【課題】耐水性及び耐薬品性に優れた逆浸透膜フィルタを提供する。
【解決手段】逆浸透膜フィルタは、−Ｓｉ−Ｘ−Ｓｉ−結合を有する無機有機ハイブリッド逆浸透膜を備えている。上記Ｘは、一つ以上の水素が置換されていてもよい飽和若しくは不飽和アルキル鎖を表す。Ｓｉ−Ｃ結合は水溶液中でも安定であり、加水分解しない。このため、逆浸透膜フィルタは、耐水性に優れる。また、無機有機ハイブリッド逆浸透膜は塩素負荷をかけても分解せず、耐薬品性にも優れる。 （もっと読む）

【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を１分子中に少なくとも１個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れ、製造直後のみならず、経時的（例えば、２週間の保管後）にも良好な透明性を示す紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ケイ素原子に結合するメルカプトアルキル基を含有するポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和基を含有するオルガノポリシロキサン；
（Ｃ）光反応開始剤；及び
（Ｄ）脂肪族不飽和基を含有するシラン化合物
を含む紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物の製造方法であって、
少なくとも（Ａ）及び（Ｂ）を混合した後、８０〜１８０℃に加熱処理することを特徴とする、製造方法である。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、更には、基板に対する密着性に優れ、かつ高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）アルカリ可溶性基及び重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、アルカリ可溶性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位と、重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、又はアルカリ可溶性基を含む１価の基と重合性基を含む１価の基とを有する珪素原子を含有する構造単位を少なくとも含有する化合物、とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】
低ガス透過性を示すシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）下記平均組成式（１）で示され、かつ１分子中に２個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数４〜８のシクロアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜１０の、アルケニル基及びシクロアルキル基を除く、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ^３は炭素数２〜８のアルケニル基であり、ａは０．３〜１．０、ｂは０．０５〜１．５、ｃは０．０５〜０．８の数であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＝０．５〜２．０である）
（Ｂ）下記平均組成式（２）で示され、かつ１分子中に２個以上の、ケイ素原子に結合した水素原子（即ち、ＳｉＨ基）を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
【化２】


（式中、Ｒ^１は炭素数４〜８のシクロアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜１０の、アルケニル基及びシクロアルキル基を除く、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ａ＝０〜１．４、ｂ＝０．６〜１．５、ｄ＝０．０５〜１．０の数であり、但しａ＋ｂ＋ｄ＝１．０〜２．５である）
（Ｃ）硬化触媒の触媒量
（Ｄ）酸化防止剤 （Ａ）＋（Ｂ）の合計１００質量部に対し０．００１〜３質量部
を含有するシリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを主成分として構成された膜中に微細細孔を形成又は膜の表面に微細な凹凸が形成する事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗装したときに塗膜の高い紫外線遮蔽性を有し、その結果被塗物（下地）への損傷が低く、かつ、基材を保護する光透過性と表面保護、耐汚染性、耐候性等を同時に満足する水性硬化性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】中和された酸基を有する重合体セグメント（Ａ）と、ポリシロキサンセグメント（Ｂ）とが化学結合してなる複合樹脂（ＡＢ）のポリシロキサンセグメント（Ｂ）と、アルキル基の炭素数が１〜３のアルキルトリアルコキシシランの縮合物（ｃ）由来のポリシロキサンセグメント（Ｃ）とが珪素−酸素結合を介して結合している複合樹脂（ＡＢＣ）が水性媒体中に溶解又は分散した水性硬化性塗料組成物であって、且つ、前記水性硬化性塗料組成物中に、紫外線吸収剤（Ｄ）を含有することを特徴とする水性硬化性塗料組成物、該水性硬化性塗料組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】
ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを母材とし、粒子径が５０ｎｍ以下のフッ化マグネシウムが１乃至９０重量％含まれる事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 （もっと読む）

【課題】光の拡散効果が制御可能な光拡散樹脂および該樹脂を用いた発光装置を提供する。
【解決手段】特定の直線光透過率と全光線透過率の比を有する、シリコーン系粒子を含有する光拡散樹脂を使用することで、光拡散効果の制御が可能な光拡散樹脂および該樹脂を用いた発光装置とする。前記光拡散樹脂は、シリコーン系粒子を含有し、かつ、４００ｎｍの波長における直線光透過率と全光線透過率の比（直線透過率（％）／全光線透過率（％））を制御する。 （もっと読む）

