【課題】本発明は、シロキサン含有量を有する有機バインダーおよび無機ナノ粒子を含んでなる水性処方物、その製造方法および水性被覆組成物の製造のためのその使用に関する。
【解決手段】ヒドロキシル基を含有するポリオルガノシロキサンを含有する水性コポリマーは、無機ナノ粒子との組み合わせで、優れた光沢および非常に低い曇り（曇り度）での著しく向上した耐引掻性を有する被覆物の製造に適していることを見出した。 （もっと読む）

【課題】
ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子に容易に反応性のハロゲノ基を導入することができる新たな製造方法及びそれによって得られたハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の提供。
【解決手段】
アルケニル基を有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子を、ハロゲン化スクシンイミド及び脂肪族アルコールと反応させることを特徴とするハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下のかぶりの発生と低温低湿環境下のブロッチの発生とを同時に抑制可能な、信頼性の高い現像ローラ並びに電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。
【解決手段】軸体と、該軸体の周囲に設けられた樹脂層とを有する現像ローラにおいて、該樹脂層の最表面層が、下記式（１）で表されるシリコーン化合物を含有する。


式（１）中、Ｒ₁乃至Ｒ₉はそれぞれ独立してアルキル基、Ｒ₁₀は少なくともオキシアルキレン基の繰り返し構造を含む有機基、Ｒ₁₁及びＲ₁₂はそれぞれ独立してアルキル基、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１以上の整数である。 （もっと読む）

本発明は、式Ｖ−（Ｒ²）_p-m（［ＳｉＲ₂Ｏ］_n−ＳｉＲ₂Ｒ¹）_m （Ｉ）〔式中、基および指数は、請求項１記載の意味を有する〕の超分枝化されたシロキサン（Ａ）を含有する発泡性調製物、その中に含有された超分枝化されたシロキサン、低い密度を有するシリコーン含有ポリウレタンフォームならびに該ポリウレタンフォームの製造法に関する。 （もっと読む）

【課題】可視光領域の波長における透過性にすぐれ、耐熱性が高く、クラック耐性や耐溶剤性に優れた膜を形成できる特性を有する新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有するシルセスキオキサン単位と、芳香族炭化水素基を有するシルセスキオキサン単位と、脂肪族炭化水素基を有するシルセスキオキサン単位とからなり、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと１〜９９重量％の割合で均一な液体となるシリコーン共重合体。 （もっと読む）

【課題】水溶性、活性エネルギー線硬化性、水性インクの形成材料などに用いた場合の安定性に優れた活性エネルギー線硬化型液体組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、環状エーテル基を含有する加水分解性シランの縮合物に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を付加させてなる反応物を含んでなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型液体組成物。
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【課題】本発明は、（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物、およびその（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物を開示する。本発明の（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物の製造方法も開示し、本方法は精製工程をさらに含む。高輝度発光装置用の封入剤の調製への使用に好適な高純度（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物もさらに開示する。 （もっと読む）

【課題】高い誘電率の絶縁膜を形成することができ、しかも表面平滑性が損なわれがたい、シルセスキオキサン系絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記の式（１）で示す構造を有するポリシルセスキオキサンを含むことを特徴とする。
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【課題】従来よりも長波長の励起光で励起可能な、発光強度および発光効率に優れた蛍光体およびそれを含む発光性組成物、ならびにそれを用いた発光素子の提供。
【解決手段】希土類金属と、構造中に少なくとも一つのシロキサン結合を有するホスフィンオキシド配位子とからなる蛍光体と、それを含んでなる発光性組成物。この蛍光体は、ホスフィンオキシドが配位した希土類錯体に、シロキサン結合を有する化合物を反応させることにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率が高いポリマーからなる封止材を用いた発光装置を提供する。
【解決手段】本実施の形態における発光装置は、発光素子と、上記発光素子が封止された封止部とを備え、上記封止部は、下記式（１）で表される１種又は２種以上の構成単位を有し、屈折率が１．５５以上の重合体からなる。式（１）において、Ｒは、水素原子、アルキル基、又はフェニル基であり、Ｙは、炭素数１乃至６のアルキル基又は炭素数１乃至６のアルキルオキシ基であり、Ｚは、所定の条件を満たす芳香族化合物である。
【化１】
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【課題】塗布性に優れ、ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】 下記式（１）


