【課題】低燃費性、機械的強度、耐摩耗性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有する共役ジエン系重合体であって、特定の不飽和カルボン酸系化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、イソプレン系ゴムとを含むことを特徴とするゴム組成物。


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、特定のアミノ基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、特定のアミノ基又は水酸基である。］ （もっと読む）

【課題】適用性に優れ、冷蔵保存時の析出が防止できるポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（成分Ａ）式（１）で表される構成単位Ａ及び構成単位Ｂを含み、重量平均分子量が１，０００〜１０，０００である共重合体、（成分Ｂ）式（２）で表される重量平均分子量が１，０００〜５０，０００である重合体、（成分Ｃ）酸により分解してカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、光酸発生剤、並びに、溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】 汚泥または廃水の処理において、強固な粗大フロックを形成させて汚泥の脱水処理効率を大幅に向上する等、脱水効果に優れた高分子凝集剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるビニル基含有モノマー（ａ）、または（ａ）および下記一般式（２）で表される（メタ）アクリロイル基含有モノマー（ｂ）を構成単位とする水溶性重合体（Ａ）を含有してなる高分子凝集剤。ＣＨ₂＝ＣＨ−（ＮＲ¹Ｒ²） （１）
ＣＨ₂＝ＣＲ³−ＣＯ−Ｘ−(Ｑ−Ｎ⁺Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶・Ｚ^-) _m(Ｈ)_1-m （２） （もっと読む）

【課題】適正感度が高く、屈折率が低くかつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】
（Ａ）中空又は多孔質粒子と、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、
（Ｃ）下記Ａ群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用により現像液への溶解性が変化する樹脂
を含有することを特徴とする感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。
＜Ａ群＞ 水酸基、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖 （もっと読む）

【課題】解像性および耐久性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を含む着色感光性樹脂組成物。
（Ａ）着色剤
（Ｂ）下記（ａ）と（ｂ）を共重合させて得られる共重合体に、（ｃ）を反応させて得られる樹脂
（ａ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）多官能チオール化合物
（Ｆ）溶剤 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性及び硬度を有する（メタ）アクリレート共重合体を提供する。
【解決手段】パーフルオロアダマンタン骨格及び（メタ）アクリロイル基を有する下記式（Ｉ）又は式（II）で表される（メタ）アクリレート共重合体。
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【課題】衝撃強度、引張破断伸びのバランスに優れる射出成形体を提供する。
【解決手段】 脂肪族ポリエステル（Ａ）１８〜５０質量％、下記の成分（Ｂ）４０〜７７質量％、及び相容化剤（Ｃ）３〜１５質量％を含有するポリエチレン系樹脂組成物からなる射出成形体（但し、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計量を１００質量％とする）。
成分（Ｂ）：密度が９０５〜９５０ｋｇ／ｍ^３であり、メルトフローレートが０．５〜２０ｇ／１０分であり、流動の活性化エネルギー（Ｅａ）が５５〜１００ｋＪ／ｍｏｌであるエチレン−α−オレフィン共重合体 （もっと読む）

【課題】繊維に対する柔軟性付与効果に優れる柔軟剤組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単量体（ａ）を構成単位とする高分子化合物（Ａ）を含有してなる柔軟剤組成物。
【化１】


式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基である。Ｘは−ＣＯＮ（Ｒ^２）Ｒ^３、−ＣＨ_２ＮＨＣＯＮ（Ｒ^４）Ｒ^５又は−ＣＨ_２ＮＨＣＯＯＲ^６で表される基であり、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】導電性ポリマーの原料として有用な新規高分子化合物の提供。
【解決手段】


