【課題】 生体へのインプラント等、皮膚や粘膜等と接触使用の装身具や食器類等の金属製品による、特にＮｉアレルギーを発症させず、しかも非磁性具備により人体に悪影響のない、高強度の耐食性ステンレス材料を提供する。
【解決手段】 化学成分組成（質量％）として、０＜Ｃ≦０．０８、０≦Ｓｉ＜０．５０、０≦Ｍｎ≦１．５０、１５≦Ｃｒ≦３０、０≦Ｎｉ＜０．０５、１≦Ｍｏ≦１０、１．００＜Ｎ≦２．００、０≦Ｃａ＜０．００５を含有し、残部がＦｅ及び不可避不純物からなり、しかも、前記Ｃｒ、Ｍｏ及びＮの各含有量は、Ｃｒ、Ｍｏ及びＮを含む式で表される耐食性指数が、鋼中非金属介在物の面積占有率、鋼中非金属介在物の最大直径との関係を満たす化学成分組成及び非金属介在物の清浄特性を有することを特徴とする、耐食性、強度、成形性及び耐摩耗性に優れたニッケルフリー高窒素ステンレス鋼とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、回転移動鋳型を用いた連続鋳造圧延法による低コストの無酸素銅線材の製造方法において、表面品質が良好で且つ該無酸素銅線材をさらに冷間加工して得られる無酸素銅伸線が９８％以上の高い導電率を有する無酸素銅線材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
電気銅を溶解して得た溶銅を、樋を経てタンディッシュ内に連続的に導き、タンディッシュ内の溶銅を、回転移動鋳型内に注入し、冷却固化させて鋳塊とし、この鋳塊を鋳型から連続的に引き出してそのまま連続圧延する無酸素銅線材の製造方法において、前記樋内で溶銅を固体還元剤と反応させ、不活性ガスを吹込み、前記タンディッシュ内で溶銅を固体還元剤と反応させ、不活性ガスを吹込むことに加えて、鋳塊中のリン含有量が１〜１０ｐｐｍとなるようにリン化合物を溶銅に添加し、前記タンディッシュ内の溶銅の温度を１０８５〜１１００℃に調整する。 （もっと読む）

【課題】配線膜の流動性が良好であり、緻密で密着性が良好な配線膜を形成できるスパッタリングターゲットの製造方法および銅配線膜の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電気銅からゾーンメルト法により溶解インゴットを作成する工程と、上記溶解インゴットを真空溶解することにより高純度銅インゴットを作成する工程と、上記高純度銅インゴットを１００〜３００℃で熱処理することにより再結晶させる工程と、熱処理した上記高純度銅インゴットに機械加工を施す工程とを具備することにより、酸素含有量が１０ｐｐｍ以下であり、硫黄含有量が１ｐｐｍ以下であり、鉄含有量が１ｐｐｍ以下であり、純度が９９．９９９％以上の高純度銅基材から成るスパッタリングターゲットを得ることを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 上蓋からの輻射熱、更には溶鋼熱によるシール部材の損耗又は品質劣化を抑制してシール部材の長寿命化を図り、溶鋼の精錬時における真空処理槽内部の真空度を長期にわたって安定させることが可能な真空処理装置及びそのシール方法を提供する。
【解決手段】 溶鋼を入れた精錬鍋１１を内部に配置する真空処理槽１２と、これにシール部材１３を介して載置される上蓋１４とを有する真空処理装置１０において、真空処理槽１２の上端部には、その底にシール部材１３が配置された断面凹状のフランジ部１５が設けられ、真空処理槽１２の外側にはフランジ部１５内へ水を供給する水供給手段１６が設けられている。そのシール方法は、上蓋１４が真空処理槽１２に未載置の状態では、フランジ部１５内に水を供給し、フランジ部１５内の水の液面位置を、シール部材１３の上端位置よりも高くしている。 （もっと読む）

