【課題】本発明は、硬化反応を円滑に行うことが出来、未反応や低分子量のオルガノシロキサンの残留量が少ない有機−無機ハイブリッドポリマーを提供することを課題とする。
【解決手段】主鎖の片側または両側にアルコキシ基を有するアルコキシシラン部分を有する変性ポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドおよび／または類金属アルコキシドとの縮合反応、あるいはポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドおよび／または類金属アルコキシドとの縮合反応物に上記変性ポリジメチルシロキサンを導入した有機−無機ハイブリッドポリマーを提供する。上記変性ポリジメチルシロキサンの官能基濃度は高いので、有機−無機ハイブリッドポリマーの硬化反応性が改良される。 （もっと読む）

【課題】燃料電池に用いられる電解質膜として好適な、低加湿条件でも高いプロトン伝導性が得られるプロトン伝導材料を提供する。
【解決手段】メルカプトアルコキシシランのメルカプト基を酸化してスルホンさん基を導入し、トリアルコキシシランアルキルスルホン酸とテトラアルコキシシランのアルコキシ基を水酸基とし、これらのモノマーをゾル−ゲル法で作成した有機珪素ポリマーであって、隣接するクラスター間距離が５〜２０Åであるプロトン伝導材料、及びこれを用いた燃料電池。 （もっと読む）

【課題】耐候性などの耐環境適性や層間接着強度に優れる耐久性、その他の諸特性として防湿性、ガスバリア性などに優れ、長期間にわたる過酷な自然環境に耐え得る太陽電池用裏面保護シート及びそれを用いた太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】基材フィルム１ａの少なくとも片面にプライマー層１ｂを介して、無機酸化物蒸着層１ｃと、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）４…（１）で表されるケイ素化合物、及びその加水分解物のうち１つ、一般式（Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）₃）_n…（２）で表されるケイ素化合物、及び、その加水分解物のうち１つ（但し、一般式（１）および（２）中、Ｒ１，Ｒ３はＣＨ₃，Ｃ₂Ｈ₅，またはＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃、Ｒ２は有機官能基を表す）、及び、水酸基を有する水溶性高分子を含有する塗布液を塗布、乾燥して得られた被膜層１ｄを含むガスバリア性フィルムを基材として用いた積層フィルムを裏面保護シート１０とする。 （もっと読む）

ケイ素重合体骨格を有し、そのケイ素原子の少なくとも一部に発色団が直接結合し、更に該重合体がカルボシラン結合を示すことを特徴とするケイ素重合体材料である。膜成形組成物とその結果生じる被膜の性質は、特定の露光波長条件、デバイス製造条件及び設計条件に合わせて調整できる。異なる二つの発色団を用いることによって、屈折指数と吸収係数とを効果的に調整することができる。カルボシラン結合の割合を変えることによって、反射防止被膜組成物の指数と望ましいＳｉ含有量を得ることができる。 （もっと読む）

-Ｓｉ-Ｏ-単位を含有する骨格を有し、そのケイ素原子の少なくとも一部に発色団が直接結合していることを特徴とする有機-無機シリコーン材料である。膜成形組成物とその結果生じる被膜の性質は、特定の露光波長条件、デバイス製造条件及び設計条件に合わせて調整できる。異なる二つの発色団を用いることによって、屈折指数と吸収係数とを効果的に調整でき、反射防止被膜組成物の望ましいＳｉ含有量を得ることができる。高いＳｉ含有量は、良好な機械的性質及び熱的性質と、更に所要のウェットエッチング特性及びドライエッチング特性とを与えることになる。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）塩基性化合物の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物９を、加水分解性有機基１２と、非加水分解性有機基１０が同一のケイ素１１に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 （もっと読む）

【課題】 耐候性および耐汚染性に優れるだけではなく、高い透明性と硬度を有する硬化膜や硬化物を得させる複合微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる複合微粒子の製造方法は、有機鎖とポリシロキサン基から構成され、前記ポリシロキサン基中に少なくとも１個のＳｉ−ＯＲ^１基（Ｒ^１は水素原子、および、置換されていてもよいアルキル基、アシル基から選ばれる少なくとも１種の基であり、Ｒ^１が１分子中に複数ある場合、複数のＲ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。）を有する含珪素ポリマー（Ｐ）を、単独で、または加水分解可能な金属化合物（Ｇ）とともに、加水分解・縮合する工程と、加水分解・縮合物にエチレン性不飽和基を有するカップリング剤を反応させる工程と、を含む。 （もっと読む）

