【課題】安全で環境汚染の危険性の無いポリシランの製造方法であって、分子量分布の狭いポリシランを収率よく製造し得るポリシランの製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）：
Ｘ^１（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍＸ^１ （１）
（式中、ｍは１〜３であり、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２の（置換）ビニル基、炭素数６〜１２の（置換）アリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２の（置換）アミノ基またはシリル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で表されるジハロシランを、ハロゲン化サマリウム(II価)およびサマリウムの存在下、光を作用させて重合することにより、
一般式（２）：
−（（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍ）_ｎ− （２）
（式中、ｎは２〜１０００であり、ｍ、Ｒ^１およびＲ^２は前記と同義である。）
で表されるポリシランを形成させる、ポリシランの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のシルセスキオキサンに比較して、低温で流動性を有し、成形が容易なシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式（１）中、Ｘはそれぞれ独立にＸ１またはＸ２で表わされ、Ｘのうち少なくとも１個はＸ２であり、Ｒ^１〜Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、又は有機基。ｍ、ｎはそれぞれ独立に１〜１０の整数であり、Ｙは特定の架橋基である。）で表されるシロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。 （もっと読む）

【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン（例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など）の重合末端（ハロシリル基、シラノール基など）を、炭化水素基（例えば、アルキル基など）などの封鎖基により封鎖する。 （もっと読む）

【課題】光反応性基を有する新規なポリシロキサン化合物およびその製造方法、および上記のポリシロキサン化合物よりなる屈折率変換材料を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン化合物は、下記式（a）で表される基を有する。


〔式中、Ｒ²は、特定の光反応性基を示し、Ｒ³は、メチレン基または炭素数２〜１０のアルキレン基を示し、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に炭素数１〜１０の炭化水素基を示す。ｎは０または１。〕 （もっと読む）

【課題】加水分解時に香を放出し、長期に香気を呈するように香気分子の放出速度の遅い化学修飾されたポリマー状シロキサン。
【解決手段】式（Ｒ^１Ｏ）_ａ（Ｒ^２Ｏ）_ｂ（Ｒ^３Ｏ）_ｃ（Ｒ^４）_ｄ（Ｒ^５）_ｅＳｉＲ^Ｕの置換基を含んでなる香気放出性シロキサン。式中、Ｒ^Ｕは原子数２〜４０の二価炭化水素基であり、Ｒ^１Ｏ、Ｒ^２Ｏ及びＲ^３Ｏは各々独立にアルコールＲ^１ＯＨ、Ｒ^２ＯＨ及びＲ^３ＯＨから誘導される香気性アルコキシド部分であって、Ｒ^１ＯＨ、Ｒ^２ＯＨ及びＲ^３ＯＨは独立に香気性アルコールであり、Ｒ^４及びＲ^５は炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基及び炭素原子数１〜４０の一価アルコキシ基からなる群から選択され、符号ａは１〜３の範囲の値を有し、符号ｂ、ｃ、ｄ及びｅはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝３であることを条件として０〜２の範囲の値を有する。 （もっと読む）

【課題】 成形加工性に優れ、近赤外線吸収性を有するかつ硬化性組成物及びその硬化物を提供することである。さらにまた耐リフロー性を有することにより近赤外線吸収光学部品用として有用な硬化物となる。
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、ヒドロシリル化触媒、ＳｉＨ基含有ケイ素化合物、および近赤外線吸収剤からなる硬化性組成物及びその硬化物が近赤外線吸収光学部品用の組成物及び硬化物となる。 （もっと読む）

【課題】ポリ乳酸の湿熱安定剤として有用な新規ポリシリルカルボジイミド化合物を提供する。
【解決手段】カルボジイミド基の窒素原子が、シリル原子により結合されている特定構造を重合度１〜２０のくり返し単位で有し、末端に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基またはエステル基あるいはエーテル基で封止されているポリシリルカルボジイミド化合物である。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずに、様々な近赤外光を吸収するポリシラン薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に下記の一般式で表される架橋ポリシラン薄膜を形成した後、加熱処理することにより該架橋ポリシラン薄膜の吸収スペクトルを変化させて、近赤外光を吸収するポリシラン薄膜とする。
【化１】


（式中、Ｒ_１は、縮合多環芳香族基を表し、Ｒ_２は、アリール基又は縮合多環芳香族基のいずれかを表し、Ｒ_３は、アルキル基を表す。また、ｘ及びｙは、整数を表す。） （もっと読む）

