【課題】優れた耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性及び接着性を有する被膜を形成できる光関連デバイス封止用組成物、その硬化物並びに該組成物による封止方法を提供する。
【解決手段】（イ）平均組成式：Ｒ¹_a(ＯＸ)_bＳｉＯ_(4-a-b)/2
（Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基又はアリール基、Ｘは式：−ＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴（Ｒ²〜Ｒ⁴は１価炭化水素基）で表される基と、アルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基又はアシル基との組み合わせ、ａは1.00〜1.5の数、ｂは０＜ｂ＜２の数、但し、1.00＜ａ＋ｂ＜２）
で表される重量平均分子量５×10⁴以上のシリル化オルガノポリシロキサン、及び
（ロ）縮合触媒
を含む光関連デバイス封止用樹脂組成物、該組成物を硬化させてなる透明な硬化物、並びに該組成物を半導体素子に塗布することと、該半導体素子に塗布された組成物を硬化させることとを有する半導体素子の封止方法。 （もっと読む）

【課題】安定であり、ゲル化が起こり難く、厚膜としてもクラックが生じ難い高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法、その製造方法により製造された高分子量オルガノポリシロキサンを含有する組成物、並びにその組成物の硬化物で封止した光半導体装置を提供する。
【解決手段】加水分解性基を有するシラン化合物を第一次加水分解縮合に供してオルガノポリシロキサンを得ることと、該オルガノポリシロキサンを更に第二次加水分解縮合に供することとを含む、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５×10⁴以上である高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法、該製造方法で製造された高分子量オルガノポリシロキサンと縮合触媒とを含有する光関連デバイス封止用樹脂組成物、並びに半導体素子と該半導体素子を封止する前記組成物の硬化物とを有する光半導体装置。 （もっと読む）

本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）

2種の異なるジハロシランおよび1種のトリハロシランの混合物を、有機液体媒体中でアルカリ金属カップリング剤と反応させることによって、分岐状ポリシランコポリマーがウルツ型カップリング反応経由で調製される。この分岐状ポリシランコポリマーは、反応混合物から回収される。キャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、この反応混合物へのキャッピング剤の添加によって、同じウルツ型カップリング反応経由で調製される。キャッピング剤は、モノハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、またはトリアルコキシシランである。分岐状ポリシランコポリマーおよびキャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、有機液体媒体に可溶性である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、任意の形状に賦形可能で、工業的に生産が容易な光、熱重合性のフラーレンを提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で示されることを特徴とする重合性フラーレン。Ｃｎ［（ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｏ）_ｍ（ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｏ）_ｊＳｉＲ^５Ｒ^６−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ^７＝ＣＨ_２］ｋ （１）（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素または炭素数１から１２のアルキル基、アリールアルキル基、アリール基を表し、Ｘは炭素数３から１２のアルキレン基を、Ｒ^７は水素または炭素数１から１２のアルキル基を表し、Ｃ_ｎは炭素数ｎのフラーレンを表す。また、ｎは６０以上の正数を、ｍ、ｊは重合度を表わし１から１００の正数を、ｋは１から１１の正数を表す。） （もっと読む）

エポキシ基と脂肪族不飽和を含まないヒドロカルビル基とを含有するエポキシ官能性ポリシロキサン、前記エポキシ官能性ポリシロキサンから選択されたポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、シリコーン組成物を紫外線に曝露することによって調製された硬化されたポリシロキサン、硬化されたポリシロキサンを含む被覆された光ファイバ、および被覆された光ファイバを調製する方法。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル重合性基を有するケイ素化合物を、その製造中にゲル化することなく安定して製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩を重合禁止剤として使用する、ラジカル重合性基（メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等）を有するケイ素化合物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】分子量制御性、耐溶剤性、耐熱性、耐湿性に優れ、更には、分子量の制御された安定した品質の低光伝送損失、低複屈折である光導波路材料を提供する。
【解決手段】式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体を用いて光導波路を作製する。


式（１−０）において、Ｒ⁰は独立して水素、炭素数１〜４０のアルキル、任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよいアリール、またはアリールにおける任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルであり、Ｙは式（ａ）または式（ｂ）で示される基である。
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【課題】光エレクトロニクス材料として有用な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるシルセスキオキサン骨格をポリマー主鎖中に有する高分子化合物を提供する。
化１


式（１）において、Ｘ及びＹは独立して水素原子、または炭素数１〜４０の１価有機基を示す。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも全くクラックが入らず、さらに耐候性に優れた平坦化膜用塗布液および該塗布液を用いて形成される平坦化膜を提供する。
【解決手段】下記式（１）に示すシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体及び溶剤を含有する平坦化膜用塗布液を用いて平坦化膜を作製する。
【化１】


