【課題】硬化して得られる硬化膜が柔軟性、破断伸度、機械的強度、及び耐汚染性を同時に兼ね備えるものであるような活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも（ａ−１）ポリイソシアネート、（ａ−２）脂環式構造を有する数平均分子量５００以下の低分子量ポリオール及び（ａ−３）ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、該組成物における計算架橋点間分子量の値が１０００〜６０００である活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】中心孔を有する磁気記録媒体の第１の主面上に第1の凹凸パターンを有する硬化した第1の紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、磁気記録媒体の第１の主面とは反対側の第２の主面上に第２の凹凸パターンを有する硬化した第２の紫外線硬化性樹脂材料層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、少なくともイタコン酸および／またはイタコン酸無水物と少なくとも１つのジオールを反応させることによって反応性不飽和としてのイタコン酸エステル単位を含む不飽和ポリエステル樹脂を製造するための方法において、（０．５）以下のゲル化活性係数を有しかつ（０．５５）から１までの効率係数を有する阻害物質の存在下で行われる方法に関する。 （もっと読む）

【課題】良好な表面品質および加工性を有するホログラフィック感光性ポリマーを調製でき、良好な比屈折率も有する、ポリウレタン組成物を提供する。
【解決手段】A)NCO基が主に脂肪族的に結合され、1.6〜2.05のOH官能価を有するOH官能性化合物に基づくNCO末端ポリウレタンプレポリマーを含有するポリイソシアネート成分、B)NCO反応性ポリエーテルポリオール、C)芳香族構造単位および405nmで1.50より大きい屈折率を有し、NCO基およびOH基を自身に含有しない、ウレタン（メタ）アクリレート、D)フリーラジカル安定剤、E)ホウ酸塩と400〜800nmのスペクトル域をカバーする吸収帯を有する染料との組み合わせに基づく光開始剤、F)触媒、G)助剤および添加剤を含んでなるポリウレタン組成物。 （もっと読む）

【課題】迅速な物理的乾燥が可能であり、乾燥後に高い耐ブロッキング性を有し、放射線硬化後に高い耐薬品性を有する硬いフィルムを生じる、放射線硬化性被覆系を提供する。
【解決手段】(A)NCO反応性基およびラジカル共重合性基を含有する、オリゴマーまたはポリマー化合物；(B)(A)以外の、OH官能基および(メタ)アクリレート基を含有するモノマー化合物；(C)(C1)脂肪族ジオールおよび／またはトリオールと(C2)芳香族ジカルボン酸および／またはトリカルボン酸とから得たポリエステルポリオール；(D)(A)、(B)および(C)以外のポリオール；(E)分散作用を有し、NCO反応性基と非イオン性基、イオン性基またはイオン性基形成性基とを含有する化合物；(F)有機ポリイソシアネート；(G)(A)、(B)、(C)、(D)および(E)以外のNCO反応性基含有化合物を構造成分として含んでなるポリウレタンアクリレート(i)に基づく放射線硬化性水性分散体。 （もっと読む）

