【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤を含む化学増幅型レジスト材料。


（Ｒは芳香環あるいは炭素数５以上の脂環式炭化水素構造を有する一価の炭化水素基。Ｒ’はＨ又はトリフルオロメチル基。Ａ¹はエステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミド結合、カーボネート結合のいずれかを示す。ｎは１〜３の整数。）
【効果】本発明の光酸発生剤より生ずる酸は、スルホネートに嵩高い環式構造で酸拡散を抑制しつつ、直鎖状炭化水素基の存在によって適度な機動性も有していることから、適度な酸拡散挙動を示す。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程に問題なく使用でき、解像性能、ＬＷＲ、露光余裕度といった問題も解決できる。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、耐吸湿性に優れ、溶剤に触れても基材に対して高い密着性に優れた硬化物を得ることのできる共重合体を提供する。
【解決手段】（１）スチレンのパラ位にエーテル基と結合したエポキシ基を持つモノマー単位と、（２）スチレンのパラ位に−ＣＨ_２−ＣＯＯＨを持つモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、下記式（３）で表わされるモノマー単位を含んでいてもよい。
（もっと読む）

【課題】ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、粗密バイアスにも優れ、保存安定性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記酸発生剤（Ｂ）が下記一般式（Ｉ）で示される化合物であり、前記溶剤（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを全溶剤に対して５０〜９０質量％含有する感放射線性樹脂組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｍ^＋はスルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】特に安定性と強度の双方をともに向上させることが可能なアスファルト組成物を製造する上で必要となるスチレン−ブタジエン系組成物を提供する。
【解決手段】スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体（ＳＢＳ）において、ブタジエンブロックの二重結合に付加反応された、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、ネオアビエチン酸、ピマール酸、イソピマール酸、パラストリン酸のうち何れか１種以上である炭素数２０の多環式ジテルペンを備える。 （もっと読む）

【課題】多量の重合触媒や多量の分子量調節剤を使用することなく、比較的に低分子量の環状オレフィン付加重合体を与えることができる環状オレフィン付加重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）周期律表第１０族の金属原子を含有してなる有機金属化合物と、（Ｂ）イオン性ホウ素化合物または有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒により、環状オレフィン化合物を付加重合させる環状オレフィン付加重合体の製造方法であって、分子量調節剤として特定の不飽和環状（チオ）エーテル化合物を用い、当該分子量調節剤の使用量が、環状オレフィン化合物１モル当り、０．１モル以下であることを特徴とする環状オレフィン付加重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）

【課題】本発明では、エネルギー硬化型の有機−無機ハイブリッド樹脂組成物のバルク体、特にレンズ成形体が十分な硬度を有する有機−無機ハイブリッド樹脂組成物と、これを用いた複合型の光学素子を提供する。
【解決手段】有機−無機ハイブリッド樹脂組成物は、分子内にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマーと、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び酸化ビスマスのうち少なくとも１つの金属酸化物のナノ粒子と、光重合開始剤と、熱重合開始剤を含み、光重合開始剤と熱重合開始剤の含有量をそれぞれａ重量部及びｂ重量部とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする。
０．５ｂ≦ａ≦２ｂ、かつ０．０２≦ａ≦１．５ （もっと読む）

【課題】
臨床検査用自動分析装置で用いられる試薬収容容器において、容器の成形がし易く、凍結乾燥処理を行うことが可能であり、安価な、試薬を収容可能な臨床検査用試薬収容容器を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、臨床検査用試薬を収容し、臨床検査用自動分析装置に用いられる臨床検査用試薬収容容器であって、シクロオレフィンコポリマーを一体成形することにより得られ、凍結乾燥処理に適用可能であることを特徴とする臨床検査用試薬収容容器を提供する。 （もっと読む）

