【課題】光弾性係数が小さな位相差フィルムを提供することにある。
【解決手段】式（１Ａ）及び式（１Ｂ）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上のジオール化合物（１）と、脂環式炭化水素骨格を有するポリイソシアネート化合物（２）とを反応させ、次いで、エチレン性二重結合及びポリイソシアネート化合物（２）のイソシアナト基と反応しうる官能基を有する化合物（３）を反応させて得られる化合物（Ａ）に由来する構造単位を含み、延伸してなる位相差フィルム。
ＨＯ−Ｌ^１−Ｗ^１−Ｌ^２−ＯＨ （１Ａ）
ＨＯ−Ｗ^２−Ｌ^３−Ｗ^３−ＯＨ （１Ｂ） （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード（ＥＬ）と、線幅バラツキ（ＬＷＲ）又はＣＤ（クリティカルディメンジョン）均一性（ＣＤＵ）とに優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜を提供する。
【解決手段】 （ア）（Ａ）非芳香族環状有機基を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）架橋剤、を含む化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、ドライエッチング耐性、ラインエッジラフネスに優れるレジスト組成物の樹脂原料を提供する。
【解決手段】β−シアンヒドリン類縁体を原料とした（メタ）アクリル酸エステル及び重合体。


（Ｒ１はアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を有する炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。あるいは、Ｒ１とＲ２は結合している炭素原子とともにアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を形成する。ここで前記アルキル基、環式炭化水素基は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアシル基、または、炭素数１〜６のアルコールとエステル化されたカルボキシ基で置換されていてもよい。アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよい。） （もっと読む）

【課題】高周波領域での誘電正接が極めて小さく、配線埋め込み性、及び耐熱性に優れた積層体の製造に有用な、重合性組成物、架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、それらを用いて得られる積層体を提供すること。
【解決手段】シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物、及びビニリデン基を３つ有する三官能化合物を含有してなり、かつ前記一官能化合物、前記二官能化合物、及び前記三官能化合物の含有割合が重量比（一官能化合物：二官能化合物：三官能化合物）で１０〜８０：１０〜８０：５〜４０である、重合性組成物、該組成物を用いてなる架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、少なくとも、前記架橋性樹脂成形体、又は前記架橋樹脂成形体からなる層を有してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、水素原子が酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ｂとを含む高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化１】
（もっと読む）

【課題】現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び溶剤を含有し、前記着色剤の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対し質量分率で１５質量％〜６０質量％であり、前記バインダー樹脂が分子内に、アリル基を有する構造単位、Ｎ位−置換マレイミド基を有する構造単位、及び環状イミド基を有する構造単位から選択される構造単位と、酸性基を有する構造単位とを有し、前記重合性化合物がカルボキシル基含有多官能性単量体であり、前記光重合開始剤がロフィン系光重合開始剤又はオキシム系光重合開始剤である着色感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(Ａ)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(Ｂ)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(Ｃ)溶剤を含有してなり、光酸発生剤（Ｂ）の含有率が、該組成物の全固形分を基準として８〜２０質量％であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】鋳型、特にポリカーボネート製鋳型からの離型性が良好であり、かつ硬化収縮による基板の反りが小さい硬化物を得ることが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に１個以上の脂肪酸残基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物、および、（Ｂ）（Ａ）成分以外の分子内に１個〜３個の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物であって、ポリカーボネート樹脂溶解性試験に陰性である重合性化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物；およびこの硬化型樹脂組成物の硬化物であって、その表面が凹凸形状である物品。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、かつ、記録した画像において、柔軟性、耐擦性および記録媒体に対する密着性に優れた放射線硬化型インク組成物を提供するものである。
【解決手段】本実施の形態に係る放射線硬化型インク組成物は、（Ａ）反応成分中に５質量％以上１５質量％以下のＮ−ビニルカプロラクタムと、（Ｂ）反応成分中に１質量％以上２０質量％以下の脂環式構造を有する多官能アクリレートと、（Ｃ）フェノキシエチルアクリレートと、を含有する。 （もっと読む）

