【課題】様々な油剤との親和性を有しており、また、構造化特性、ゲル化特性に優れており、更に、優れた触感、特にベルベット調の厚みのある滑らかさが持続し、しかも塗布初期から乾燥後まで全くべとつきを生じない優れた触感を与え、更に、しわ隠し効果(マスキング効果)等の優れた美容効果をもたらす新規なオルガノポリシロキサンエラストマー及びその製法を提供すること。
【解決手段】ケイ素原子に結合したシロキサンデンドロン構造を有する基を有し、且つ、架橋部に炭素−ケイ素結合を含む架橋構造を有するオルガノポリシロキサンエラストマー。 （もっと読む）

【課題】水を含む組成物中においても乳化安定性が高く、シリコーンに比べて、高極性無機化合物や毛髪や皮膚といった生体組織、繊維等の各種基材への親和性が高いシリコーン誘導体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表わされるシリコーン誘導体。


（一般式（１）において、２ｎ＋２個のＸのうち少なくとも一つは、一般式−Ａ−Ｑｍで表わされ、その他のＸ及びＲは、それぞれ独立に炭素数１〜２２のアルキル基、若しくはアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、ポリエーテル基又は水酸基であり、ｎは０〜３０００００の整数である。Ａは、窒素原子を有する炭化水素基でありＱはアミノ酸誘導物基からなりｍは１〜１０の整数である。 （もっと読む）

【課題】100℃未満の加熱処理で硬化して各種基材に対し良好な接着性を示し、150℃以下での接着耐久性に優れたチキソ性を有する熱硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び該組成物と各種基材との接着方法を提供する。
【解決手段】(A)直鎖状ポリフルオロ化合物、(B)SiH基を2個以上有し、他の官能性基を有さない含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(C)白金族金属系触媒、(D)含フッ素有機基、SiH基、エポキシ基及び／又はトリ(オルガノオキシ)シリル基並びにアリール基を有する含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン、(E)多価アリルエステル化合物、(F)エポキシ基及びオルガノオキシ基を有し、SiH基を有しない有機ケイ素化合物、(G)SiH基及びアリール基を有し、エポキシ基、トリ(オルガノオキシ)シリル基及び含フッ素有機基を有しない有機ケイ素化合物、(H)アクリル基又はメタクリル基とエポキシ基又はオルガノオキシシリル基を有する有機化合物を含有する組成物。 （もっと読む）

【課題】溶媒への溶解性に優れ、更に、密着性が向上したステロール変性オルガノ（ポリ）シロキサンを提供すること、及び、反応時間を短縮し、ステロールの特性を低下させることなく、簡単かつ収率良く製造することができる、ステロール変性オルガノ（ポリ）シロキサン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される、分子量４００〜１００，０００のステロール変性オルガノ（ポリ）シロキサン。
【化１】
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【課題】多面体オリゴマーシルセスキオキサン（polyhedral oligomeric silsesquinoxane）(POSS)ケージ分子においてケイ素-酸素骨格（framework）の選択的操作を可能とする方法を提供する。
【解決手段】シリコーン、またはプロトン性溶媒(例えばROH、H₂Oなど)と反応してヒドロキシド[OH]^-；アルコキシド[RO]^-などを生じ得るいずれかの化合物のいずれかを標的とし得る塩基の作用を利用する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)を製造する3つの方法。これら３つの方法によって、重合、グラフトまたはその他の望ましい化学反応に好適なPOSS種へと最終的に変換される、さらなる化学操作を受け得る新たなPOSS種が得られる。 （もっと読む）

【課題】シロキセンに導入する官能基を任意に選択することが可能なシロキセン複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記組成式（２）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＯＲ^３）_６−ａ （２）
（式（２）中、Ｒ^３は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｅは炭素数１〜３０の炭化水素基、１≦ａ≦５。）
で表されるシロキセン誘導体と、
下記式（３）：
ＨＮＲ^１Ｒ^２ （３）
（式（３）中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭化水素基または複素基を表し、前記ＮＲ^１Ｒ^２において、Ｒ^１とＲ^２が互いに結合して含窒素複素環を形成していてもよい。）
で表される含窒素化合物とを有機溶媒中で反応させて、
下記組成式（１）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＮＲ^１Ｒ^２）_６−ａ （１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は前記式（３）中のＲ^１およびＲ^２と同一、Ｅおよびａは前記式（２）中のＥおよびａと同一。）
で表されるシロキセン複合材料を得ることを特徴とするシロキセン複合材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光光の反射を抑制し良好なパターン形成が可能であり、ケイ素含有反射防止膜の上層であるフォトレジスト膜、下層であるナフタレン骨格を有する有機膜との間で良好なドライエッチング特性を有し、保存安定性の良好なケイ素含有反射防止膜を形成するための、熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、この熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物から形成されるケイ素含有反射防止膜が形成された基板、更にこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、ナフタレン骨格を有する下層膜としての有機膜の上に、１９３ｎｍにおける屈折率ｎと消衰係数ｋが以下の式の関係を満たすケイ素含有反射防止膜を形成可能な熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物。２ｎ−３．０８≦ｋ≦２０ｎ−２９．４であり、０．０１≦ｋ≦０．５ （もっと読む）

