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Fターム[4K024CB20]の内容

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Fターム[4K024CB20]に分類される特許

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【課題】アルミニウムを溶融塩浴中でめっきする工程を有するアルミニウム構造体の製造方法において、グローブボックス等の複雑な設備を必要とせず、簡便な設備で低コストで製造可能なアルミニウム構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも表面が導電化された成形体に、アルミニウムを溶融塩浴中でめっきする工程を有するアルミニウム構造体の製造方法であって、
前記溶融塩の液面に、前記溶融塩よりも比重が小さく前記溶融塩と相溶しない有機溶剤からなる液層を有することを特徴とする、アルミニウム構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 金属薄膜層付ポリイミドフィルム等の長尺導電性基板に電気めっき法により金属層を形成する際に、金属化ポリイミドフィルムとしてCOFでの実装に対応可能な優れた柔軟性を有する銅等の金属層を形成する方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール1から巻き出した金属薄膜層付ポリイミドフィルムFがめっき液4aへの浸漬を繰り返す毎に、第1給水ノズル8a、8b、8c、8dから給電ロール3a、3b、3c、3dに10℃〜32℃の水を供給する。また、電気めっきが完了して巻取ロール7に巻き取られる前の金属化ポリイミドフィルムSの電気めっきが施された面に、第2給水ノズル10から10℃〜32℃の水を供給する。 (もっと読む)


【課題】急冷処理過程に発生するクエンチステインを防止し、クエンチステインの発生をより減少させる電気めっき鋼板設備のクエンチタンクの温度制御方法を提供することを目的とする。
【解決手段】連続的に搬送される錫めっき鋼板11を電力によって錫の融点以上に所定時間加熱する工程と、加熱された錫めっき鋼板11を、調整バルブ33を介して流量制御される冷却水と熱交換器32で熱交換されて温度制御されているクエンチタンク12を通過させて急冷する工程とを有する電気めっき鋼板設備のクエンチタンクの温度制御方法において、錫めっき鋼板11によって搬入される熱量に対する、クエンチタンク12の温度が定常的に適正温度になる調整バルブ33の予測弁開度を予め求めておき、錫めっき鋼板11の通板条件が変わった場合には、直ちに錫めっき鋼板11が搬入される熱量に応じて、調整バルブ33の弁開度を、予測弁開度とする。 (もっと読む)


【課題】本発明はめっき処理物の生産性の向上と量産化を図るとともに、ピンホールがなく、硬度が高く、耐磨耗性が高く、被処理物に対して均一に電着し、耐食性が高い、という特性を有するめっき皮膜を得ることを目的とする。
【解決手段】被処理物2を収容する反応槽1を介挿する循環路8内で表面処理流体を循環させることでめっき処理を行うめっき処理方法において、前記表面処理流体は、少なくとも電解液35と、界面活性剤40と、超臨界又は亜臨界状態の二酸化炭素27と、を含有するエマルジョン状態の流体であり、循環路8内における前記表面処理流体を30cm/sec以上の流速で循環させ、該表面処理流体が被処理物2に対して電気化学的反応を起こすことにより、めっき処理を行うことを特徴とするめっき処理方法及びこれにより得られるめっき処理物。 (もっと読む)


【課題】先行材と後行材を接続してリフロー処理する際の加熱過不足の発生を最小限にする連続錫めっき設備のリフロー加熱電力制御方法を提供する。
【解決手段】先行材11と後行材12の接続部13を有する錫めっきストリップ14を第1、第2のコンダクターロール15、16間で抵抗加熱し、第1、第2のコンダクターロール15、16間の誘導加熱装置18で誘導加熱し、クエンチタンク19で急冷してリフロー処理する際のリフロー加熱電力の制御方法であって、第1、第2のコンダクターロール15、16の間を接続部13が通過する間の抵抗加熱電力を、先行材11に適した電力から後行材12に適した電力に徐々に又は段階的に変え、更に抵抗加熱電力を変えること及び第1、第2のコンダクターロール15、16間の電気抵抗の変化によって生じる錫めっきストリップ14に発生する加熱温度の過不足分を計算して、過不足分を誘導加熱装置18による加熱で補償する。 (もっと読む)


【課題】めっき時の基体の反りを抑制し基体の汚れを有効に除去するめっき装置およびめっき方法を提供する。
【解決手段】本発明のめっき装置は、めっき層を形成すべき基体を保持する保持板12と、前記基体10にめっき液22を供給するめっき液供給部50と、前記基体10のめっきを行う第1の面36に対向する第2の面38を、前記めっき液22よりも高い温度に加熱する加熱手段18とを具備し、前記基体の表面にめっき層を形成する。 (もっと読む)


