相を固定化することができる液晶組成物を提供する。
【解決手段】本発明の重合性コレステリック液晶組成物は、γ−オリザノール（Ａ）の加水分解物の残基と環構造とを有する重合性エステル化合物（１）、γ−オリザノール（Ａ）の加水分解物の残基を有し、かつ環構造を有しない重合性エステル化合物（２）およびγ−オリザノール（Ａ）の水添物の残基を有する重合性エステル化合物（３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）