【課題】透明性、耐熱性、耐衝撃性、寸法安定性、及びガスバリア性に優れるロール状ガスバリア性積層体フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】籠型シルセスキオキサン構造を有する硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が２０００MPa以上１００００MPa以下、線膨張係数が８０ppm/K以下、及びガラス転移温度が３００℃以上である第一の層と、籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が１００MPa以上であって、第一の層の引張弾性率の８０％以下であり、且つ塑性変形を示し、ガラス転移温度が３００℃以上である第二の層とが、厚み比率（第二の層の厚み÷第一の層の厚み）０．０１以上５．０以下で積層されてなり、かつ、その一方の面又は両方の面にガスバリア層を設けたガスバリア性積層体フィルム。 （もっと読む）

シリコーン組成物は、（Ａ）式：（Ｒ^１Ｒ^２_２ＳｉＯ_１／２）_ｖ（Ｒ^２_２ＳｉＯ_２／２）_ｗ（Ｒ^２ＳｉＯ_３／２）_ｘ（Ｒ^３ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ［式中、オルガノポリシロキサン樹脂が、ケイ素が結合したエポキシ置換有機基を１分子当たり平均少なくとも２つ有するという条件で、Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_１０ヒドロカルビルであり、Ｒ^２はＲ^１又はエポキシ置換有機基であり、Ｒ^３はＣ_４〜Ｃ_８アルキルであり、ｖは０〜０．３であり、ｗは０〜０．５であり、ｘは０〜０．９であり、ｙは０．１〜０．８であり、ｚは０〜０．５であり、ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１である］を有するオルガノポリシロキサン樹脂と、（Ｂ）有機溶媒と、（Ｃ）光開始剤とを含む。シリコーン組成物を含んだ１以上の層を有する平面光導波路組立品、及び、平面光導波路組立品の製造方法が提供される。 （もっと読む）

本発明の主題は、第１工程で一般式Ｉのアルキルトリアルコキシシラン１００質量部を、一般式ＩＩのアルキルアルコキシシラン０〜５質量部、水４００〜２５００質量部及び乳化剤５〜５０質量部と１０〜１００℃で混合し、その際にアルコールが生じ、第２工程で、前記第１工程で生じたアルコールを最大で０．５質量％のアルコールの全含有量にまで蒸留により除去する方法により製造可能なシリコーン樹脂エマルション（ＳＥ）である（その際、一般式Ｉのアルキルトリアルコキシシラン及び一般式ＩＩのアルキルアルコキシシランは請求項１に記載されている）。本発明の主題は、石膏を、一般式ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ及びＶＩＩの単位から構成されたＨ−シロキサン及びシリコーン樹脂エマルション（ＳＥ）で処理する石膏を疎水化する方法でもある（その際、一般式ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ及びＶＩＩの単位は請求項４に記載されている）。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形体においては全光線透過率及び光拡散性等の光学特性の一層の向上、また化粧品においては使用感、ソフトフォーカス性及び持続性等の一層の向上等、近年における要求の高度化に充分に応えることができる中空異形微粒子、その製造方法及びその用途を提供する。
【解決手段】表面（１１）に複数の凹部（２１）を有しており、内部（３１）に一つの中空部（４１）を有していて、表面（１１）と中空部（４１）とが長径（Ｌ_１）の方向に沿う１本の割れ目（５１）を介して連絡されている全体として紡錘形状の中空異形微粒子であって、長径（Ｌ_１）の平均値が０．１〜３０μｍ、短径（Ｌ_２）の平均値／長径（Ｌ_１）の平均値＝０．３〜０．８であることを特徴とする中空異形微粒子を用いた。 （もっと読む）

