【課題】硬質炭素層を備えた摺動部材において、摩擦係数の一層の低減を図ると共に、簡便なプロセスで製造することができ、しかも潤滑剤や潤滑油の選択の制約が少ない摺動部材を提供すること。
【解決手段】表面の硬質炭素層３と下地基材１の間に中間層２を設け、その中間層２が呈する柱状のドメイン構造における粒界の傾きのばらつきが特定範囲内、すなわちドメイン壁面２ａの傾き角度の標準偏差が１２°以内に収まるようにする。 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐欠損性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、硬質被覆層の下部層はＴｉ化合物層、同上部層は、化学蒸着で形成した島状のＡｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層（縦断面観察による）と、該島状Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層の間隙を埋める物理蒸着で形成された耐熱性高強度硬質膜からなる層構造を有し、上部層表面に平行な横断面において上記Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２混合組織層が占める面積（Ａ_ＣＶＤ）と、上記耐熱性高強度硬質膜が占める面積（Ａ_ＰＶＤ）との面積比（Ａ_ＣＶＤ／Ａ_ＰＶＤ）は、０．９〜１６である層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】密着性の向上を図ることができる炭素薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】炭素薄膜付与体７の中間層６は、基材５に印加されるバイアス電圧を０Ｖ〜−３０Ｖの範囲の一定値に設定して、成膜されている。このため、中間層６は、過度に硬質化するようなことが回避され、靭性に富んだものになっていることから、炭素薄膜付与体７の使用時において、中間層６の上層に成膜されたＤＬＣ被膜１から作用する応力及び外力を緩和する能力が高くなり、当該炭素薄膜付与体７の剥離の原因となる中間層６内でのクラック発生が生じにくくなり、優れた密着性を発揮できる。 （もっと読む）

本発明に係る燃料電池用ステンレス鋼分離板は、ステンレス鋼板と、前記ステンレス鋼板の表面に形成される金属層／金属窒化物層（Ｍ／ＭＮ_ｘ）からなる第１のコーティング層（このとき、０．５≦ｘ≦１である。）と、前記第１のコーティング層上に形成される金属酸窒化物（ＭＯ_ｙＮ_ｚ）層からなる第２のコーティング層とを含む（このとき、０．０５≦ｙ≦２で、０．２５≦ｚ≦１．０である。）。また、前記燃料電池用ステンレス鋼分離板の製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】相手材との初期なじみ性に優れるとともに、高負荷での摺動が継続した場合であっても耐スカッフ性と耐摩耗性を継続的に維持できる摺動部材を提供する。
【解決手段】少なくとも摺動面１１に、母材１０側より耐摩耗性皮膜２と硬質炭素皮膜３とが繰り返し形成された摺動部材１であって、耐摩耗性皮膜２と硬質炭素皮膜３とからなる層７，…，７を２以上有する摺動部材１により、上記課題を解決した。この摺動部材１において、少なくとも耐摩耗性皮膜２と硬質炭素皮膜３との間に、耐摩耗性皮膜２と硬質炭素皮膜３の中間組成からなる傾斜膜が形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】３００℃以上の温度でのプレス加工するプリント配線基板の製造に用いても、キャリアと銅箔層との引き剥がし可能なキャリアシート付銅箔の提供を目的とする。
【解決手段】前記課題を解決するために、キャリアシートの表面に接合界面層を介して銅箔層を有し、当該キャリアシートが物理的に引き剥がし可能なキャリアシート付銅箔であって、当該接合界面層は、金属層と炭素層とからなることを特徴とするキャリアシート付銅箔を採用する。そして、前記接合界面層は、厚さ１ｎｍ〜５０ｎｍの金属層と、厚さ１ｎｍ〜２０ｎｍの炭素層とで構成されたものとすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、効率よくウェットエッチング法により製造され、遮光膜の端部の形状に荒れのない階調マスクを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された遮光膜と、上記遮光膜上および上記透明基板上にパターン状に形成された半透明膜とを有し、上記透明基板が露出した透過領域、上記透明基板上に上記遮光膜が設けられた遮光領域、および上記透明基板上に上記半透明膜のみが設けられた半透明領域を有する階調マスクであって、上記遮光膜および上記半透明膜の結晶構造が、いずれも柱状である、またはいずれも粒状であることを特徴とする階調マスクを