【課題】所定のリタデーション値を有し、高透明であり、位相差の耐熱性に優れた位相差フィルムを提供する。
【解決手段】（１）所定のシリコーン樹脂と、（２）光重合開始剤及び／又は（３）熱重合開始剤とを含む樹脂組成物を硬化させて、１００℃で１０時間の加熱処理をした後の位相差フィルムの位相差値変化量が０〜２０ｎｍである位相差フィルムであり、また、樹脂組成物における上記（１）成分の不飽和基を０．１％〜５０％減少させる一次硬化により樹脂成形体を得た後、この樹脂成形体を所定の形状に切り出して延伸治具に固定し、任意方向に延伸倍率５〜７００％の範囲で延伸させて延伸樹脂成形体を得て、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び／又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、その後、室温まで冷却する位相差フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 光散乱強度が高い樹脂粒子を提供する。
【解決手段】 第一の樹脂（ａ）からなる体積平均粒子径が０．１〜２．０μｍの微粒子（Ａ）が平均１．５個以上第二の樹脂（ｂ）に内包されてなり、体積平均粒子径が０．３〜８０μｍである樹脂粒子を用いる。第一の樹脂（ａ）と第二の樹脂（ｂ）の屈折率差が０．０２〜０．２３であり、第一の樹脂（ａ）の溶解度パラメーター（ＳＰ値）が第二の樹脂（ｂ）のＳＰ値より低く、（ａ）と（ｂ）のＳＰ値の差（ΔＳＰ）が１〜５であるものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】水による現像が可能な感光性平版印刷版材料の印刷時の汚れを発生させる問題を解決すること。特に、現像処理装置の現像部分において絞りロールの表面にスラッジが付着し、感光性平版印刷版材料の表面汚染に起因する印刷時の地汚れの問題を解決することを課題とする。
【解決手段】支持体上に親水性層および水により現像が可能な光硬化性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料に関して、シリコーン系微粒子とアニオン性界面活性剤を光硬化性感光層に含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、化学線の作用下で重合によって反応する活性化エチレン不飽和基を有するポリイソシアネートの、特に反応性で低粘性の反応生成物の製造方法、および被覆組成物における該反応生成物の使用、およびそれから得られる特に耐引掻性の被覆物を提供する。
【解決手段】反応性における顕著な改良、放射線硬化性アロファネートの粘度におけるさらなる低減、それから得られる被覆物の耐引掻性における顕著な向上は、ヒドロキシアルキルアクリレートの適当な混合物に加えて、カプロラクトン変性ヒドロキシアルキルアクリレートおよびいくつかのアクリレート基を有するヒドロキシアクリレートを用いる場合に達成することができる。 （もっと読む）

本発明はパターンの複製方法に関し、前記方法は（ａ）複数の窪みまたは突起領域がその中に形成されているパターン付きテンプレート表面を備えたパターン付きテンプレートを準備する工程；（ｂ）（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖〔鎖（Ｒ_ｆ）：鎖Ｒ_ｆの分子量は１０００を超え、３５００未満である〕および少なくとも２個の不飽和部分を含む少なくとも１種類の官能性ペルフルオロポリエーテル化合物（化合物（Ｅ））と、少なくとも１種類の光開始剤とを含むある体積量の硬化性ペルフルオロポリエーテル組成物（組成物（Ｃ））を、前記パターン付きテンプレート表面に接触させる工程；（ｃ）前記組成物（Ｃ）を紫外線に曝してパターン付きモールド表面を備えたモールドを形成させ、前記モールドを前記パターン付きテンプレートから分離する工程；（ｄ）前記パターン付きモールド表面を（プレ）ポリマー組成物（組成物（Ｐ））と接触させる工程；および（ｅ）前記組成物（Ｐ）を加工してパターン形成された表面を有する物品を形成させ、前記物品を前記モールドから分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】樹脂層との密着性に優れためっき膜の形成に有用な、表面が平滑であっても、その表面に形成されるめっき膜との高密着性を達成しうるめっき用感光性樹脂組成物、それを用いた、表面金属膜材料、及びその作製方法などを提供する。
【解決手段】めっき触媒若しくはその前駆体と配位結合性の相互作用を形成する官能基と重合性基とを有するポリマー、及び、合成ゴムとエポキシアクリレートモノマーとベンジルアルコール基を有する重合性モノマーとからなる群より選択される１種以上を含有するめっき用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】コーティング剤に含有させる硬化成分であるウレタン（メタ）アクリレート、及びそれを含有しており基材へ付して硬化させた際に高い硬度を示しつつ収縮性を示さず基材を反り返らせるというカール性を殆ど示さない被膜を形成するためのコーティング剤を提供する。
【解決手段】ウレタン（メタ）アクリレートは、ジイソシアネート化合物の一方のイソシアネート基と水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基とでウレタン結合し、それの他方のイソシアネート基と水酸基含有ポリマーの水酸基とでウレタン結合していることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ポリウレタン水性分散体に基づく放射線硬化性被覆系、この被覆系の製造方法、この被覆系の塗料および／または接着剤としての使用、その塗料および／または接着剤が適用された物品および基材に関する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、適度な硬度及び柔軟性を有し、ベタツキ性が抑制された導光体の形成に好適な導光体形成用組成物、並びに、この組成物を用いて形成された導光シートを提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリエーテルポリオール、（Ｂ）ポリカーボネートジオール、（Ｃ）脂肪族及び／又は脂環族のポリイソシアネート及び（Ｄ）ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートを反応させてなるプレポリマーを含有することを特徴とする導光体形成用組成物であり、該プレポリマーは、ポリイソシアネート（Ｃ）として、少なくとも脂環族ポリイソシアネートが用いてなるものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、耐摩耗性および接着性に優れ、良好な光硬化性を有し、更には経時によっても安定であり、光照射後に熱処理を施すことなく良好な光硬化性を示すポリオルガノシロキサン構造を有するグラフト重合体およびこれを利用した光重合性樹脂組成物を与える。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン構造ユニットと、側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位を有する構造ユニットが硫黄原子を介して結合したポリオルガノシロキサングラフト重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】４００ｎｍの波長以下の光を遮断した可視光を利用した光硬化及び熱硬化の２段階硬化を特長とした液晶滴下工法用シール剤として最適な、硬化温度が低く、接着強度が高く、液晶への汚染性が低い液晶滴下工法用シール剤を提供すること。
【解決手段】下記の（１）、（２）、（３）及び（４）成分を含有する液晶滴下工法用シール剤。
（１）少なくとも１個以上の活性水素と少なくとも２個以上の窒素原子を分子内に有するポリアミンと、酸性化合物とを反応させて得られる反応生成物からなる硬化剤
（２）熱硬化性樹脂
（３）アシルホスフィン系光開始剤
（４）光硬化性樹脂 （もっと読む）