高粘度シリコーンポリマーを含む水中シリコーン型エマルジョンを製造する方法および装置を提供する。種々の態様において、ポリオルガノシロキサンを高粘度シリコーンポリマーに重合し、次いで、連続方法で乳化させる。この場合において、本方法を、単一の装置を用いて実行する。ある態様では、提供する装置は、ポリオルガノシロキサンを高粘度シリコーンポリマーに重合し、次いでこのポリマーを乳化させる押出機である。
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【課題】酸発生剤等を添加することなく、実質的にシラノール基同士を縮合させることなく、十分な硬化性を有するｍｍオーダーの膜厚の硬化体を形成することができるエポキシ基含有ポリシロキサン、その製造方法および硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一定の分子構造を有するエポキシ基含有アルコキシシランと、一定の構造を有する２官能アルコキシシランと、重量平均分子量が３００〜５０００の範囲にあるヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサンとを反応させる工程、および前記工程の反応生成物を水と反応させる工程を含む、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲にあるエポキシ基含有多官能ポリシロキサンの製造方法、この製造方法により得られるポリシロキサン、およびこのポリシロキサンと金属キレート化合物とを含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】任意の水で希釈が可能な水溶性ケイ素化合物の製造方法を提供することであり、本製造方法で得られる水溶性ケイ素化合物を使用し、多孔質の酸化ケイ素の粉体や酸化ケイ素を含むガラス体を得ることが可能な水溶性ケイ素化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式（１）で表されるケイ素化合物又は下記式（１）で表されるケイ素化合物の縮合物と、分子内に少なくとも１以上の水酸基及び／又はアミノ基を有する水溶性化合物とを接触させた後に、酸性物質を接触させることを特徴とする水溶性ケイ素化合物の製造方法。


［式（１）中、Ｒ^１ないしＲ^４は、互いに同一でも異なってもよい、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、Ｒ^１ないしＲ^４の少なくとも１つの基は、中心のＳｉ原子とＳｉ−Ｏ結合をする酸素原子を有する基である。］ （もっと読む）

【課題】 新規な含ケイ素ポリマー、その製造方法、及び高屈折率の硬化物を形成する硬化性ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 平均単位式：
(Ｏ_２／２ＳiＲ^１−Ｒ²−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^２−ＳiＲ^１Ｏ_２／２)_ｘ[Ｒ^３_ａＳiＯ_{（４−ａ）／２}]_ｙ(Ｒ^４Ｏ_１／２)_ｚ
（式中、Ｒ^１は置換若しくは非置換の一価炭化水素基、Ｒ^２は置換若しくは非置換のアルキレン基、Ｒ^３は置換若しくは非置換の一価炭化水素基、Ｒ^４はアルキル基又は水素原子、ａは、０≦ａ≦３を満たす正数、ｘ、ｙ及びｚは、０＜ｘ＜０.１、０＜ｙ＜１、０≦ｚ＜０.１、かつ、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たす正数）で表される含ケイ素ポリマー、（Ａ）一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有する上記含ケイ素ポリマー、（Ｂ）一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有する有機ケイ素化合物、及び（Ｃ）ヒドロシリル化反応用触媒から少なくともなる硬化性ポリマー組成物。 （もっと読む）

本発明は、１以上の異なるポリシロキサン物質を使用して形成された無毒性ポリシロキサン物質および熟成ポリシロキサン物質に関する。そのような熟成ポリシロキサン物質を本発明に従い例えば紡糸して生物吸収性および／または生物活性繊維を得、ついで更に加工して不織布を形成させることが可能である。 （もっと読む）