【課題】はんだ性及び接触信頼性を損なうことなく、ウイスカの生成及び成長を抑制する熱処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】めっき層形成時の電着組織内に生じた、ウイスカの発生起因である組織の歪や欠陥を熱処理によって取り除くことでウイスカの抑制を図る。これら歪や欠陥は結晶組織の平面的或いは空間的秩序の乱れであり、原子を秩序正しく再配列することで取り除くことができる。本発明の熱処理は、めっき材の融点付近の温度をピークに持つことで、リフロー処理同等のウイスカ抑制効果を奏すると共に、融点と同じ温度に保持される時間が、めっき材の融解開始時間よりも短い時間であるので、めっき層の溶融を伴わず表面平滑性を保持することができる。更に熱源に遠赤外線を使用することで、内部からの加熱を伴うので本発明の目的が一層効果的に達成される。 (もっと読む)


【課題】(i)爆発の危険性がなく、(ii)安全に取り扱うことができ、(iii)平滑で、低電流密度部分まで着き回り性の良い均一なめっき皮膜が得られ、(iv)高い耐食性のめっき皮膜を得ることができる電気Al又はAl合金めっき浴を提供すること。
【解決手段】(A)アルミニウムハロゲン化物、(B)N−アルキルピリジニウムハライド類、N−アルキルイミダゾリウムハライド類、N,N’−アルキルイミダゾリウムハライド類、N−アルキルピラゾリウムハライド類、N,N’−アルキルピラゾリウムハライド類、N−アルキルピロリジニウムハライド類及びN,N−アルキルピロリジニウムハライド類からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物、(C)高沸点芳香族炭化水素溶媒を含む電気Al又はAl合金めっき浴であって、(A)アルミニウムハロゲン化物と(B)化合物とのモル比が1:1〜3:1であり、引火点が50℃以上である、電気Al又はAl合金めっき浴。 (もっと読む)


【課題】基板とアノードとの間に抵抗体を設置したFace Down方式のめっき装置であっても、基板の被めっき面に気泡が入り込むことなく被めっき面全体を確実にめっき液に接触させて均一なめっきが行えるめっき方法及びめっき装置を提供すること。
【解決手段】下向きにした基板Wの被めっき面W1と、基板Wの下方に設置したアノード20との間にめっき液Qを介在した状態で基板Wとアノード20間に電圧を印加することで、被めっき面W1にめっきを行う。アノード20の上部に抵抗体30を設置して抵抗体30の上までめっき液Qを満たし、抵抗体30の上面に沿って抵抗体30の外周から中心の方向へ向かってめっき液Qを流すことにより抵抗体30上面の中央にめっき液Qの盛り上がりを作り、この状態で下向きにした基板Wを降下させることによりめっき液Qに浸漬させて、被めっき面W1と抵抗体30上面の間の隙間をめっき液で満たす。 (もっと読む)


【課題】抵抗加熱装置を有する既設設備に誘導加熱装置を増設し抵抗加熱装置と併用するリフロー処理設備の抵抗加熱装置の運転方法を提供する。
【解決手段】電気錫めっき鋼板11を抵抗加熱装置14で直接抵抗加熱して錫を溶融させた後、電気錫めっき鋼板11をクエンチしてリフロー処理する既設設備に、抵抗加熱装置14と併用して電気錫めっき鋼板11を加熱する誘導加熱装置17を抵抗加熱装置14の対となる通電ロール12、13間でクエンチ槽15の直上流側に新たに増設するリフロー処理設備10の誘導加熱装置17増設後の抵抗加熱装置14の印加電圧V’を、既設設備で抵抗加熱装置を運転する際の印加電圧Vに、0.9以上で1.1以下の係数αと誘導加熱条件を含む係数Kを掛けて算出される制御電圧範囲の値に設定する。 (もっと読む)


本発明は式:N(R14X・(m−n−o)Al(C253・nAlR23・oAlR33(I)(式中、R1は、C1〜C4アルキル基であり、Xは、F、Cl又はBrであり、mは、1〜3、好ましくは1.7〜2.3に等しく、nは、0.0〜1.5、好ましくは0.0〜0.6に等しく、oは、0.0〜1.5、好ましくは0.0〜0.6に等しく、R2、R3は、C1又はC3〜C6アルキル基であり、ここでR2はR3と等しくない)で示される化合物を有機溶媒中に含有する非プロトン性溶媒でのアルミニウムの電着のための電解質に関する。本発明のさらなる目的は前記電解質を製造する方法、被覆方法、及び被覆材料部品である。 (もっと読む)


【課題】シード層が薄膜化され、シード層のシート抵抗値が10Ω/□以上になったり、電気抵抗が極端に大きなバリア層の表面に直接めっきを行ったりする場合であっても、基板への給電部であるカソード接点やその周辺部品を発熱から守ることができるようにする。
【解決手段】基板Wを保持する基板ホルダ36と、基板ホルダ36で保持した基板Wと接触して通電させるカソード接点44を備え該基板ホルダ36と一体に回転するカソード部38と、基板Wの表面に対向するように配置されたアノード66と、カソード接点44を冷却する冷却機構58を有する。 (もっと読む)