【課題】 発泡体の表面粘着性の上昇を押さえ、かつ、加熱養生後も黄変せず、硬くなりにくい変成シリコーン樹脂発泡体を提供すること。
【解決手段】 耐光性安定剤（Ｅ）として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、紫外線吸収剤を含んでなる変成シリコーン樹脂発泡体であって、紫外線吸収剤が、ベンゾエート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、蓚酸アニリド系紫外線吸収剤、マロン酸エステル系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、オキサゾロン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、反応性紫外線吸収剤を反応・結合させた共重合樹脂型紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種である変成シリコーン樹脂発泡体。 （もっと読む）

【課題】シート状基材表面に高速塗工時にミスト発生量が少ない無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】
(A)粘度が２５〜１,０００ｍＰa・ｓであり、アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサン：１００重量部、(B)粘度が１０,０００ｍＰａ・ｓ以上であり、脂肪族不飽和基含有量が０.１モル％以下であるジオルガノポリシロキサン：０.５〜１５重量部、
(C）平均シロキサン単位式〔1〕: (ＳｉＯ_4/2)(Ｒ^aＲ^b₂ＳｉＯ_1/2)_x 〔1〕
で示される分岐状オルガノシロキサンオリゴマーとジオルガノシロキサンオリゴマーとの平衡重合体であり、１より多いＳｉＯ_4/2単位を有する分岐状オルガノポリシロキサン：０.５〜５重量部
(D)粘度が１〜１,０００ｍＰa・ｓであるオルガノハイドロジェンポリシロキサン所定量、及び、(Ｅ）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量からなり、粘度が５０〜２,０００ｍＰa・ｓである無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】規則的なメソ細孔構造を有し且つ多量のピリジン基やビピリジン基が導入されたメソポーラス有機シリカを形成するための有機シラン化合物を提供すること。
【解決手段】 下記式（１）：
【化１】


（式（１）中、Ｘ^１はｍ価のピリジン基またはビピリジン基を表し、Ｙ^１は単結合、またはエチレン基、エテニレン基およびエチニレン基からなる群から選択される１種の２価の基を表し、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は置換または無置換のアリル基を表し、ｍは２〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であり、複数存在するＹ^１は同じであっても異なっていてもよく、Ｒ^１、Ｒ^２がそれぞれ複数存在する場合には同じであっても異なっていてもよい。）
で表されることを特徴とする有機シラン化合物。 （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



［式（１）中、Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル残基、ＱはＲｆ基とＺとを連結する２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有する３〜１１価のポリオルガノシロキサン残基、Ｒは炭素数８〜４０の１価の有機基、ｎは１〜８の整数、Ａは下記式（２）に示した基であり、ｋは１〜９の整数、但し、ｎ＋ｋ＝（Ｚの価数−１）である。



（式（２）中、Ｒ’は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは２〜１０の整数である。）］ （もっと読む）

【課題】ポリジメチルシロキサンのようなもろい材料からなる型を用いる転写成型プロセスに適した、成型性に優れる高屈折率感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）成分：（ａ）下記一般式（１）：


で示されるシラノール化合物、下記一般式（２）：


で示される少なくとも１種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．１〜３０質量部、及び（ｃ）１分子内に３つ以上のアクリロイル基を有する化合物５〜３００質量部、を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、ポリシラザンの組成物を有する少なくとも１つの濡れ表面を備えた、液体クロマトグラフィーを実施するためのデバイスおよびこのようなデバイスを作製する方法を特徴とする。
（もっと読む）

【課題】有機変性シロキサンブロックコポリマーを含む乳化剤システムを提供する。
【解決手段】本発明は、有機変性シロキサンブロックコポリマーを含む乳化剤システム、それらの使用、特に、化粧用製剤、皮膚外用製剤または医薬製剤の調製、ならびにケアおよび洗浄用組成物の調製、また該乳化剤システムの助けを借りて調製される製品そのものにも関する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

加水分解性ポリマーを作製するための改善されたプロセスであって、当該プロセスは、とりわけ、特定のシリルオルガノハライド化合物とシアン酸の塩とを活性水素含有ポリマーの存在下において反応させることを含む。 （もっと読む）

本発明は、中和シリコーンエラストマー分散体、及び中和シリコーンエラストマー分散体を製造する方法に関する。本発明はまた、中和シリコーンエラストマーと酸反応性化合物とを含む組成物に関する。シリコーンエラストマー分散体は、典型的に、シリコーンエラストマー分散体を重炭酸ナトリウム等の塩基と配合させることによって、又は塩基性中和剤を、シリコーンエラストマー分散体を生成するのに用いられる原料の１つ又は複数に添加すると共に、濾過又は任意の他の好適な手段により塩基性中和剤を除去することによって中和される。 （もっと読む）