【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有し、前記樹脂成分（Ａ）中の前記樹脂（Ａ１）の含有量が０．１〜２０質量％の範囲内であり、前記樹脂（Ａ１）が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有するアクリル酸から誘導される構成単位を有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
（もっと読む）

【課題】省液コーターにより平坦性が良好な膜を形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、溶剤（Ｅ）および界面活性剤（Ｆ）を含有する着色感光性樹脂組成物であって、該組成物の粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であり、
かつ、該組成物２μＬをガラス基板上に滴下して０．２秒後の接触角が１０°以上２０°以下であり、かつ、溶剤（Ｅ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと３−エトキシプロピオン酸エチルとを含有し、かつ、界面活性剤（Ｆ）が、シリコーン系界面活性剤およびフッ素原子を有する化合物からなるシリコーン系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた電磁変換特性と走行耐久性とを兼ね備えた磁気記録媒体の作製可能な、ビニル系ポリマーからなる磁気記録媒体用結合剤を提供する。
【解決手段】一般式[１]で表される構造単位等を含むビニル系共重合体であることを特徴とする磁気記録媒体用結合剤。


[一般式[１]中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ｙは脂環式の環状基、炭素数８以上５０以下の炭化水素基または水酸基を表す。] （もっと読む）

【課題】ナノエッジラフネス、感度、解像度に優れたレジスト被膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（ａ−１）〜（ａ−４）で表される各繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも１種を含有する樹脂及び（Ｂ）下記一般式（ｂ）で表される酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】高い顔料分散性を有し、コントラストが高く、色ムラが小さく、色特性に優れた着色被膜を形成し得る着色組成物、及び着色感光性組成物を得る。
【解決手段】一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される構造単位（Ｒ^１〜Ｒ^６：水素原子又は１価の有機基、Ｘ^１及びＸ^２：−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−又はフェニレン基、Ｌ^１及びＬ^２：単結合又は２価の有機連結基、Ａ^１及びＡ^２：１価の有機基、ｍ及びｎ：２〜８の整数、ｐ及びｑ：１〜１００の整数）と酸基を有する構造単位とを有する高分子化合物、顔料、有機溶剤、及び一般式（ＩＩＩ）で表される化合物（Ｒ^１〜Ｒ^６：水素原子又は置換基、Ｒ^７：水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基）が金属原子又は金属化合物に配位した錯体である染料を含有することを特徴とする着色組成物。
（もっと読む）

【課題】 十分な硬化性を有するとともに光照射によるベンゼン放出が少なく、密着性および耐溶剤性の優れた硬化物を形成し得るカチオン重合型感光性インクを提供する。
【解決手段】 酸により重合可能な重合性化合物、ベンゼン環を含む光酸発生剤、および増感剤を含有するカチオン重合型感光性インクである。前記光酸発生剤の重量は、前記重合性化合物の重量の０．５％以上１０％以下であり、前記光酸発生剤の含有量（ｍ₁モル）と前記増感剤の含有量（ｍ₂モル）とは、下記の関係を満たすことを特徴とする。
１＜（ｍ₂／ｍ₁）≦５ （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、ＤＯＦの広いレジストパターンを形成可能なレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】４０モル％以上の下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体（Ａ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。（一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子など、Ｒ^２はアルキル基、Ｒ^３は炭素原子、Ｚは脂環式骨格を示す。）
（もっと読む）

【課題】保存安定性及び現像性に優れ、優れた膜物性と高い透明性を有する硬化膜を与えることができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来するモノマー単位を有し、アルカリ可溶性基を有し、オキシラニル基及びオキセタニル基のいずれをも有さず、加熱によりカルボキシ基を生成する残基を含有するアルカリ可溶性樹脂、（成分Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、並びに、（成分Ｃ）（メタ）アクリルエステルに由来し、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位を含み、不飽和カルボン酸又は不飽和酸無水物に由来するモノマー単位を有しない架橋性樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）