【課題】装置のイニシャルコスト、ランニングコストを低くでき、広い設置スペースを必要とせず、短い処理時間で銅又は銅合金による回路配線を形成でき、且つクロスコンタミネーションの原因となるエッジ・ベベル部に銅膜が残ることのない半導体基板処理装置を提供する。
【解決手段】回転軸線を中心に回転する回転部材と、回転部材の前記回転軸線を中心とした同一円周方向に沿って配置され該回転部材の回転に伴って公転する保持部材とを有し、保持部材は、該保持部材の軸心を中心に回動するように構成された回転保持装置で保持した半導体基板を洗浄する洗浄ユニットを有する。 (もっと読む)


【課題】従来のプリント基板のめっき装置の問題点であった、めっき液の温度上昇を防ぐための、冷却装置の設置によるコスト発生をなくし、プリント基板のめっき装置の設置方法を提供する。
【解決手段】空気攪拌用のエアブロワ15を、一般的に高温になりやすいめっき槽1から、エアブロワ配管用のパイプ21の延長により、温度の影響のない場所もしくは隔離された常温の部屋に設置する。薬液2内に送り込まれる空気10’は吸入時温度が低く、パイプまたはその配管部で配送されている時点で放熱し、常温に戻る。 (もっと読む)


【課題】めっき方法に関し、電解めっきを実施するに際し、めっきシード膜の溶解を抑止し、且つ、めっきレートの向上を簡単な手段で実現できるようにする。
【解決手段】少なくともアノード及び電源を備えた電解めっき装置内にめっき対象物を設置する工程と、次いで、前記めっき対象物にゲル化されためっき液を載置する工程と、次いで、ゲル化されているめっき液を溶液化し且つ電源をオンにしてめっきを行う工程とが含まれてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】シード膜の溶解を抑制し、電解めっき後のめっき膜の未析や欠陥の発生を低減する方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の電子部品の製造方法は、基板上にシード膜を形成するシード膜形成工程(S110)と、前記シード膜を冷却する冷却工程(S112)と、冷却された前記シード膜をめっき液に浸漬させ、前記シード膜をカソードとして電解めっきを行なうめっき工程(S114)と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リフロー処理において破断を確実に防止できノーメルトの領域も小さいリフロー電力制御を提供する。
【解決手段】入側コンダクタロール及び出側コンダクタロールによる通電加熱で合金層を形成する。ストリップは、溶接により接続された複数の板材からなる。そして、先行材よりも後行材の断面積が小さく、その断面積変化が所定値以上のときには、先行材と後行材との溶接部が入側コンダクタロールに到達する以前にコンダクタロールに供給する電力を後行材の断面積に応じた電力に設定変更し、断面積変化が上記所定値未満のときには、溶接部が入側コンダクタロールに到達するときに後行材の断面積に応じた電力に設定変更する。 (もっと読む)


【課題】めっき発生核やめっき粒の微細化を図ることで緻密なめっき膜を形成でき、微細化が進む基板上の配線形成に対応することが可能な電解めっき方法及び電解めっき装置を提供する。
【解決手段】表面に微細凹部が形成された被めっき基板20をめっき液10中に浸漬させて金属めっき膜を成膜する電解めっき方法において、めっき処理槽11内のめっき液10を、めっき液循環配管31に循環させながら冷却器33でその液温が溶媒の凝固点以上15℃未満になるように冷却し、その状態で金属めっき膜の成膜を行うことで、被めっき基板10の微細凹部内に緻密でボイドの少ない金属配線材料を埋め込むことができるようにした。 (もっと読む)


【課題】導電性が低く、表面の機械的損傷に対して敏感なストリップ状の処理素材を一巻き一巻き電解処理する、小さいライン長で高い生産能力を示す連続ライン、それも、ストリップの表面を全面電解処理する方法に適した連続ラインを提供する。
【解決手段】ストリップの一巻き一巻きの電解処理に関し、電気接触はストリップのどちらかの面が金属製の接触ローラ2、3を使って行われ、他方の面が弾性対向ローラ4、5の各々を使って行われる。連続ラインに沿って接触エリア1がより長い電解エリア11と交互に位置する。電解エリアの場所ごとに電流密度を個別に調整するために、このエリアは、個別の電解セルを形作る個別の整流器を備えた個別の陽極を含む。これにより、ほとんど導電性のないストリップにおける電圧降下は、電解エリアの場所ごとに陽極のもとで所定の電流密度が有効になるように補償される。 (もっと読む)


【課題】耐食性のためにピンホールなどの発生を抑制し、効率的に燃料電池を製造することができる燃料電池用セパレータ、燃料電池、燃料電池用セパレータの製造方法及び燃料電池用セパレータのめっき装置を提供する。
【解決手段】燃料側セパレータ及び空気側セパレータに対峙させて陽極板を挿入しためっきユニット20を構成する。そして、めっきユニット20において、燃料、熱流体や空気を流す流路に対して、めっき液と、これの拡散力を高める超臨界CO2とを混合分散させためっき分散体を供給する。更に、このめっきユニット20の陽極板と、セパレータとの間で通電を行ない、電解めっきを行なう。これにより、流路板の凸部にめっきを膜が形成される。更に、陽極板を外しMEAと差し替えて、合体することにより燃料電池スタックを製造することができる。 (もっと読む)


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