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Fターム[4J246BA26]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si周りの酸素原子配置による分類 (3,467) | Q単位が主量 (456) | D単位又はT単位を含む (248) | Q単位とT単位とからなる (126)

Fターム[4J246BA26]に分類される特許

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【課題】高プロトン伝導性を有し、燃料遮断性及び耐久性にも優れるプロトン伝導性膜の提供。
【解決手段】ケイ素−酸素結合を有する架橋性化合物(A’)、ケイ素−酸素−ケイ素結合を形成し得る基及び重合性不飽和二重結合を有するシラン化合物(α)、酸基及び重合性不飽和二重結合を有する酸基含有化合物(β)及び重合開始剤を混合して、重合性組成物を調製する第一工程と、該重合性組成物を成膜する第二工程と、成膜した重合性組成物を重合させる第三工程とを有し、前記構造体(A’)が、下記一般式(1’)で表され、前記重合開始剤として、10時間半減期温度が異なる複数種類の重合開始剤を使用することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法。
〔化1〕
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【課題】 付着した汚れを水洗によって簡易に取り除くことが出来、水滴が付き難い表面を形成するフィルムを得るためのビニル基含有ポリシロキサン化合物とこれを含有する活性エネルギー線硬化性組成物及びフィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で示される化合物と一般式(2)で示されるシランカップリング剤を、一般式(1)中の−OR及び一般式(2)中の−OR,−OR,−ORで示される官能基の総モル数をMとし、水のモル数をWとしたとき、(W×4/M)+aの値が1.00以上1.40以下となる量の水を用いて縮合させて得られるビニル基含有ポリシロキサン化合物。 (もっと読む)


【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板1上に、アルキル基がSiに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒,シリカ粒子を混合したペースト材料2aをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、60〜100℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、200℃〜300℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜2bを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で15%含有するペースト材料3aを、第一段階で形成した膜2b表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜3bの膜厚が約0.5μmとなるように塗布し、乾燥,熱硬化処理を行い、前記膜2bを酸化ケイ素を主体とした膜4とする。 (もっと読む)


【課題】優れた耐候性、耐汚染性、耐クラック性を発揮し、かつ透明性も良好な有機・無機複合体を形成可能な有機・無機複合組成物を提供する。
【解決手段】無機酸化物粒子(A)、水溶性樹脂(B)、及び下記式(1)で表される原子団を1分子中に3〜20個有する多官能シラン(C)により構成される有機・無機複合組成物を提供する。
1nSiX3-nA− ・・・(1)
ここで、前記式(1)中、R1は、水素又は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、これらの置換基上には、ハロゲン基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の官能基を有していてもよい。
Xは加水分解基を表し、nは0〜2の整数である。
Aはメチレン基を2〜20個含む基であり、置換基を有してもよい。 (もっと読む)


【課題】フォトグラフィにおいて反射防止層として使用するための吸光性スピンオングラス材料、およびそのスピンオングラス材料の製造方法を提供。
【解決手段】スピンオングラス材料は、(a)強吸収性化合物;(b)良好な離脱基を有する少なくとも1種のシラン;および(c)(b)とは異なる、良好な離脱基を有する少なくとも1種のシラン化合物を重合して得られたシロキサン重合体から成り、(a)対(b)対(c)の比およびシロキサン重合体の吸光係数k値について凹形/凸形である関係を示すか、または凹形/凸形関係で囲まれた領域の中に位置せしめられる上記のシロキサン重合体族である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、TFT基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式(1)のポリオルガノシロキサンに含まれるケイ素原子結合水酸基の一部の水素原子が式(2)の酸不安定基で置換及び/又は式(3)の架橋基で架橋され、Mwが300〜200,000のポリオルガノシロキサン化合物。式(1)RSi(OR(OH)(4−a−b−c)/2


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【課題】グリシジル基含有メトキシシラン部分縮合物を用いることなく、ポリエステル樹脂の本来の性能である加工性や柔軟性等を維持しつつ、耐熱性に優れ、しかも硬度や耐溶剤性、プラスチック基材への密着性、透明性等に優れたゾル−ゲル硬化物を形成できる、新規なポリエステル樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】水酸基価が35〜110である、芳香族環構造を有する分岐状ポリエステル樹脂(A)、および一般式(I):RSi(OR4−m(式中、mは0または1の整数を、Rは炭素数8以下のアルキル基またはアリール基を、Rはメチル基を示す。)で表されるポリメトキシシラン類の部分縮合物(B)を含有する、ポリエステル樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する2種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 (もっと読む)


本発明により、ナノ粒子含有新規多孔質材料、クロマトグラフィー分離への利用、この調製法、およびクロマトグラフィー材料を含む分離デバイスが記載される。詳細には、本開示は、以下の酸化物または窒化物から選択されるナノ粒子を包埋した多孔質無機/有機ハイブリッド粒子を記載する:炭化ケイ素、アルミニウム、ダイヤモンド、セリウム、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、ジルコニウム、バリウム、セリウム、コバルト、銅、ユーロピウム、ガドリニウム、鉄、ニッケル、サマリウム、ケイ素、銀、チタン、亜鉛、ホウ素、およびこれらの混合物。
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【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】(a)成分:下記一般式(1)で表される1種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、(b)成分:前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、(c)成分:ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、30℃〜140℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
SiX4−n(1)[式(1)中、nは0〜2の整数を示し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基等を示し、Xは加水分解性基を示す。] (もっと読む)