ここで、Ｚは波長２００〜４００ｎｍの光により架橋反応もしくは異性化反応を生じる感光基であり、Ｘは水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、あるいは他の繰り返し単位のＸと一緒になって−Ｏ−を介して架橋を形成していてもよい、
で表わされる繰り返し単位を有し且つ重量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲にあるポリオルガノシロキサン。 （もっと読む）

キャリア液体中にシリコーン-有機エラストマーを含有するシリコーン-有機ゲルおよびゲルペースト組成物が開示されている。このシリコーン-有機エラストマーは、直鎖状または分岐状オルガノ水素シロキサン、α,ω‐不飽和ポリオキシアルキレン、およびヒドロシリル化触媒の反応生成物である。このシリコーン-有機エラストマーは、特に有機キャリア液体をゲル化するのに有用である。このゲルおよびゲルペーストは、多くのパーソナルケアおよびヘルスケア活性成分との高い相溶性をもたらす。 （もっと読む）

【課題】表面修飾化合物に共有結合される表面を有する、表面修飾ポリマーを提供すること。
【解決手段】表面修飾ポリマーであって、バルクポリマーマトリクス（反応性官能基がこのバルクポリマーマトリクス中に分散されている）、および該反応性官能基に共有結合される表面修飾化合物を有するポリマー表面を有する表面修飾ポリマーが提供される。ポリマーと表面修飾化合物との間の共有結合の形成は、ポリマー中に存在する固有の官能基と、表面修飾化合物の官能基との間の反応によって上記課題は解決される。固有の官能基を有するポリマーを使用することによって、別個の表面活性化工程が避けられる。 （もっと読む）

【課題】レジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を実現する。
【解決手段】本発明のレジスト下層膜形成用組成物は、硫黄原子を含む１価の有機基を有する繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することで、レジストとのマッチング特性が良好なレジスト下層膜を形成し得る。 （もっと読む）

【課題】２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、
［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、ならびに
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】コーティング液用の界面活性剤の提供。
【解決手段】式１のオルガノポリシロキサンを含有する界面活性剤を用いる


Ｒは炭化水素基、ｊは０、１〜２０、ｋは１〜１０、Ｘは式２〜３の有機基


Ｑは非還元性の二又は三糖類の残基、ＯＡはオキシアルキレン基、Ｇは３−ヒドロキシ−１−オキサブチレン基｛-Ｏ-ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２-｝又は３−ヒドロキシメチル−１−オキサプロピレン基｛-Ｏ-ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）-｝、Ｙは有機基、ｎは１〜４０、ｍは２〜４。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）レジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する第一のパターンどうしの間に、ポリシロキサンを含む樹脂成分及び溶媒を含有するとともに、酸発生剤から発生する酸の作用により架橋可能な樹脂組成物からなる未架橋埋め込み部を形成する工程と、（３）未架橋埋め込み部の所定領域を架橋させて、第一のパターン、第一の架橋部、未架橋埋め込み部、及び第二の架橋部がこの順で配列して繰り返す配列構造を形成する工程と、（４）第一のパターン及び未架橋埋め込み部を除去して第二のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】効果的に親水性を付与することが可能であり、広範囲の用途で使用可能な非イオン界面活性剤となる糖アルコール変性オルガノポリシロキサン化合物およびその製造方法を提供。
【解決手段】式（１）で表される糖アルコール変性オルガノポリシロキサン化合物。


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８の炭化水素基、Ｘは式（２）で表される基、Ｙはオキシアルキレン基含有基を表す。）


（式中、Ｒ^３は炭素数３〜５の２価の炭化水素基であり、ｄ＝１〜２である。） （もっと読む）

式：（Ｍ^１）_ａ（Ｄ^１）_ｂ（Ｄ^２）_ｃを含有するシリコーン組成物が開示され、式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^４Ｒ^５ＳｉＯ_２／２であり；そしてＤ^２＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；ここで、Ｒ^１は独立して各々、アミノ基以外の反応性の末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^６は一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルを含有し；そして、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、およびＲ^７は独立して一価の炭化水素ラジカルであり；ここで、ａ、ｂおよびｃは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ａは２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
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