【課題】優れた外観、意匠性、耐磨耗性、耐薬品性及び耐候性を有し、光硬化性樹脂組成物の硬化直後でも光硬化性樹脂組成物の硬化物の層の表面が粘着性を有さず、耐磨耗性に優れた積層成形品を得ることができる光硬化性シート、光硬化性加飾シート、光硬化性成形用シート、それを用いた積層成形品及び積層成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】側鎖にラジカル重合性不飽和基を有するアクリル樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、無機微粒子（Ｃ）並びにシリコーン化合物（Ｄ）及びフッ素化合物（Ｅ）から選ばれる少なくとも１種の表面改質剤を含有する光硬化性樹脂組成物、基材シートの上に上記の光硬化性樹脂組成物の層が積層された光硬化性シート、光硬化性加飾シート、光硬化性成形用シート、それを用いた積層成形品及び積層成形品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストに配合してもフォトレジストの硬化に悪影響を与えず、硬化したフォトレジストの耐エッチング性が良好で、更に発泡性の少ないフォトレジスト用の分散剤を提供すること。
【解決手段】下記の一般式（１）で表されるフォトレジスト用反応性分散剤。


（式中、Ｒは酸素原子及び／または窒素原子が入ってもよい炭素数８〜２２の炭化水素基を表し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｍは２〜１００の数を表し、ｎは１または２の数を表し、Ｙは水素原子、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。ただし、（ＸＯ）_ｍ中のオキシエチレン基の割合は５０質量％以上であり、Ｙはアクリル基またはメタクリル基のいずれかが１つ以上入っていなければならない。） （もっと読む）

【課題】 本発明は、耐熱性、耐侯性、耐油性、圧縮永久歪、機械物性を損なうことなく、低透湿性が改善された硬化性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、（ａ）主鎖がＣ８〜２２の脂肪族アルキル基を有するビニル系単量体を５重量％以上含み、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）の値が１．８未満で、分子末端に１分子あたり少なくとも１個の架橋性官能基を有するビニル系重合体を含有する硬化性組成物に関する。 （もっと読む）

【解決課題】高温や光に暴露された環境下で長時間使用した場合に、そのコントラスト低下が極めて小さくなる耐熱性及び耐光性に優れた懸濁粒子デバイス用フィルムが得られる偏光性粒子を提供する。
【解決手段】沃化カルシウム、沃素、ピラジン−２，５−ジカルボン酸とを分散剤の存在下溶媒中で反応させて分子間化合物とする、懸濁粒子デバイスの偏光性粒子の製造方法において、前記分散剤として、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ−６７０３により定められる窒素分が１１．５〜１２．２％であり、重量平均分子量２０，０００〜６０，０００のニトロセルロースを用いることを特徴とする沃素と沃化カルシウムからなるポリ沃化物とピラジンジカルボン酸とから構成された分子間化合物からなる、懸濁粒子デバイスの偏光性粒子の製造方法、及びこうして得られた偏光性粒子を含有する懸濁粒子デバイス用フィルム。 （もっと読む）