本発明は式1：[(O_3/2)SiCH₂CH₂SX]_a[Si(O_4/2)]_b[Si(O_3/2V)]_cの新規化合物に関する。式中、XはCH₂A、[CH₂CH₂NR¹]_pR²、CHCOX₁CH₂COX₂、(CH₂)_eCOY[CO(CH₂)_eSCH₂CH₂Si(O_3/2)]_m[CO(CH₂)_eSH]_nから選択され、Aは式CHNR¹R²COX₃のアミノ酸の残基又はアミノ酸の誘導体若しくは塩であり；R¹及びR²は水素、C_1-20アルキル、C_1-20アルキルアリール、C_1-12アシルから独立に選択され、Rは水素、金属イオン、C_1-5アルキルから選択され、pは1〜100であり、かつeは1又は2であり；X₁及びX₂はOR及びNR¹R²から独立に選択され；X₃はOR、NR¹R²又は既知アミノ酸及びタンパク質若しくはその誘導体から選択され；かつYは、置換されたz個以下のヒドロキシル基を有するポリオールの残基であり、m+n+1はz以下であり；該シリケート酸素原子の自由原子価は、式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐C_1-12-アルキル基又は末端基R³₃M¹O_1/2、架橋リンカー又はポリマー鎖R³_qM¹(OR⁴)_gO_k/2若しくはAl(OR⁴)_3-hO_h/2若しくはR³Al(OR⁴)_2-rO_r/2（ここで、M¹はSi又はTiであり；R⁴は線形若しくは分岐C_1-40、アリール又はC_1-40アルキルアリール基であり；R³は線形若しくは分岐C_1-40アルキル基又はアリール若しくはC_1-40アルキルアリール基であり；g+k+q=4であるように、kは1〜3の整数であり、qは1〜2の整数であり、かつgは0〜2の整数であり；hは1〜3の整数であり；かつrは1〜2の整数である）又は他の既知オキソ金属架橋系（該金属はジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドである）によって飽和しており、かつ整数a、b及びcは、i)比a:bが0.00001〜100,000であり、かつ式A_aB_bC_c中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100,000で変化するような数である。シリケート酸素原子の自由原子価は、式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐アルキル基、又はケイ素、アルミニウム、チタンを含有する末端基、架橋リンカー若しくはポリマー鎖又は他の既知オキソ金属架橋系によって飽和している。整数a、b及びcは、i)比a:bが0.00001〜100,000であり、かつ式A_aB_bC_c中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100,000で変化するような数である。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+cに対する比は0〜999:1である。本化合物は、不要な有機及び無機化合物の除去のため、固相抽出のため、固相合成のため、酸及び金属媒介不均一触媒のため、金属イオン抽出のため及び生体分子の固定化のためのスカベンジャーとして有用である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも次の成分：（ｉ）グリシジルオキシプロピルアルコキシシラン、（ｉｉ）＞１質量％の固体含有量を有する水性シリカゾル、（ｉｉｉ）加水分解触媒としての有機酸、及び（ｉｖ）架橋剤としてのｎ−プロピルジルコナート、ブチルチタナート又はチタンアセチルアセトナートを反応させることに基づき、０．７５の成分（ｉｉ）の固体質量対成分（ｉ）の質量比から出発する、あらゆる比率で水で希釈可能なゾルゲル組成物、その製造方法、その使用、特に腐食保護被覆、相応する腐食保護被覆又はプライマー被覆としてのゲル組成物としての使用、及びこのような被覆を備えた物品を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位（ａ）と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び／又はスルフィド基を有する構造単位（ｂ）とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び／又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アスベスト又はアスベストを主成分とする屑又は物質を、無害にする処理組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分を含む組成物。
(a) 式：Si(OR)₄（Ｒはアルキル）のオルガノシラン、式：M(OR)_m（ＭはＢ、Ti、Fe、Al、Mg、Ｖ、Zr、Ｗ、Ｐ又はLa）の金属アルコキシド、又はシリカのコロイド状懸濁液、
(b) 式：[X-(CH₂)_n ] _x -Si(OR)_4-x（Ｘはスルフヒドリル、アミノ、イソシアナト、（メタ）アクリロイル、エチルアクリロイル、ビニル、フェニル、アニリノ、ウレイド、チオシアナト、ニトリロ又はエポキシ基、ｎは０〜３、ｘは１〜３）のオルガノ珪酸化合物、
(c) エチレングリコール、（メタ）アクリル酸、マレイン酸又はフタール酸、ビニル、アクリルアミド又はエチレンオキシド、を主成分とするモノマー、及び
(d)フリーラジカル開始剤。 （もっと読む）