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性を確保すると共に、非晶質炭素皮膜との密着性も確保できる、中間層の役割を果たすことができる、皮膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】金属ターゲットの金属をアーク放電によりイオン化させると共に、基材にバイアス電圧を印加することにより、前記基材の表面に前記イオン化した金属を付着させて、前記金属からなる皮膜を成膜する工程を少なくとも含む皮膜を成膜する方法であって、該金属皮膜の成膜工程において、前記成膜開始時の前記バイアス電圧の大きさを少なくとも５００Ｖ以上とし、前記成膜終了時の前記バイアス電圧の大きさを少なくとも１００Ｖ以下とし、前記成膜開始時から前記成膜終了時まで、前記バイアス電圧の大きさを傾斜的に減少させながら前記金属皮膜の成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器全体を真空引きする真空ポンプを備えた略円筒状の真空容器内に、一対のフィルム巻取巻出ロールと、真空容器と軸中心をほぼ一致させた回転可能キャンロールとを備え、容器周壁にキャンロールに対向して固定された複数の表面処理手段と、容器周壁とキャンロールの間をほぼ遮蔽するように表面処理手段が配置された処理ゾーンを一対のフィルム巻取巻出ロールから分離する一対の第１遮蔽板と、容器周壁に固定されてキャンロール近くまで延長し、処理ゾーン内を少なくとも２つの表面処理手段を含む複数の処理室に区画する複数の第２遮蔽板と、容器周壁にそれぞれ設置された各処理室用真空ポンプとを有し、各々の処理室において互いに異なる圧力やガス種の表面処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】複数の種類の成膜材料を用いて、様々な成膜構造を実現することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成形体が載置された金型を型締めすることで成形体を成膜するための成膜空間が形成される成膜チャンバ５７と、成膜チャンバ５７内に配置された成膜材料と、成膜材料を成形体に成膜させるためのヒータとして機能する電極４５とを備えた成膜装置４０において、成膜材料が複数配置されている。 （もっと読む）

【課題】手間をかけずにメンテナンスをすることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】一次射出によりそれぞれ成形された半製品同士を突き合わせた後、その突き合わせ部に二次射出して製品の一体化成形が可能に構成された一対の金型５１，５２のいずれか一方に設けられ、半製品を成膜する成膜チャンバ５７を備えた成膜装置４０において、成膜チャンバ５７が、金型５２から着脱自在に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】 微粒子の吹きつけによる成膜方法であって、良好な膜質で成膜を行うことが可能な成膜方法と、当該成膜方法を実施する成膜装置を提供する。
【解決手段】 微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角が、第１の角度θ１（但し、−５°<θ１<０）、第２の角度θ２（但し、０<θ２<５°）、第３の角度θ３（但し、―９０°<θ３<−６０°）、および第４の角度θ４（但し、６０°<θ４<９０°）よりなる群より選択される角度とされることを特徴とする成膜方法。 （もっと読む）

【課題】上部透明電極形成時、スパッタリングターゲット表面から基板被成膜面へ入射するプラズマ荷電粒子を捕捉して、発光ポテンシャル低下を抑制することが可能なスパッタリング装置及び透明電極形成方法を提供する。
【解決手段】対向ターゲット式スパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成する透明導電膜形成方法において、一対のターゲット６間の側方（上方）に臨ませて配置された基板２が対向されるターゲット６の上端側部位に互いに接近する方向に突出する一対の突部６Ａを形成し、漏斗形状のプラズマ雲端部から漏れ出たプラズマ荷電粒子を基板に入射させることなく、ターゲット内壁の隅部で遮蔽する。また、ターゲット６の背面にカソードマグネット４ａを設けるだけでなく、突部６Ａの基板２と対向する面にもカソードマグネット４ｂを設ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送されてきた基板ホルダーを移動させることなく、基板を受け取り、その場で基板を回転することが可能な基板支持回転装置及び基板支持機構を提供することを目的とする。
