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Fターム[4K029BA07]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068) | 単体金属 (3,635) | Cr (335)

Fターム[4K029BA07]に分類される特許

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【課題】配線パターンとなる金属材料中にCNTを均一に分散させると共に、配線パターンの電気導電率を向上させる。また、スパッタリングによって金属薄膜中にCNTを均一に分散混入するためのターゲット材を提供する。
【解決手段】絶縁性材料からなる基材8の表面にCNT入り金属層13を形成し、金属層13をパターンエッチングして配線パターンを形成する配線材の製造方法において、CNT入り金属層13をスパッタリング法により形成する。CNTとCuを同時にスパッタリングしてCNT入り金属層13を形成しているため、CNTをCu中に均一に混入できると共に、CNTとCu間の界面抵抗を低減でき配線の電気導電率が向上する。スパッタリング用ターゲット材10としては、CuにCNTが含まれたターゲット材を用いる。 (もっと読む)


【課題】 優れた耐焼付き性、耐亀裂性、耐溶損性を有した、高寿命の鋳造用部材を提供する。
【解決手段】 熱間ダイス鋼もしくは高速度鋼を母材とする、少なくとも作業面に被覆層を有した鋳造用部材であって、該被覆層の母材直上層には、Crを主体とする窒化物、酸窒化物、炭窒化物の1種以上からなるa層が存在し、該a層の上にはVが主体の窒化物、酸窒化物、炭窒化物の1種以上からなるb層があり、b層直上にはCrおよびTiのいずれか1種以上を主体とする金属層であるc層が存在し、更に該被覆層の最表層には、Oが原子%で25%以下である硫化物のe層があり、かつc層とe層との間には、CrおよびTiのいずれか1種以上を原子%の総量で10%以上含有する硫化物のd層が存在し、かつd層においては、Crおよび/またはTiの総量がc層側からe層側に向かい連続あるいは段階的に減少している鋳造用部材である。 (もっと読む)


剃刀の刃の剃刀の刃先に所定の層を堆積させる方法であって、この層が2つの成分からなる方法を開示している。少なくとも第1及び第2のスパッタターゲットを備える密閉容器内において、それぞれのスパッタターゲットは刃先に堆積される成分の少なくとも1つを備え、稼動の際には成分を密閉容器内に放散するように設けられている。この方法は、剃刀の刃がそれぞれのターゲットの近傍に交互に移動されるステップを備えている。
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本発明は、内燃機関のためのピストンリング10を被覆するための方法であって、該ピストンリングでは、少なくともピストンリングの摺動面07に摩耗または腐食保護層12がPVD被覆プロセスまたは電気メッキ被覆プロセスによって設けられている形式のものにおいて、エンジン稼働時のピストンリングの負荷による摩耗または腐食保護層における剥離または亀裂形成が以下の方法ステップで回避される。a)被覆パラメータを調整し、b)被覆していないピストンリング10を予荷重によって所定のピストンリング直径06もしくは合口幅01となるように負荷し、c)ステップa)の被覆パラメータでイオン被覆プロセスを実行し、d)状態b)において摩耗または腐食保護層12に生じた層内部応力を測定し、e)新たな被覆されていないピストンリング10に、測定した層内部応力に応じて引張予荷重または圧縮予荷重をかけ、f)該ピストンリングを、ステップa)の被覆パラメータによって被覆する。
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【課題】環境温度の上昇、また昇温と降温の繰り返しなどの条件下において、被覆されたDLC膜の亀裂や剥離の発生を抑制する半導体加工装置用部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、被覆層を1層以上有する金属製基材からなる半導体加工装置用部材であって、前記被覆層の最外層が水素含有量18〜40at%のダイヤモンドライクカーボン層である。また、本発明の半導体加工装置用部材の製造方法は、金属製基材表面又は被覆層を1層以上有する金属製基材の最外層に、炭化水素含有ガス雰囲気下で、パルス幅が1μS〜20mS、印加電圧が−1〜−50kV、パルス繰り返しが1000〜8000ppsのパルス電圧を印加することにより発生するプラズマによってアモルファスカーボンを析出させるものである。 (もっと読む)


【課題】 基材上に形成された金属化合物よりなる硬質皮膜の上に、アルミナ皮膜が直接または中間層を介して形成された積層皮膜において、硬質皮膜とアルミナ皮膜の密着性に優れており、優れた耐摩耗性および耐熱性を長期間にわたり発揮させることのできる積層皮膜を提供する。
【解決手段】 上記基材上に形成された金属化合物よりなる硬質皮膜の上に、アルミナ皮膜が直接または中間層を介して形成された積層皮膜において、アルミナ皮膜形成後の硬質皮膜のビッカース硬度が22GPa以上であることを特徴とする耐摩耗性、耐熱性および基材との密着性に優れた積層皮膜。 (もっと読む)