〔Ｒ¹は、−ＳＯ₂−Ｏ−、−Ｏ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を示し、Ｒ²は、重合性官能基を示し、ｎは、１〜６の整数である。〕を重合させて得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】初期接着性と応力緩和性の優れた粘着剤の原料となり得る、１つの重合物中に高分子量の重合体と低分子量の重合体を含み、かつ低分子量重合体の量が相対的に多い重合物を容易に製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系単量体と、重合開始剤の存在下で重合を開始し、次いで、単量体の重合率が使用する全単量体量に対し、５〜４０％となった時点で、全単量体に対し、０.１〜１０質量％の連鎖移動剤を、一括で若しくは６０分以内の時間をかけて添加することを特徴とする低分子量重合体と高分子量重合体を含み、低分子量重合体の方が多いアクリル系重合体の製造方法並びにこの方法により得られるアクリル系重合体およびこれを利用するアクリル系粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及び下記式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１は、炭素数が１〜１０の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】特定の構造単位を有する樹脂を含有する新規なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するポジ型レジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｔ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基等；ｍは０又は１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない原子又は基；ｎ^aa１は１又は２を表す。］ （もっと読む）

【課題】各種樹脂との相溶性、接着性、電気絶縁性、低吸水性、熱安定性、界面活性効果に優れ、例えばコーティング剤、塗料、接着剤として有用な（メタ）アクリロイル基含有共重合体を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基と、カルボキシル基、エポキシ基、ハロホルミル基のいずれかの官能基を有する化合物と、式（２）のα−オレフィンを共重合モノマーユニットとして含むアリルアルコール共重合体とを反応して得られる、（メタ）アクリロイル基含有共重合体。


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜２０の脂肪族炭化水素基を表し、分岐していても、環状構造を含んでいても良い。） （もっと読む）

【課題】低発熱性、耐摩耗性及びウェットグリップ性の性能に優れるゴム架橋物を得るための変性共役ジエン系ゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明の変性共役ジエン系ゴム組成物は、エポキシ基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を１分子中に３以上有している変性剤にて、活性末端を有する共役ジエン系重合体鎖の少なくとも一部を変性させて得られるものであり、Ｔｇが−６０℃〜−１０℃である変性共役ジエン系ゴム（Ａ）と、変性剤にて、活性末端を有する共役ジエン系重合体鎖の少なくとも一部を変性させて得られるものであり、Ｔｇが−１２０℃〜−５０℃であり、変性共役ジエン系ゴム（Ａ）よりＴｇが２０℃〜１００℃低い変性共役ジエン系ゴム（Ｂ）と、の混合物を含み、変性共役ジエン系ゴム（Ａ）と変性共役ジエン系ゴム（Ｂ）との重量混合比が、ゴム（Ａ）：ゴム（Ｂ）にて、（５０：５０）〜（９５：５）である。 （もっと読む）

【課題】取り扱い性に優れ、かつ、水に溶解したときに溶け残りが発生しにくいポリビニルアルコール樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】重合工程（ステップＳ１）及び鹸化工程（ステップＳ２）を経て得たポリビニルアルコール樹脂スラリーを、１００〜１７０℃に加熱して、含有される揮発成分を１質量％以下にする（ステップＳ３）。その後、揮発成分を除去した樹脂を、直径が３〜８ｍｍμｍの孔を備える金型を使用して押出成形してストランド形状とし、押出成形後の樹脂を４５℃以下の温度になるまで空冷又は風冷する（ステップＳ４）。そして、冷却後の樹脂を粉砕し、長さが１〜１０ｍｍ、最大径が０．５〜３．０ｍｍの棒状粒子とする（ステップＳ５）。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ａ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。
【解決手段】特定のアセタール部分を含む単位と、ラクトン部分を含む単位とを含むポリマー。このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。このポリマー、組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされる。 （もっと読む）

【課題】 無機粒子を環状オレフィンポリマーに分散させるための表面修飾剤として用いることができる可能性がある従来の共重合体は、パラジウム化合物のような高価な触媒を用いる必要があるため、製造コストが高い。
【解決手段】 環状オレフィンポリマーとの親和性が高く、無機粒子に結合させることができる共重合体。 （もっと読む）

【課題】低コストで安全に製造可能な多塩基酸ビニルモノマー共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】スチレン無水マレイン酸共重合体を水またはアルカリ水溶液に溶解し、次いで、その水溶液を酸性にすることにより前記スチレン無水マレイン酸共重合体由来のスチレン単位と多塩基酸単位との共重合体を析出させて、この共重合体を含む多塩基酸ビニルモノマー共重合体を得る。 （もっと読む）