構造Ｉ：に従って提供されるポリマーであって、ここでＹは、以下の部分：のうちの１種以上から選択されるチオール反応性基であり、Ｚは、以下の部分：のうちの１種以上から選択されるイオン生成基であるポリマー。ポリマー基質の表面は、上記表面と、構造ＩＩもしくは構造ＩＩＩに従うポリマー：とを接触させ、上記表面を紫外線に曝すことによって、改変される。本発明は、ポリマー材料の表面（特に、ポリウレタン基材を含む）を改変して、上記基材表面上におけるその後の自己内皮播種を促進するための方法および組成物を提供する。
（もっと読む）

【課題】優れた透明性を有すると共に、クラックを発生させず、形状安定性も優れ、かつ熱に対して安定で黄変が発生せず、金型からの離型性にも優れた光学部品用樹脂を製造するための原料組成物および光学部品を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、アダマンチル基を含む（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と低分子量の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）及び下記一般式（III）で表される脂肪族化合物(Ｃ)を含有する光学部品用樹脂原料組成物である。[Ｒ⁴は炭素数６〜３０の脂肪族炭化水素基、Ｗは水素原子、金属原子又は炭素数１〜８の炭化水素基である。]
（もっと読む）

【課題】 １液型又はドライフィルムとして保存安定性に優れ、感度、アルカリ現像性及びビア形状が良好で、且つ硬化膜の耐クラック性、ＨＡＳＴ耐性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱硬化剤と、を含有し、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ−１）分子内にフルオレン骨格、及びオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、パターン形状、感度及び解像度が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、ラクトン構造を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位とを含有する樹脂（Ａ）、酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、式（III）で表される繰り返し単位とを含有する樹脂（Ｂ）、及び、露光により酸を発生する酸発生剤、を含有するフォトレジスト組成物。
（もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に酸不安定基を有する繰り返し単位を有し、酸不安定基の脱離によりアルカリ性現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物でレジスト膜を形成する工程、該膜に高エネルギー線の繰り返し密集パターンを露光し、未露光部を露光、加熱し、発生酸を樹脂の酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応させた後、現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光又は加熱して、樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋を形成させてポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成工程、上記架橋形成ポジ型パターンを溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたレジストパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターン上に反転用膜を成膜し、パターンにダメージを与えずにポジ型パターンの間隙に反転用膜形成用材料を埋め込められ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行える。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた液晶フィルムが得られる新規な液晶性化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍ_１は式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎはそれぞれ０〜１０の整数を示す。また、Ｍ_２は式（７）から選ばれる基を表す。）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（式（２）、式（３）および式（４）中、Ｐ_１およびＰ_２はそれぞれ個別に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ_３は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^０は、２価のＣ_１-17飽和炭化水素基を表す。Ｙ^１は、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^２は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−を表す。ｋは、１〜８の整数を表す。Ｙ^２は、炭素数４〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高い放射線感度を有し、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成することができ、しかもスリット塗布方式において塗布ムラの低減が可能であり、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、重合性不飽和カルボン酸および／または重合性不飽和カルボン酸無水物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】


〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。
【解決手段】側鎖にアダマンチルラクトンを有する繰り返し単位（ａ−１）、および酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−２）を含む樹脂（Ａ）と、特定構造のスルホニウム塩を含む感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
（もっと読む）

【課題】各種プラスチック基材、特にポリオレフィン樹脂基材に対する密着性に優れる新規な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ロジン類（ａ１）および（メタ）アクリロイル基含有モノビニルエーテル化合物（ａ２）をヘミアセタールエステル化反応させて得られる（メタ）アクリロイル基含有ロジン類（Ａ）、ならびに、多官能（メタ）アクリレート類（Ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】
ポリプロピレンに代表されるポリオレフィンや、ナイロンに代表されるポリアミドなどの種々素材に対して、良好なヌレ性、相溶性、接着性を有するアクリルエマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、ジチオエステル化合物１．０モルに対し、重合開始剤を０．０２０〜０．４００モル使用してアクリル単量体が塊状重合し、得られたアクリルプレポリマーの存在下で、アクリル単量体を乳化重合するアクリルエマルジョンの製造方法である。 （もっと読む）