本発明は、接点面の少なくとも部分上に析出された、少なくとも支持層と接着層から成るカバー層を有する差込み式もしくは締付け式接続としての使用のための銅含有合金から成る導電性材料に関し、その際、減摩層が40原子%以上70原子%以下の炭素含量を有する。 (もっと読む)


ピストンリング本体の外周面上にコーティング層を生成するための方法において、複数の層を重ね合わせて外周面に付与することによる方法であって、プロセスガスへ窒素を添加することなく、PVD法により先ず最初にCrベースの少なくとも1層の金属性接着層を外周面に付与し、続いて、接着層の上にCrN勾配層を形成するため、窒素分圧を引き上げながら窒素をプロセスガスへ添加し、最後にCrN、Cr2Nまたは両相からの混合体をベースとする一定組成の少なくとも1層の被覆層を勾配層の上に付与する方法。
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【課題】摺動部材として、無潤滑、劣潤滑下でも低い摩擦係数を確保し、かつ密着性と摺動特性の優れたクロム含有ダイヤモンド状炭素膜、及び摺動部材を提供。
【解決手段】被コーティング材の最表面の被膜がクロムと炭素とを主成分とするクロム含有ダイヤモンド状炭素膜のとする。また、被コーティング材の表面にクロム成分の多い下地層と該下地層上に下地層よりクロム成分の少ない又は漸減するクロムと炭素とを主成分とする中間層を形成し、最表層に中間層の最上層よりクロム含有量が少なく、かつ、クロムの含有率が5〜16at%のクロム含有ダイヤモンド状炭素膜を被覆した摺動部材とする。 (もっと読む)


少なくとも滑り面の一定部分に少なくとも支持コート層と滑りコート層とからなる被覆コート層が析出被着された、滑り軸受に使用するための銅または銅含有合金からなる軸受材料であって、滑りコート層は硬質コート層であって、ダイヤモンドタイプの炭素を含有してなる軸受材料。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、800℃よりも高い使用温度で、特に酸化の最初の段階でアルミニウム含有合金を実質的にα−Alよりなる酸化物被覆層を形成し、そうして明らかに向上した長期間挙動をもたらすことである。
【解決手段】この課題は、Fe−Al、Fe−Cr−Al、Ni−AlまたはNi−Cr−Alタイプのアルミニウム含有合金のために保護層を造る方法において、
− 該合金の表面にアルミニウム不含酸化物を有する酸化物層を形成し、
− 該合金を800℃より上の温度に加熱した際に、該合金の表面のアルミニウム不含酸化物が準安定なアルミニウム酸化物の形成を抑制し、結果として専らα−Al−酸化物だけを形成する
各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 (もっと読む)


【課題】光学コーティングの腐食・傷耐性バリアを提供すること。
【解決手段】酸化可能な金属珪素化合物又は金属アルミニウム化合物を、光学コーティングの外層の1つとして使用する。この層は、未酸化又は一部酸化状態で付着され、この化学状態で、下の層を腐食から保護する。該金属化合物又は合金の層は、大多数の金属を超える硬さを有し、それにより傷からの保護を提供する。
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差動装置(10)の耐久性を改良するための方法であって、作動装置(10)は、ピニオンシャフト(12)と、ピニオン(13)の内径の表面と接触するピニオン(12a)とを有する。本方法は、ピニオンシャフト(12)又はピニオン(13)又は両方の表面の、ピニオンシャフト(12)とピニオン(13)との間の接触面に、ピニオン(13)の材料と接触する際にピニオンシャフト(12)の材料より低い摩擦係数及び高い焼き付き抵抗を有するコーティングCを結合すること、を備える。

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本発明は、片面または両面に緻密で硬質の耐摩耗性被膜を備えた被膜付き鋼ストリップ製品に関する。被膜の厚さは全厚で25μm以下、被膜の硬さは600HV以上、下地の鋼ストリップの引張強さは1200MPa以上である。被膜は電子ビーム蒸着法で形成することが望ましく、被膜は例えばAlであってよい。この被膜付き金属ストリップは、ひげ剃り道具、医療用具、一般用および工業用のナイフ、および鋸に適している。
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【課題】 高い規格化保磁力を有するとともに、熱的な安定性に優れる磁気記録媒体およびその製造方法、並びに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性基体1と、該非磁性基体1上に金属下地層2を介して形成されたコバルト基合金からなる強磁性金属層3とを備える磁気記録媒体10において、保磁力Hcが2000(Oe)以上であり、かつ異方性磁界Hkgrainが10000(Oe)以上であることを特徴とする。また、前記金属下地層2および/または強磁性金属層3が、到達真空度10-9Torr台の成膜室において、不純物濃度1ppb以下の成膜用ガスを用いて成膜されてなるものであることが好ましい。 (もっと読む)


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