Fターム[4J100BC84]の内容
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樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法
【課題】優れたCD均一性のパターンを製造できるレジスト組成物及び該組成物に有用な樹脂の提供。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び該樹脂、酸発生剤、溶剤とを有する組成物。
[式(aa)中、T1は、置換基を有していてもよいスルトン環基を表す。]
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樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔1〕及び〔2〕の提供。〔1〕式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。
[式(aa)中、T1は、置換基を有していてもよい炭素数4〜34のスルトン環基。Raは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基。Z1は、*−X1−CO−(但し、X1は、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基)で表される基などを表す。]〔2〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。
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パターン形成方法
【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の20〜100モル%の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第1のレジスト膜を形成する工程と、第1のレジスト膜上に第1のレジスト膜を溶解させない炭素数3〜8のアルキルアルコールを溶媒とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して、第2のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第1と第2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。
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感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法
【課題】本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのLWRに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]下記式(2)で表される化合物を含む酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)を十分に満足するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(a)で表される構造単位とラクトン環を有する構造単位とを含む樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(a)で表される構造単位を有する樹脂及び式(B1)で表される塩を含有するレジスト組成物。
[式中、R1は水素原子又はメチル基;A1は、単結合、脂肪族炭化水素基等;A2は炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基;環W1は炭素数4〜36の脂肪族環;環W2は、炭素数4〜18のラクトン環;Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基;Lb1は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基;Yは置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基;Z+は有機カチオンを表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性が良好で、レジストパターン形状も良好なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、一般式(d1)で表される含窒素有機化合物(D1)とを含有するレジスト組成物。
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ジカルボン酸モノエステル誘導体およびアクリル酸エステル誘導体の製造方法
【課題】リソグラフィー特性に優れるレジスト材料に用いられる高分子化合物の原料となる(メタ)アクリル酸エステル誘導体を製造するにあたり、工業的に入手容易な原料を用い、安全で安価に工業的規模で製造することが可能となる合成中間体を提供すること、および該合成中間体を用いた(メタ)アクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で示されるジカルボン酸モノエステル誘導体、および該ジカルボン酸モノエステル誘導体を用いた(メタ)アクリル酸エステル誘導体の製造方法。
(式中、R1は、水素原子または−COOR2(R2は、炭素数1〜5のアルキル基を表すか、または炭素数1〜3のアルキル基で置換された若しくは無置換の炭素数3〜10の環状炭化水素基を表す。)を表す。Yは、メチレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、Zは、>C=Oまたは>S(=O)2を表す。また、nは、1〜3の整数を表す。)
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レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物
【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、および該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記(A)として、酸の作用によりアルコール性水酸基を生じて親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を用いる。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、一般式(b1−1)[式中、Z+は有機カチオンを表す。]で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。
[化1]
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法
【課題】特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位(A)、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位(B)、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(C)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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ポリマー、ポリマーの製造方法、光学材料用樹脂組成物、成形体、光学材料およびレンズ
【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記脂肪族多環構造の環骨格を構成する2以上の原子が前記ポリマーの主鎖を構成しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】形状の優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】(A)式(a)で表される化合物に由来する第1の構造単位と、式(a0)で表される化合物に由来する第2の構造単位とを有する樹脂及び(B)酸発生剤を含むレジスト組成物。
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ポリマー、ポリマーの製造方法、光学材料用樹脂組成物、成形体、光学材料およびレンズ
【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記繰り返し単位内において主鎖を構成する原子から酸素1原子または硫黄1原子を介して前記脂肪族多環構造が結合しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。
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ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
【課題】高感度、高解像度で、ラフネス(LWR)が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される基を有する繰り返し単位aと、カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位bとを含む、重量平均分子量が1,000〜500,000の高分子化合物をベース樹脂として含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化1】
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パターン形成方法
【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位と、ラクトン環を有する繰り返し単位の両方を含有する(メタ)アクリレート共重合体と、酸発生剤と、有機溶剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、3−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸2−フェニルエチルから選ばれる溶剤1種以上を40質量%以上含有する溶液による現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、安全にネガティブトーンパターンを形成できるプロセスを構築できる。
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パターン形成方法
【解決手段】式(1)で示される酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位aと、ラクトン環を有する繰り返し単位bを含有する(メタ)アクリレートポリマーと、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に現像液として2−ヘプタノンを50質量%以上含有する溶液による現像を行うパターン形成方法。
(式中、R2は酸不安定基である。)
【効果】安全にネガティブトーンパターンを形成できるプロセスを構築できる。
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パターン形成方法
【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の2回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による2回の現像によって1本のラインを2本に分割し、マスクパターンの2倍の解像力を得ることができる。
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化合物、樹脂及びレジスト組成物
【課題】優れた解像度のパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。A1は、単結合又は*−(CH2)m−CO−O−を表し、*は−O−との結合手を表し、mは1〜4の整数を表す。B1は、−O−又は−S−を表す。B2は、−CH2−、−O−又は−S−を表す。環W1は、置換基を有していてもよい芳香環を表す。]
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ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A’)を含有し、基材成分(A’)以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A’)が、一般式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)と、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物[式中、R1は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、R2は単結合又は2価の連結基であり、R3は、その環骨格中に−SO2−を含む環式基である。]
[化1]
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