【課題】光の拡散反射性が向上したシリカ複合重合体粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】重合性ビニル系モノマー由来の重合体成分と、シリカ成分とを含むシリカ複合重合体粒子であって、前記シリカ成分が、前記重合性ビニル系モノマーに対し不活性なポリアルコキシシロキサンオリゴマーと、特定のシラノール基形成性シラン化合物とに由来し、前記シリカ複合重合体粒子を焼成して前記重合体成分を除去した場合、５０〜３００ｍ²／ｇの比表面積を有し、かつ表面に多数のヒダを有するシリカ粒子が得られるように、前記シリカ成分が、前記シリカ複合重合体粒子中に偏在していることを特徴とするシリカ複合重合体粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）

一段法で疎水性シリカ粒子を製造するための方法を提供する。前記方法によって製造される、任意で染料および／または磁化性成分を含む疎水性シリカミクロ粒子およびナノ粒子も提供する。本発明は、潜在指紋の検出、視覚化および／または分析における前記シリカナノ粒子の使用も含む。
（もっと読む）

【課題】 耐エッチング性、耐薬品性、及び耐湿性に優れ、密着性が良好であり、しかも誘電率の低いシリカ系被膜、該シリカ系被膜の形成に好適なシリカ系被膜形成用材料等の提供。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用材料は、ＣＨｘ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、Ｓｉ−ＣＨ_３結合、及びＳｉ−ＣＨｘ−結合を構造の一部に有するシリコーンポリマーを含む。ｘは、０〜２の整数を表す。シリコーンポリマーが一般式（１）〜（３）で表されるシリコン化合物と、一般式（４）〜（７）で表されるシリコン化合物とを加水分解縮重合反応させて得られる態様等が好ましい。
【化１３】


【化１４】


一般式（１）〜（７）中、ｎは０又は１を表す。Ｒ^１はｎ＝０のとき、塩素、臭素、フッ素及び水素のいずれかを表し、ｎ＝１のとき、炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、水素、カルボキシル基のいずれかを表す。Ｒ^２は炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、及び水素のいずれかを表す。Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれかを表す。 （もっと読む）

一般式（１）［Ａ¹_zＲ¹_pＳｉＯ_(4-p-z)/2］（１）［式中、ｚ及びｐはそれぞれ０〜３の値にある整数を意味し、
Ａ¹は同一又は異なる、水素−、アルキル−、シクロアルキル−、アリール−又はアルコキシ残基であって、脂肪族の線状又は分枝した又は脂環式のアルキル残基又はアリールオキシ残基を有する残基を意味するか、又は、官能基を意味し、
これは１８個までのＣ原子を含有し、更に１個又は複数個の同一又は異なるヘテロ原子であって、Ｏ−、Ｓ、Ｓｉ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｐ又はＮ原子から選択されたヘテロ原子を含有することができる、
その際、
Ｒ¹は同一又は異なる、脂肪族又は脂環式のアルコキシ−、アリールオキシ又はヒドロキシ残基又は残基Ａ¹を意味する］
の繰り返し単位から構成され、少なくともＴ単位又はＱ単位又はこの両方が存在しなくてはならず、かつこの他にＭ単位及び／又はＤ単位が存在することができ、かつ少なくとも１ｐｐｍのＨＣｌを含有することにより特徴付けられるシリコーン樹脂。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等の絶縁膜材料として、ＰＣＴ後の誘電特性、ＰＣＴ後のＣＭＰ耐性、ＰＣＴ後の基板との密着性に優れた膜が形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、（Ａ）下記式（１）、（２）中の少なくとも１種の化合物を水酸化テトラアルキルアンモニウムと水で加水分解、縮合した慣性半径が５〜５０ｎｍの物 Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ ・・・・・（１） （式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ^１は１価の有機基、ａは０〜２の整数を示す。） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（Ｏ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・（２） 〔式中、Ｒ^３〜Ｒ^６は同一または異なり、それぞれ１価の有機基、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^７は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｎ−で表される基（ここで、ｎは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕ならびに（Ｂ）有機溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）