【課題】硬化性に優れる上、高強度、高モジュラスで、更に耐湿性および耐温水性に優れた接着性のゴムとなる脱アルコール型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】(A) 分子鎖末端が水酸基もしくはアルコキシシリル基で封鎖され、23℃における粘度が50〜100,000mPasであるポリオルガノシロキサン100重量部、(B) 特定の分岐構造を有する長鎖アルキル基含有シラン化合物0.1〜20重量部、(C) 無機質充填材３〜500重量部、および(D) 硬化触媒0.001〜10重量部から成ることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】高温及び低相対湿度下で、低酸浸出性及び高プロトン伝導性を示す、機械的及び熱的に安定な高分子電解質膜を提供する。
【解決手段】ポリマー電解質膜（ＰＥＭ）は、少なくとも１つの多孔性支持フィルムと、少なくとも１つの多孔性フィルムに結合した、ヘテロ環にグラフトされた少なくとも１つのポリシロキサンポリマーを含むポリシロキサンポリマーとを含んでおり、このＰＥＭを利用した燃料電池は比較的高温（例えば１００℃より高い温度）で使用することができ、一酸化炭素被毒を軽減することにつながる。 （もっと読む）

【課題】高い分子量のポリカルボシランを収率良く得ることができるポリカルボシランの製造方法の提供。
【解決手段】式２のポリカルボシランの製造方法は、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属と、ハロゲン化アルカリ金属との存在下、式１で表されるシラン化合物を反応させる工程を含む。ＳｉＲ^１_４−ｍ（Ｒ^２−Ｘ）_ｍ（１）（式中、Ｒ^１は同一又は異なり、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシロキシ基、スルホキシ基、メタンスルホキシ基、トリフルオロメタンスルホキシ基、Ｃ数１〜１０個のアルキル基、ビニル基、アリール基、アリル基及びグリシジル基から選ばれる基を示し、Ｒ^２は同一又は異なり、置換又は非置換のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、又はアリーレン基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは１〜２の整数を示す。）−（Ｓｉ（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｒ^２）_ｎ−（２）、ｎは１〜１０，０００の数を示す。 （もっと読む）

本発明は、純粋化合物又は化合物の混合物としてのハロゲン化ポリシラン（ポリシランとして以下に示す）、また、このポリシランを熱処理による製造方法に関する。ポリシランはその²⁹Si NMRスペクトルでの特性変化及びラマンスペクトルでのバンドの典型的な強度比によって特徴付けられる。ポリシラン（Sn_nX_y）は高比率の分枝鎖及び環を有する。ハロゲン化ポリシランの製造方法は、高い処理量（工業生産）や特に可溶性のポリシランの製造に関して改善されている。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
（もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する下式（１）の化合物と、ハロゲン原子を有する下式（２）のシラン化合物とを反応させ、フルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを提供する。
（もっと読む）

【課題】保存安定性が優れ、硬質シリカ系層を形成できる液状硬化性組成物；均一性と平坦性と耐クラック性と密着性に優れた硬質シリカ系層を形成できるコーテイング方法；耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、機械的強度、耐薬品性等が優れた無機質基板；精度と信頼性と長期間安定性が優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】水酸基を有する多価金属酸化物微粒子が分散している有機溶媒中で、ハイドロジェンハロシランもしくはアルコキシシランを縮合反応または加水分解縮合反応させて得られた液状硬化性組成物。該組成物を無機質基板にコーテイングし、硬化させて硬質シリカ系層を形成する、無機質基板のコーテイング方法。該硬質シリカ系層を有する無機質基板。該無機質基板上に半導体層を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】
透明性に優れ、光配線材料などとして好適な分岐型ポリシラン化合物を提供する。
【解決手段】
式：Ｒ^１Ｓｉ（Ｘ^１）_３（式中、Ｒ^１は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（１）、式：Ｒ^２Ｓｉ（Ｘ^２）_３（式中、Ｒ^２は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、Ｘ^２はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（２）、および式：Ｒ^３Ｒ^４Ｓｉ（Ｘ^３）_２（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^４は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、Ｘ^３はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（３）を縮重合させることを特徴とする分岐型ポリシラン化合物の製造方法。 （もっと読む）

共重合体を含むシリコン組成物を提供する。共重合体は、一般式：Ｈ−［ＳｉＨ_２ＣＨ_２］_ｘｎ［Ｓｉ（Ｒ_１）ＨＣＨ_２］_ｙｎ［ＳｉＨ（Ｒ_２）ＣＨ_２］_ｚｎ−Ｈで示され、式中、Ｒ_１は、メチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはブトキシ、Ｒ_２は、アリル、プロパギルまたはエチニル、そしてｘ，ｙおよびｚが０でないときｘ＋ｙ＋ｚ＝１である。前述の共重合体を使用した炭化ケイ素系材料と、それによって生成された生成物の生成方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】 エンジニアリングプラスチックなどの樹脂の溶融成形における流動性を向上又は改善する。
【解決手段】 樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（チオ）エーテル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリイミド系樹脂、超高分子量ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱可塑性樹脂）に、ポリシラン化合物で構成された改質剤を添加する。前記ポリシラン化合物は、例えば、ポリアルキルアリールシラン（ポリメチルフェニルシランなど）、ポリジアリールシラン（ポリジフェニルシランなど）などであってもよい。前記改質剤は、樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１〜５０重量部程度の割合で樹脂に添加できる。 （もっと読む）