【課題】 インジウムとスズとの分離性に優れており、スズ含有量が多いインジウム−スズ合金からでもスズ含有量が格段に少ないインジウムを回収することができる方法を提供する。
【手段】 インジウムとスズを金属形態で含有するインジウム−スズ含有物（In−Sn合金等）を塩酸、硫酸、または塩酸と硫酸の混酸に溶解し、この溶解液にシュウ酸化合物を添加し、好ましくはｐＨ０.５〜３の液性下で、シュウ酸スズを沈澱させ、このシュウ酸スズ沈澱を固液分離したシュウ酸スズ濾液にインジウムメタルを添加して残留するスズを析出させて脱スズを行い、この脱スズ濾液に亜鉛やアルミニウム、鉄などの卑金属を添加してインジウムを析出させ、スポンジ状の金属インジウムを回収することを特徴とするインジウムの回収方法。 （もっと読む）

【課題】 攪拌手段の耐久性の向上に好適なアルミニウム溶湯脱ガス清浄化装置および脱ガス清浄化方法を提供する。
【解決手段】 処理層に注湯されたＡｌ又はＡｌ合金からなるアルミニウム溶湯中に攪拌手段４を浸漬して溶湯を攪拌しつつ溶湯中の水素、酸化物、非金属介在物等の不純物を除去するアルミニウム溶湯脱ガス清浄装置において、待機位置における前記攪拌手段４に近接させて攪拌手段４を予熱してその温度を昇温させる加熱手段７を設け、前記攪拌手段４の溶湯への浸漬に先立ち、前記攪拌手段４を加熱手段７により加熱して昇温させ、昇温後に前記攪拌手段４を溶湯に浸漬させて溶湯を攪拌しつつ溶湯中のアルミニウム溶湯中の不純物を除去するようにした。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ及びＡｌ合金溶湯においてダイオキシン発生等のない非ハロゲン系元素を用いた精練用フラックスであり、かつ、脱水素除去能力、アルカリ金属除去能力及び非介在物除去能力ともに優れた溶湯精錬用フラックス、ならびに、当該フラックスを用いた精錬方法を提供することである。
【解決手段】Ａｌ又はＡｌ合金溶湯中に吹込む精錬用フラックスであって、少なくとも１種以上の硫酸塩化合物の５０重量％以上と、Ｌｉ炭酸塩を除く少なくとも１種以上の炭酸塩化合物の５０重量％未満とを含むことを特徴とする非ハロゲン系フラックス、ならびに、当該フラックスを用いた精錬方法。 （もっと読む）

【解決手段】 内部連通空間を有する三次元網目骨格構造のセラミックフィルターであって、三次元網目骨格構造内部に形成された連通気孔のセルサイズが異なる複数層のセラミック多孔体層を、溶融金属の濾過方向下流側に向かって、セルサイズがより小さいセラミック多孔体層が位置するように積層してなる溶融金属濾過用セラミックフィルター。
【効果】 本発明によれば、異物除去率を維持しつつ処理可能量が向上することから、効率よく溶融金属を濾過処理できる。 （もっと読む）

【課題】プラズマアーク溶解により、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｙまたは希土類等の活性高融点金属元素を合金成分として含有する合金の長尺鋳塊を製造するさいに、成分偏析や中心部に引け巣およびボイド欠陥が発生するのを確実に阻止すること。
【解決手段】アルゴン雰囲気下で活性高融点金属を含有する合金をプラズマアーク溶解する方法において、３０Ｔｏｒｒ〜２００Ｔｏｒｒのアルゴンヘリウム雰囲気を保持した状態のもとで、あらかじめ調製しておいた所定合金組成の原料棒をプラズマアークにより溶解し、その溶湯プールを水冷銅るつぼ内に保持しつつ冷却凝固させながら、銅るつぼの可動底盤を毎分２ｍｍ〜５０ｍｍの速度で下方へ引き抜くことを特徴とするプラズマアーク溶解による活性高融点金属含有合金の長尺鋳塊の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 フラックスインジェクション回転脱ガス装置により非ナトリウム系フラックスを用いてアルミニウム合金溶湯を処理する際に、未反応フラックスの付着・堆積を防止して高い脱滓効果を確保した非ナトリウム系フラックスおよびそれを用いたアルミニウム合金溶湯の処理方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、ＡｌＦ₃：８０〜９５％、ＫＣｌ：２．５〜１０％、Ｋ₂ＳＯ₄：２．５〜１０％を必須の構成成分とし、残部は合計で５％以下のその他の塩化物、フッ化物、硝酸塩から成る非ナトリウム系フラックス。アルミニウム合金溶湯中に上記装置のローターを浸漬した状態に維持し、ノズルから不活性ガスおよび上記のフラックスを溶湯中に噴出させて供給し、ローターを２００〜４５０ｒｐｍで回転させて、溶湯中の介在物などを微細気泡およびフラックスとともに湯面まで浮上させることにより脱ガスおよび脱滓を行うアルミニウム合金の処理方法。 （もっと読む）