本発明の主題は、
ａ）コア−オルガノポリシロキサンポリマーＡ、コポリマーの全質量に対して１０〜９５質量％、
ｂ）式
（Ｒ₃ＳｉＯ_1/2）_w（Ｒ₂ＳｉＯ_2/2）_x・（Ｒ₁ＳｉＯ_3/2）_y・（ＳｉＯ_4/2）_z
［式中、ｗ＝０〜２０Ｍｏｌ％、ｘ＝０〜９９．５Ｍｏｌ％、ｙ＝０．５〜１００Ｍｏｌ％、ｚ＝０〜５０Ｍｏｌ％である］
の単位からなるポリジアルキルシロキサンシェルＢ、コポリマーの全質量に対して０．５〜３０質量％、
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマー又はポリオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＣ、コポリマーの全質量に対して０〜８９．４５質量％及び
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＤ、コポリマーの全質量に対して０．０５〜８９．５質量％
から構成され、
上記式中、Ｒは、請求項１に記載した意味合いを有し、かつ、この粒子は、１０〜３００ｎｍの平均粒径及び単峰性の粒径分布を有し、
但し、ポリジアルキルシロキサンシェルＢ中で少なくとも５％の残基Ｒは、アルケニル残基、アシルオキシアルキル残基及びメルカプトアルキル残基から選択される意味合いを有する、との条件付きである、
エラストマーの粒子形状のコア−シェルコポリマー及びその製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、（１）約０．４以上のＴ２：Ｔ３比（ここで、Ｔ２は−５６ｐｐｍ〜−５９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度であり、Ｔ３は−６５ｐｐｍ〜−６９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）、及び（２）約０．０５超の（Ｔ２＋Ｔ３）／（Ｔ２＋Ｔ３＋Ｍ）比（ここで、Ｍは＋７ｐｐｍ〜＋１８ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）を有する疎水性の表面処理されたシリカ粒子を提供する。本発明は、疎水性の表面処理されたシリカ粒子の調製方法をさらに提供する。
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【課題】芳香族炭化水素を使用せず、低エネルギー及び短時間で、常温で固体状のポリオルガノシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｒ^１_３ＳｉＯ_０．５単位、但しＲ^１は炭素数１から１０の１価炭化水素基である、とＳｉＯ_２単位とを有する、２５℃で固体状のポリオルガノシロキサンを製造する方法であって、
［１］オルガノシラン及び／又はオルガノジシロキサンと、テトラアルコキシシラン及び／又はその部分加水分解縮合物とを、酸触媒の存在下で加水分解反応及び縮合反応に付する工程、
［２］液状脂肪族炭化水素を添加する工程、但し、当該工程は、工程［１］の前、工程［１］の間、工程［１］の後のいずれに行われてもよい、次いで、
［３］液状脂肪族炭化水素相と水性相とを分液し、次いで、前記水性相を除去する工程、
を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）塩基性化合物の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】分散安定性および経時安定性に優れたポリオルガノシロキサンの水性コロイド分散液を、制約条件がより少ない簡易な方法によって得る。
【解決手段】本発明のポリオルガノシロキサンコロイド分散液の製造方法は、（Ａ）一般式：Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ………（１）（式中、Ｒ^１は置換または非置換の１価の炭化水素基を示し、Ｒ^２は置換または非置換のアルキル基を示す。ａは０，１，２または３である。）で表されるオルガノアルコキシシランを、酸性水中で加水分解してオルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液を得る工程と、（Ｂ）前記オルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液に、アニオン性界面活性剤またはＰＶＡ系分散剤の存在下でアルカリ水溶液を添加し、ｐＨ９〜１２の塩基性水中で縮合反応させる工程を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、耐熱性、耐湿性、通信波長における透明性（低光損失性）を同時に満足する、特に、光導波路用材料として優れた、光学材料用硬化性組成物及び該組成物を硬化させて得られた部材を備えてなる光導波路を提供することにある。
【解決手段】本発明の光学材料用硬化性組成物は、必須の構成成分として、（Ａ）特定のケイ素含有重合体；（Ｂ）特定のエポキシ樹脂；及び（Ｃ）：エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低誘電率を維持しつつより一層高い機械的強度を達成することが可能な膜を形成できる有機無機複合体、その有機無機複合体からなる膜、及びその膜を用いた半導体装置の各製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機無機複合体の製造方法は、下記式（１）；


で表される架橋性化合物を加水分解及び脱水縮合させて有機無機複合体を形成する方法である。式中、Ｍはケイ素原子等を示し、Ｘは架橋に関与する−Ｏ−結合等を示し、Ｒ¹は非末端部に環状炭化水素又はその誘導体を含む二価の基を示し、Ｒ²はメチル基等を示し、ｎ１，ｎ２は０〜２の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】膜中の非架橋部位が低減されて十分に低い誘電率を呈する膜を形成できる有機無機複合体、その有機無機複合体からなる膜、及びその膜を用いた半導体装置の各製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機無機複合体の製造方法は、第一調製工程で調製した特定の架橋性化合物を含む前駆体Ａと、第二調製工程で調整した酸触媒を含む前駆体Ｂとを混合工程で混合して、特定の架橋性化合物を加水分解させた後、複合体形成工程において、その加水分解物にアルカリ触媒を加え、その加水分解物を縮合させて有機無機複合体を形成する方法である。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、気密性能、低融点特性を同時に満たす有機無機ハイブリッドガラス状物質が、種々の分野で求められていた。
【解決手段】出発原料を混合し、作成したゲルを有機溶媒に溶解後アルカリ水溶液を加え、有機層と水層に分離し、この有機層を乾燥後溶融することによって目的とする物質を得ることを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。ゾルゲル原料にフェニル基を持つ物質が少なくとも１種類含まれる特徴もある。また、この方法で製造されたことを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質。 （もっと読む）