【課題】無機部分の割合が大きく、製造時の安定性および保存安定性が良好であり、オキセタニル基を有する、縮合されたケイ素化合物を含有するカチオン硬化性組成物を提供する。
【解決手段】オキセタニル基を有する特定のケイ素化合物(A)と1個のケイ素原子および4個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物(B)とを、ケイ素化合物(A)1モルに対してケイ素化合物(B)0.3〜2.8モルの割合で、アルカリ性条件において加水分解・縮合反応させて得られるケイ素化合物(C)、およびカチオン重合開始剤を含有するカチオン硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒、塩基性極性溶媒、界面活性剤の存在下において、アルコキシシランおよび有機化アルコキシシランの自己組織化により得られることを特徴とする表面が有機修飾され、粒子径の制御された球状シリカを提供する。
【解決手段】有機溶媒、塩基性極性溶媒、界面活性剤の存在下において、アルコキシシラン(A)および有機化アルコキシシラン(B)の自己組織化により得られることを特徴とする表面が有機修飾された球状シリカの製造法。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単に作業性良く表面を均一着色したものとすることができ、それを化粧品原料として使用する場合には肌へののりや密着性に優れ、皮膜によって化粧落ちし難く、しみ等の隠ぺい力にも優れる等、望まれる複数の性能を同時に有する着色有機シリコーン微粒子を提供する。
【解決手段】下記の有機シリコーン微粒子の表面に水不溶性植物色素を付着させた。
有機シリコーン微粒子:ポリシロキサン架橋構造体から成る有機シリコーン微粒子であって、縦断面で見て内側小劣弧(11)とこれを覆う外側大劣弧(21)と双方の端部間に渡る稜線(31)とで形成された、全体としては中空半球状体様を呈し、内側小劣弧(11)の端部間の幅(W)の平均値が0.01〜9.5μm、外側大劣弧(21)の端部間の幅(W)の平均値が0.05〜10μm、且つ外側大劣弧(21)の高さ(H)の平均値が0.015〜9μmの範囲内にある有機シリコーン微粒子。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記式(1)で表される繰り返し単位、及び下記式(2)で表される繰り返し単位を含有する樹脂と、溶剤と、を含む。
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ケイ素ポリマー材料であり、ケイ素原子の少なくとも1部分に直接的に付着された発色団基を有するケイ素ポリマー骨格をもち、そのポリマーはさらにカルボシラン結合を見せる。フィルム形成性組成物および得られるコーティングの特性は、特定の露光波長およびデバイス製造および設計の品質にふさわしいように合わせることができる。2つの異なる発色団を用いることによって、屈折率および吸収係数を効率的に調整することができる。カルボシラン結合の割合を変動させることによって、そして反射防止コーティング組成物の所望のSi−含量を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】電子デバイスなどの層間絶縁膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有する層間絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式(1)で表される化合物と下記一般式(2)で表される化合物とを酸触媒により脱水縮合して得られるポリマーを含有することを特徴とする。
【化1】


(R〜Rのうち、少なくとも2つはヒドロキシル基、メトキシ基等から選ばれ、残りはメチル基、エチル基等から選ばれる。Aはカゴ型構造を有する構造を表し、Y〜Yのうち少なくとも2つはヒドロキシル基であり、残りは水素、メチル基、エチル基等から選ばれる。) (もっと読む)


【課題】高温処理を行なう必要なく、低誘電率で且つ高い機械的強度を有する被膜を形成することができる低誘電率被膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】低誘電率粒子とマトリクス形成材料とを含有する低誘電率被膜形成用樹脂組成物に関する。低誘電率粒子が、テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、4級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、2つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させた後、酸溶液中で4級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を抽出することによって調製されたメソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塗布性に優れ、ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】 下記式(1)


ここで、Zは波長200〜400nmの光により架橋反応もしくは異性化反応を生じる感光基であり、Xは水酸基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のアルコキシル基、あるいは他の繰り返し単位のXと一緒になって−O−を介して架橋を形成していてもよい、
で表わされる繰り返し単位を有し且つ重量平均分子量が1,000〜100,000の範囲にあるポリオルガノシロキサン。 (もっと読む)


本発明は、多官能基シルセスキオキサン、その生成方法、およびその塗装に関し、少なくとも1つの第1の面と、前記少なくとも1つの第1の面から離れた少なくとも1つの第2の面と、少なくとも1つの第1の面に結合する少なくとも1つの第1の官能基と、第1の官能基とは異なり少なくとも1つの第2の面に結合している少なくとも1つの第2の官能基とを含む多面体シルセスキオキサンを含む。具体的な一観点において、シルセスキオキサンのシリカは、オクタ(テトラメチルアンモニウム)シルセスキオキサンオクタアニオンを経て米のもみ殻灰から誘導できる。
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【課題】耐イオンエッチング性および耐熱性を改善したポリシルセスキオキサンならびに該ポリシルセスキオキサンからなる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式(1a)で表されるケイ素化合物R1aSi(OR23または、式(1b)で表されるケイ素化合物R1bSi(OR33と、式(1b)で表されるケイ素化合物R1bSi(OR33および式(1c)で表されるケイ素化合物R1c1dSi(OR42からなる群から選択される1種以上のケイ素化合物とを含む混合物を加水分解後、縮合させて得られる芳香環およびビニル基を有するケイ素化合物。 (もっと読む)


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