【課題】スポンジチタン塊を溶解原料等の粒状のスポンジチタン製品とする配合過程における酸素含有量増加の抑止に効果的なホッパーとそれを用いた配合方法を提供する。
【解決手段】破砕整粒後のスポンジチタンを品質均一化のため混ぜ合わせる配合過程で用いられる保存用のホッパーであって、前記破砕整粒後のスポンジチタンの投入にともない当該ホッパー内で発生する上昇流を抑制する蓋を上部の投入口に開閉可能に有するホッパー、または上部の投入口に外気を遮断しかつ開閉できる蓋を有するホッパーである。さらに、これらのホッパーを用い、スポンジチタンを投入するとき以外は、上部の蓋を閉じ、ホッパー内で発生する上昇流を抑制し、または外気が直接ホッパー内のスポンジチタンに接しないようにするスポンジチタン粒の配合方法である。 （もっと読む）

【課題】従来の技術ではインジウムとの完全分離が困難であった珪素、鉄、鉛などを分離できる新規な精製手段を開発することによって、純度９９.９９９９％（６Ｎ）以上の高純度インジウムを直接インゴット状で製造できる製造方法と製造装置を提供する。
【解決手段】純度９９.９９％の金属インジウムを原料るつぼ５に入れ、この原料るつぼ５を回収鋳型６中央部に設置した吸入台９上に固定する。原料るつぼ５と回収鋳型６は石英製の外筒３と内筒４で二重封体されており、真空排気装置２によって内筒４内部の空気を排気して内筒４内を真空度１×１０^-4Torrとし、炉温を１１００℃に加熱すると原料中のインジウムはいったん蒸発した後内筒４の内面に接触して次第に凝縮し始め、粒状になって回収鋳型６の中に落下する。この粒状インジウムを回収して純度６Ｎの高純度インジウムを得る。 （もっと読む）

【課題】省エネルギーでの酸化鉄回収炉の操作方法、揮発性金属の除去方法、及びスラグのコントロール方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、鉄及び揮発性金属を含有する供給原料としての、揮発性金属を含有する製鋼転炉ダスト及び任意に他の物質を処理する方法であって、鉄含有物質をバッチ式、連続式又は半連続式に溶鉄が入っている溝形誘導炉中に供給することと、揮発性金属含有物質をバッチ式、連続式又は半連続式に溝形誘導炉中に供給することと、誘導炉に供給する酸素の量を制御して、ｉ）誘導炉の溶融浴上のヘッドスペースの温度、及びｉｉ）ヘッドスペース中の二酸化炭素の量、の少なくとも一つを制御することと、バッチ式、連続式又は半連続式に鉄含有製品を得ることと、揮発性金属を回収することと、を含んでなる方法である。 （もっと読む）