【課題】末端ヒドロカルビルオキシ基含有ジオルガノポリシロキサンを比較的小規模な設備により効率よく短時間に製造する方法を提供する。更に、該ジオルガノポリシロキサンを連続的に製造する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサン、（Ｂ）下記一般式（１）：(R¹O)_aR²_3-a-Si-H(Ｒ^１は独立に炭素原子数１〜８の非置換又はアルコキシ基置換１価炭化水素基、Ｒ^２は炭素原子数１〜１３の１価炭化水素基、aは1〜３の整数)で表されるヒドロシリル基含有ヒドロカルビルオキシシラン、及び（Ｃ）白金族金属系触媒、を含む反応液を管状反応装置内で該管状反応装置の軸方向に沿って往復振動させることにより混合して、（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを（Ｃ）成分の存在下で反応させることを特徴とする特定の構造を有する末端ヒドロカルビルオキシ基含有ジオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】触媒成分等の不純物の残存量が少ない両末端ヒドロカルビルオキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサンを濾過操作なしに効率よく製造する方法を提供する。更に、該不純物を連続的に分離除去し、かつ、熱履歴により増粘するのを抑えて該ジオルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）両末端にシラノール基を有するジオルガノポリシロキサンと、（Ｂ）特定のヒドロカルビルオキシシランとを、（Ｃ）アンモニア、沸点が20℃以下であるアミンまたはこれらの組み合わせ、の存在下で縮合反応に供して反応混合物を得、得られた反応混合物を減圧加熱することにより該反応混合物から（Ｃ）成分、アルコールおよび未反応の（Ｂ）成分を分離除去する、ことを特徴とする特定の末端構造を有する両末端ヒドロカルビルオキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサンの製造方法。前記減圧加熱は薄膜蒸発器により行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 遊離フェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物に容易に変換可能なポリシロキサン化合物、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）のシラン化合物中にアルコキシ基１当量当り０．７５〜１０当量の水で加水分解した反応物で、^２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定の珪素種Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３と帰属される全シグナル中Ｔ^３の面積が２０〜１００%であるポリシロキサン化合物、及び式（１）の化合物を加水分解するポリシロキサン化合物の製造方法。
【化１】
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【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理を行わずに、少ない照射量の偏光または非偏光の放射線によって液晶配向膜を形成することのできる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（ａ）


（式（ａ）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基であり、Ｙはハロゲン原子または１価の有機基であり、Ｙがハロゲン原子である場合にはＷは単結合であり、Ｙが１価の有機基である場合にはＷは単結合または２価の有機基であり、Ｚは２価の有機基であり、ａは０〜４の整数である。）
で表される基を有する重合体または化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】溶解性が良く、重合開始剤及び顔料として有用な新規な高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させた顔料及び該顔料を含有する顔料組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物。
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【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位、及び下記式（２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂と、溶剤と、を含む。
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本発明は、少なくとも１種の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有する多成分系の形の有機珪素化合物をベースとする室温で縮合反応により永久弾性材料に架橋可能な材料、その製法並びにその使用に関するが、これは、成分（Ａ）が式［Ａ−ＣＲ^１_２］_ｃＳｉＲ_ａＹ_ｂＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ）／２}（Ｉ）の単位少なくとも１個を含有する有機珪素化合物（１）少なくとも１種を有し及び成分（Ｂ）が（２１）水及び（２２）式Ｒ^２_ｘ（ＯＨ）_ｙＳｉＯ_{（４−ｘ−ｙ）／２}（ＩＩ）の単位を含有する有機珪素化合物から成る群から選択したＯＨ基を有する少なくとも１種の化合物（２）を含有し、その際基及び指数は請求項１に記載したものを表すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、高温高湿環境下で水分の影響を適度に受け、ＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電及び画像出力が可能な帯電部材を提供する。
【解決手段】最外層がオキシアルキレン基を有するポリシロキサンから形成されている帯電部材であって、該ポリシロキサン中の水酸基量（帯電部材表面にゲルマニウムプリズムを当接して顕微ＡＴＲ−ＩＲ法にて全反射の赤外線吸収強度を測定した時、Ｃ−Ｈ伸縮振動由来のピーク（２９３２ｃｍ^-1）の強度を１００とし、それに対する水酸基由来のピーク（３３５２ｃｍ^-1）の強度の大きさ）が５０．０％以上１００．０％以下であることを特徴とする帯電部材。 （もっと読む）

【課題】モールドの形状を高精度に転写することができ、且つ、基体との密着性、モールドの剥離性が良好なナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び製造された構造体を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ−１）で表される構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ）を含有する膜形成組成物をナノインプリント用に用いる。


［式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。］ （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
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本発明は、少なくとも1つの重合可能なビニル部分を有する親水性二カチオン性シロキサン・プレポリマーに関するものである。このプレポリマーにより、架橋密度と弾性率が小さくなっているが他の特性は犠牲にされないコンタクト・レンズおよび／または生体医学装置が得られる。 （もっと読む）

新規蛍光多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）着色剤が提供される。着色剤は、蛍光性が強く、長持ちし、優れた光安定性を有する。新規着色剤は、通常の顔料にみられる発色団から調製することができ、不溶性顔料を可溶性蛍光着色剤に変換する簡単な方法を提供する。 （もっと読む）