【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１−１）と、前記高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、構成単位（ａ０−１）の含有割合（モル％）が、前記高分子化合物（Ａ１−１）と異なる高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の製造方法は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ａ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、及び、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む共重合体の製造方法であって、繰り返し単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を与える単量体から選ばれる少なくとも一種類以上を、有機溶媒に溶解した状態で水と接触させ、分液する工程、或いは、有機溶媒に溶解した状態でイオン交換樹脂と接触させる工程を経た後、共重合に供することにより、得られた共重合体を溶媒に溶解した後、ブロモチモールブルーを指示薬として、水酸化アルカリ金属含有溶液で中和滴定する方法で求めた酸価を、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に、連結基を介してその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−１）、側鎖に、酸解離性基を有するエステル基と、連結基を介したエステルを縦に連結した（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−２）、および側鎖に酸解離性基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ１−０−１）を有し、全構成単位に対し、構成単位（ａ０−１）の割合は１０〜４０モル％であり、構成単位（ａ０−２）の割合は５〜２０モル％であり、構成単位（ａ１−０−１）の割合は１０〜５５モル％である高分子化合物（Ａ１）。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線露光において高感度なフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基等を表す。Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、炭素数３〜６の分岐状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基をとり得る。ＡおよびＢは、酸素原子または硫黄原子を表す。）で表される繰り返し単位を構成単位として有する高分子化合物および光酸発生剤を含有することを特徴とする、極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】効率良くかつ簡便に製造できる新規ノルボルネンの提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｂ¹〜Ｂ³は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシル基から選ばれる基を示し、、ｍは０又は１の整数を示す。）
で表される化合物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むエステル基を有するアクリル酸系エステルで表される構成単位（ａ０−１）、および酸解離性の脂肪族単環式基を有するアクリル酸系エステル構成単位（ａ０−２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基がエステル結合した脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、基材成分（Ａ）が、スルホニル基を含む環式基を側鎖に含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、特定構造を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ５）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）が、側鎖に、環骨格中にスルホニル基を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリル誘導体単位で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ０）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２３℃における水への溶解度が０．１％以下である酸発生剤と、樹脂とを含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、導電性高分子、導電性高分子組成物、導電性高分子有機膜およびこれらを含む有機光電素子に関する。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^０は、２価のＣ_１-17飽和炭化水素基を表す。Ｙ^１は、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^２は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−を表す。ｋは、１〜８の整数を表す。Ｙ^２は、炭素数４〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖に、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を２価の連結基で結合した（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）(メタ)アクリロイルオキシ有機酸とビシクロラクトン化合物から誘導される特定の構成単位（ａ０）、および該構成単位（ａ０）に該当しない、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】低誘電率、低損失特性、及び優れた工程性を有する低損失絶縁材として有用である新規なノルボルネン系重合体、これを用いた絶縁材、印刷回路基板、及び機能性素子を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも１種含む、ノルボルネン系重合体である。


（式中、Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも一つは独立に置換または非置換のＣ４〜Ｃ３１の線状または分枝状のアラルキル基であり、残りのＲ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素あるいは置換または非置換のＣ１〜Ｃ３の線状または分枝状のアルキル基であり、ｎは２５０〜４００の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】低露光量であっても耐溶剤性に優れた画素およびブラックマトリックスを形成することができる着色層形成用感放射線性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ１）カルボキシル基、酸無水物基および水酸基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、５員環（ジチオ）カーボナート基とを有する重合体、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、着色層形成用感放射線性組成物；これを用いたカラーフィルタおよびカラー液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】露光マージンに優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。


（式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基を表す。Ｚは、単結合又は−［ＣＨ₂］_k−ＣＯ−Ｘ_４−基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３及びＸ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】接触角及び後退角に優れ、水接触時の、水へのレジスト組成物の溶出量が少ないレジスト膜を形成することができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性に変化する樹脂（Ａ）、式（I）で表される構造単位及びフッ素含有構造単位を含有する樹脂（Ｂ）、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。


（式（Ｉ）中、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３及びＸ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】大環状構造を有する重合体を得ることができるラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドおよびその製造方法、並びにこのラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドを重合して得られる重合体を提供する。
【解決手段】ラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドは、２，４−チアゾリンジオンとチイラン化合物とを反応させることにより得られる環状ポリスルフィドを４−クロロメチルスチレンに反応させることにより得られるものである。 （もっと読む）