【解決手段】中空の円柱状部材と、その中空部に第１のバネにより軸方向の一方に付勢して取り付けられ、一端部にテーパー部が形成された中心軸と、円柱状部材の一端面に設けられた径方向に移動する複数の移動部材であって、その外周側には基板の内周端面を支持するツメが設けられ、第２のバネにより中心軸方向に付勢された径方向移動部材と、からなり、中心軸の軸方向運動を径方向移動部材の径方向運動に変換して基板の支持、解放を行う基板支持機構を用いることを特徴とし、さらに、基板支持機構を軸方向移動及び回転させる機構及び中心軸を軸方向に移動させる機構を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 波長に対して依存性の無いハーフトーン特性を有するハーフトーンマスクを容易に製造することが可能なハーフトーンブランクスを提供する。
【解決手段】 透明基板１上に、半透過膜２、エッチングストッパー膜３、遮光膜４が順次形成されている。エッチングストッパー膜３は、遮光膜４をエッチングする際にエッチングが半透過膜２まで進行しないようにする。遮光膜４及び半透過膜２はクロムより成る膜である。半透過膜２は、ハーフトーン露光を行うための所定の半透過特性が得られるよう遮光膜４より薄い厚さで形成されている。半透過膜２は、アルゴン５０％、炭酸ガス５０％の混合ガス雰囲気中でクロム製のターゲットをスパッタすることにより作成されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマやアーク放電などで加熱しても微粒子となり難い物質を成膜させる物理蒸着装置および物理蒸着方法を提供する。
【解決手段】内部に蒸発源材料１５と蒸発源材料１５を加熱させる加熱部１６とを備える蒸発チャンバー１０と、内部に粉体を備える粉体供給源２０と、成膜チャンバー３０とを有し、蒸発源材料１５を加熱部１６により加熱し、微粒子（ナノ粒子）を発生させ、微粒子と粉体とを超音速ノズル３５から噴出させ超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板３３に物理蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】欠陥孔内を被覆して厚さが均一で表面性状に優れる金属層を形成することが可能な金属化フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁体１の表面に金属層４が形成された金属化フィルムの製造方法であって、絶縁体１の表面に乾式めっき法により下地金属膜４を形成する工程と、絶縁体の１下地金属膜４を形成した面に有機モノマー含有液を接触させ、下地金属膜４の欠陥孔内の絶縁体１表面に導電性有機ポリマー皮膜を選択的に形成することにより、欠陥孔内を被覆する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明の主題の一つは、基材の第１の側上に堆積された少なくとも１層の薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続に保ちながら、そしてこの薄膜を溶融するステップ無しで該薄膜の結晶化度を高めるように、この少なくとも１つの薄膜が少なくとも３００℃に昇温され、該第１の側とは反対側上の温度が１５０℃以下ように保ちたれることを特徴とする、方法。
発明の別の主題は、この方法によって得ることができる材料である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ターゲット材の大面積化も容易にでき、その材質も板厚方向、幅方向、長手方向に均一であって、さらには、圧延後の焼鈍も不要となるタ−ゲット用金属部材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 高融点金属粉末を金属製容器に嵩密度ρ_sで充填する工程、該容器の内部を真空状態にした後密閉する工程、該容器を600℃以上1200℃以下の温度で圧延率Rsまで圧延する工程、からなる方法であって、該高融点金属の密度がρ₀である場合、圧延率RsをR_s={1-α×(ρ_s/ρ₀)}×100(%)で規定し、αを0.50以上0.90以下にすることを特徴とする金属部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】アンダーコート層を設けずに基材上に金属を強固に蒸着するとともに、製造工程においてチリやゴミが混入する機会を軽減する金属蒸着加工物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明又は半透明の基材と、前記基材の上層にアンダーコート層を形成することなく直接金属が蒸着された金属蒸着膜とで構成された金属蒸着加工物。好ましくは、金属蒸着加工物は、アクリル等の透明又は半透明のプラスチック材で構成される基材１と、この基材１上にホットスタンプ加工等で模様等を描画して形成される描画層２と、その基材１上に金属を蒸着することにより形成される金属蒸着膜３と、その金属蒸着膜３の保護のためにこの膜３上に形成される内側保護膜４と、金属蒸着加工物全体を外気や水等から保護するためにその内側保護膜４上に形成される外側保護膜５とを有して構成される。 （もっと読む）