【課題】 コールドスタート法を用いたＥＳＲ法により一次鋳塊の再溶解を行う場合において、溶融スラグ層の精錬作用を損なうことなく、未滓化スラグの発生及びこれに起因する偏析等の品質低下を抑制し、材料歩留まりを向上させること。
【解決手段】 エレクトロスラグ再溶解装置１０の鋳型１２底部に設けられた銅製スツール１４上に少なくともスタートブロック１６を載置し、スタートブロック１６上に着火材１８を載置する第１工程と、スタートブロック１６の周囲に初装フラックス２６ｂを装入する第２工程と、着火材１８の表面に消耗電極２２を接触させ、銅製スツール１４−消耗電極２２間に電圧を印加し、初装フラックス２６ｂを溶解させ、溶融スラグ層２８を形成する第３工程と、初装フラックス２６ａが溶解した後、鋳型１２内に追装フラックス２６ｂを装入し、追装フラックス２６ｂを溶解させる第４工程とを備えた鋳塊の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 規格幅の極めて狭い鋼種であっても、後工程の作業負荷を増大させたり、リードタイムを延長させることなく、高い材料歩留まりで鋳塊を製造することが可能な鋳塊の製造方法及びコールドスタート用治具を提供すること。
【解決手段】 再溶解開始時に、ＥＳＲ装置１０の消耗電極１８との間でアークを発生させるためのスタートブロック２２と、ＥＳＲ装置１０の鋳型１２と鋳型１２底部に設けられる銅製スツール１４との間に少なくともその一端を固定し、その上に載置されるスタートブロック２２に電流を供給するための金属製の底板２４とを備え、底板２４とスタートブロック２２とのラップ部の面積が、スタートブロック２２の面積の５０％以下であるコールドスタート用治具、及び、これを用いた鋳塊の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、溶融金属または合金と、ペルフルオロケトン、ヒドロフルオロケトン、およびこれらの混合物からなる群から選択されるフルオロカーボンを含むガス状混合物とを接触させることによって、溶融マグネシウム、アルミニウム、リチウム、およびこのような金属の合金を加工すると同時に汚染クレジットを発生させるための方法に関する。 （もっと読む）

添加物ガイドチューブのためのエンド-ピースを開示する。かかるエンド-ピースは、耐久性スリーブと脱離可能なスリーブを有してよい。脱離可能なスリーブは、チャネル−これを通して添加物が配達され得る−を有してよく、また、脱離可能なスリーブは、耐久性スリーブの貫通孔に存在し得、耐久性スリーブへ固定され得る。溶融金属が脱離可能なスリーブに接触すると、脱離可能なスリーブが燃えるかまたは溶融し、そして抜け落ち、これにより、溶融金属とスラグがエンド-ピースに固着することが防止され、これによりまた、金属およびスラグの形成が防止される。
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本発明は、溶融金属と、ペルフルオロケトン、ヒドロフルオロケトン、およびこれらの混合物からなる群から選択されるフルオロカーボンを含むガス状混合物とを接触させることによって、溶融反応性金属の発火を防止するための方法に関する。 （もっと読む）

ハフニウムの塩化物を水溶液にし、これを溶媒抽出によりジルコニウムを除去した後、中和処理により酸化ハフニウムを得、さらにこれを塩素化して塩化ハフニウムとし、これを還元してハフニウムスポンジを得、さらにハフニウムスポンジをさらに電子ビーム溶解し、ハフニウムインゴットを得る高純度ハフニウムの製造方法及びこれによって得られた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び薄膜。ハフニウム中に含まれるジルコニウムの含有量を低減させた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び薄膜及びその製造方法に関し、効率的かつ安定した製造技術及びそれによって得られた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び高純度ハフニウム薄膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＶＡＲ法のインゴットを消耗電極とする二次溶解における、スタブを溶接する消耗電極用一次インゴットの底面の切削方法およびその装置の提供。
【解決手段】インゴット５を、長さ方向の中心軸のまわりに回転できるようにした回転ローラー対１２を有する台上に長軸が水平になるように置き、正面フライス８の回転軸とインゴットの長軸とを平行に配置し、軸に直角な面上をフライスが任意に移動できるようにし、インゴットの底面を切削し平坦面にして、スタブを溶接する面とする、消耗電極の製造方法、およびインゴットの固定治具１１と清掃用具１３も併せ持つその切削用装置。 （もっと読む）