式（１）におけるすべてのＲは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はｔ−ブチルであり、Ｙ¹は式（ａ−１）、（ａ−３）、（ａ−５）、（ａ−７）、（ａ−８）または（ａ−９）で示される基である。Ｒ^aがビニル、アリルまたはスチリルであって、Ｘ¹¹，Ｘ¹³，Ｘ¹⁵，Ｘ¹⁷，Ｘ¹⁹が炭素数１〜４のアルキルまたは非置換のフェニルである。 （もっと読む）

本発明は、（ｄ）場合により予め付加的な添加剤が混合された熱可塑性シロキサンポリマー、特にオルガノポリシロキサン／ポリ尿素／ポリウレタンブロックコポリマーを反応器から−２０℃〜６０℃の温度を有する冷却媒体に搬送し、（ｅ）ポリマーが冷却媒体に導入すると同時にまたは直後に冷却媒体中でポリマーを直接造粒し、ペレット化することにより、熱可塑性シロキサンポリマー、特にオルガノポリシロキサン／ポリ尿素／ポリウレタンブロックコポリマーから粒状物を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とするとともに保存安定性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】 分子内に炭素-炭素不飽和結合、ケイ素‐水素結合及びオキセタニル基を有するシリコンポリマ、光酸発生剤及び脱水剤を含有する放射線硬化性樹脂組成物。下部クラッド層、コア部分及び上部クラッド層とを含む光導波路において、前記下部クラッド層、コア部分あるいは上部クラッド層の少なくとも一つが、前記の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である光導波路。 （もっと読む）

本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｙ ；式（ａ）又は式（ｂ）で示される基、 Ｚ；−Ｏ−，−ＣＨ_２−，単結合、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^０（ただしＸの少なくとも１つは反応性の基）
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【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、カチオン重合触媒とを含有する。また、カチオン重合触媒はアルミニウム化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 特定の構造単位を含むポリオルガノシロキサンを含有し、柔軟性、透明性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、ポリオルガノシロキサンと、エポキシ化合物と、カチオン重合触媒とを含有する硬化性組成物であって、上記ポリオルガノシロキサンは、下記式（１）で表される単位、下記式（２）で表される単位、及び、共役ジエン系重合体ブロックを含む単位を含む重合体である。


〔但し、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２〜６のアルキレン基である。〕
［Ｒ^３−Ｓｉ−Ｏ_３／２］ （２）〔但し、Ｒ^３は有機基である。〕 （もっと読む）

【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、酸無水物と、硬化触媒とを含有する。また、硬化触媒は、三級アミン、三級アミン塩、四級オニウム塩、三級ホスフィン、ホスホニウムイリド及びクラウンエーテル錯体から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｒ^１；塩素，Ｒ^０，−ＣＮを有する基、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^１（ただしＸの少なくとも２つは反応性の基）
（もっと読む）

【課題】 特定構造を有するポリオルガノシロキサンを含有し、柔軟性、透明性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、ポリオルガノシロキサンと、エポキシ化合物と、酸無水物と、硬化触媒とを含有する硬化性組成物であって、上記ポリオルガノシロキサンは、下記式（１）で表される単位、下記式（２）で表される単位、及び、共役ジエン系重合体ブロックを含む単位を含む重合体である。


〔但し、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２〜６のアルキレン基である。〕
［Ｒ^３−Ｓｉ−Ｏ_３／２］ （２）〔但し、Ｒ^３は有機基である。〕 （もっと読む）

【課題】パターンの精度と形状に優れ、かつ耐熱性、光透過性に優れた光導波路パターンを形成することができる樹脂組成物及び簡便かつ低コストでパターン精度及び形状に優れた微細パターンが形成できるパターン形成方法を提供
【解決手段】 分子内に炭素-炭素不飽和結合及びケイ素‐水素結合を有するシリコンポリマーを含有する樹脂組成物を光学コア及び／又は光学クラッドとして用いる高分子光導波路及び該樹脂組成物を基板３上に塗布し、硬化させて光学コア４及び／又は光学クラッド２、４用の膜を得るとともに、光学コアの形成を金型成型法により行う高分子光導波路の製造方法 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率、及び、高耐紫外線性を兼ね備えた硬化性シリコーン組成物及びその硬化物を提供すること
【解決手段】（Ａ）下記平均単位式：
【化１】


｛式中、Ｒはシクロアルキル基を表し、Ｒ^１は芳香族基及びシクロアルキル基以外の一価有機基であって、一分子中少なくとも１個のＲ^１はエポキシ基含有一価有機基を表し、０＜ａ≦３であり、ｘ＞０であり、ｙ＞０であり、且つ、ｘ＋ｙ＝１である｝で表され、一分子中に少なくとも１個のエポキシ基含有有機基を含有する、ポリスチレン換算重量平均分子量が５００以上のポリオルガノシロキサンを必須に含む硬化性シリコーン組成物及びその硬化物。 （もっと読む）