【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素有機化合物（Ｄ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖に、２価の連結基で結合された環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、エーテル性酸素原子、エステル基、カルボニル基、シアノ基、置換基を有していてもよいフェニル基、および含窒素複素環式基からなる群から選択される少なくとも１種を含むアミン（Ｄ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びＤＯＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分とする酸発生剤（Ａ）及び式（ａａ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂（Ｂ）を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はＦ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は置換基を有していてもよい２価飽和炭化水素基、該基中の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｙ^１は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等、該基中の−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい；Ｒ^ｃは、Ｈ又はアルキル基；Ｚ^＋は有機対カチオン；Ｔは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、少なくとも１つの−ＳＯ_２−で置き換わっている；Ｒ^１はＨ、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】得られるパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸と作用してアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（Ａ）と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は、置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基又はシアノ基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。Ａ¹は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｍ１−ＣＯ−Ｏ−＊、−（ＣＨ_２）_ｍ２−ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｍ３−ＣＯ−Ｏ−＊を表す。ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ１〜６の整数を表す。＊は、Ｎとの結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好なラインエッジラフネス及び良好なマスクエラーファクターを示す化学増幅型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。


【解決手段】式（ａａ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。
［式（ａａ）中、Ｔは、Ｃ４〜３６の脂環式炭化水素基、該基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜１２のアルキル基等で置換されていてもよく、該基に含まれるメチレン基は、少なくとも１つの−ＳＯ_２−で置換されており、さらに、カルボニル基、酸素原子等で置換されていてもよい；Ｒ^ｃは、水素原子又はＣ１〜６のアルキル基；Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲン原子を有してもよいＣ１〜６のアルキル基；Ｚ^１は飽和炭化水素基を表し、飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ^ｃ）−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有する高分子化合物を含む基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】優れた特性のレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物とともに、このようなフォトレジスト組成物を提供する化合物及び樹脂並びにレジストパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ＶＩＩ）で表される化合物。


［式中、Ｒ⁰はＨ又はメチル基；Ｘ^２１及びＸ^２２は、２価飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、Ｏ又は−ＣＯ−で置換されていてもよいが、Ｘ^２１及びＸ^２２に含まれるメチレン基の少なくとも１つは−ＣＯ−で置換されている；Ｒ^２１及びＲ^２２は、−Ｃ（Ｒ^1R）（Ｒ^2R）（Ｒ^３R）基、置換基を有していてもよい脂環式又は芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基中のメチレン基は、Ｏ、−ＣＯ−、Ｓ又は−ＳＯ_２−で置換されていてもよい；Ｒ^１R、Ｒ^２R及びＲ^３Rは、アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第二の膜形成用材料を塗布して第二の膜を形成し、第一のレジストパターンが形成された位置を含む領域を露光し、ＰＥＢを行い、アルカリ現像する工程（２）と、を有し、第二の膜形成用材料として、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有し、且つ第一の化学増幅型ポジ型レジスト組成物と同じかそれよりも少ないエネルギー量ではアルカリ現像液に対する溶解性が増大しないものを使用し、工程（２）にて、露光した領域内の第一のレジストパターンのみがアルカリ現像により除去されるように露光量およびＰＥＢ温度を設定するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、且つ前記基材成分（Ａ）の分子量分散度（Ｍｗ/Ｍｎ）が１．０１〜１．５０であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、（メタ）アクリル酸のメチロール置換ナフトールエステル単位を含有する構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖に、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基含有エステル基を有する構成単位（ａ０−１）を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以下の高分子化合物（Ａ１−１）と、高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、Ｍｗが、高分子化合物（Ａ１−１）のＭｗの１．５倍以上である高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた感度で、ＬＷＲの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ前記構成単位（ａ０）における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式（ａ０−０−１）で表される基を含む。［式（ａ０−０−１）中、Ｒ^１’及びＲ^２’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｙ^１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^３はその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
［化１］
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【課題】リソグラフィー特性が良好で、形成されるレジストパターンの形状も良好なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素有機化合物成分（Ｄ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む構成単位を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）を少なくとも２種含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位で表される構成単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤（Ｅ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、（Ａ）成分は、側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含む構成単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、（Ｂ）成分は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^０は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基である。ただし、−ＳＯ_３⁻における硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない。Ｚ^＋は有機カチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１−１）と、前記高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、構成単位（ａ０−１）の含有割合（モル％）が、前記高分子化合物（Ａ１−１）と異なる高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の製造方法は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ａ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、及び、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む共重合体の製造方法であって、繰り返し単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を与える単量体から選ばれる少なくとも一種類以上を、有機溶媒に溶解した状態で水と接触させ、分液する工程、或いは、有機溶媒に溶解した状態でイオン交換樹脂と接触させる工程を経た後、共重合に供することにより、得られた共重合体を溶媒に溶解した後、ブロモチモールブルーを指示薬として、水酸化アルカリ金属含有溶液で中和滴定する方法で求めた酸価を、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位を有する高分子化合物（Ａ１−１）と、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含まず、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）