【課題】基板上にマイクロパターンを高精度にかつ容易に形成することを可能とするマイクロパターンの製造方法を得る。
【解決手段】 マイクロパターンが上面６ａに形成される基板６と、前記マイクロパターンに対して反転されたパターン形状を有するフィルム状パターニング材１Ａとを用意する工程と、前記フィルム状パターニング材１Ａを前記基板６の上面に積層する工程と、前記フィルム状パターニング材１Ａが積層された基板６の上面に被パターニング材料７を塗布する工程と、前記基板６の上面６ａから前記フィルム状パターニング材１Ａを除去して、前記フィルム状パターニング材１Ａと反転されたマイクロパターンとなるように前記被パターニング材料７をパターニングし、それによって、被パターニング材料７からなるマイクロパターン７Ａを形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】金属表面に耐食性や耐磨耗性を有する硬質被膜を効率的に形成できるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】クロムを主成分とし、けい素を１〜５０原子％含有し、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、タンタル、タングステンおよびモリブデンから成る群より選択される少なくとも１種の元素を０．１〜３０原子％含有する原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を真空度が５×１０^−２Ｐａ以下の真空中で脱ガス処理を実施する工程と、脱ガス処理した原料粉末に２０〜３５ＭＰａの加圧力を作用せしめ温度１１００℃〜１５００℃に加熱して焼結し板状の合金ターゲット材を調製する工程とを備えることにより、相対密度が９５．０％以上であり、欠陥の最大幅が０．１ｍｍ以下であり、ビッカース硬度（Ｈｖ０．０５）が１０００以上の硬質被膜を形成するスパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】突発的なパーティクルの発生を低減し、膜質及び薄膜製造効率の向上を実現することができるスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のスパッタリングターゲットの製造方法は、マグネトロンスパッタリング装置用のスパッタリングターゲットの製造方法であって、ターゲット本体を準備し、前記ターゲット本体表面の非エロージョン領域をブラスト処理し、前記非エロージョン領域を超音波洗浄し、前記超音波洗浄した前記非エロージョン領域をエッチングし、または洗浄液でジェット洗浄し、前記非エロージョン領域を再度超音波洗浄する。 （もっと読む）

第１の銀含有金属窒化物被覆を有する、ヒト体内組織と接触した状態で使用するための金属製生物医学的物品、好ましくは、整形外科用インプラント、器具または道具、およびそれらを作製するための方法を提供する。
（もっと読む）

【課題】 ハードディスク等の磁気記録ディスクの製造に用いられると好適なインライン型基板処理装置を提供する。
【解決手段】 真空中で基板を処理する処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーが接続された第一第二の無終端状の搬送路１，２に沿って、基板を保持するための基板保持具５１，５２をそれぞれ周回させる第一第二の周回機構がそれぞれ設けられている。第一の基板保持具５１から基板を取り外し、第三の搬送路３に沿って基板を大気に取り出すことなく真空中で搬送し、第二の基板保持具５２に移載する搬送系が設けられている。 （もっと読む）

【課題】平滑性と光沢性を両立すると共に、金型離型性に優れ、耐熱性が良好で、高温環境下における加熱曇りを抑制した成形品を成形できる熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いて成形された光反射体用部品、および当該光反射体用部品に光反射金属層が直接形成された光反射体を提供する
【解決手段】（Ａ）熱可塑性ポリエステル樹脂１００質量部に対して、（Ｂ）脂肪酸エステルを０．０５〜３質量部含有する熱可塑性樹脂組成物であって、当該熱可塑性樹脂組成物の脂肪酸含有量が５０ｐｐｍ以下である熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高スループット・大面積・低コストの微細パターンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基体１上に加工対象層２を形成し、前記加工対象層２上に透明誘電体からなるレジスト層を形成するとともに、前記レジスト層をナノインプリント法によってパターニングすることにより、前記レジスト層の上面に凹部５３を有するパターン化レジスト層３を作るパターン化レジスト層形成工程と、少なくとも前記パターン化レジスト層３の上面３ａに金属層からなるハードマスク層４を形成した後、前記凹部５３の底部５３ａに残されたレジスト残渣５５をエッチングして除去してから、前記パターン化レジスト層３をマスクにして前記加工対象層２をエッチングするエッチング工程と、を具備することを特徴とする微細パターンの製造方法を提供することによって、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】 有機溶剤を用いて保護膜を形成しても樹脂製基材が侵されることがない保護膜で保護された金属装飾膜を備えた樹脂製基材及び樹脂製基材への金属装飾膜の積層方法を提供する。
【解決手段】 保護膜で保護された金属装飾膜を樹脂製基材に積層する方法であって、前記樹脂製基材上に、蒸着重合法による高分子膜と、金属装飾膜とを積層した後、有機溶剤を用いて保護膜を積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ほとんど保磁力あるいは飽和磁化が無い非磁性部を記録層に形成することができ、優れた磁気特性の記録媒体を容易に得ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にＣｒＰｔ₃からなる記録層１３’を形成する工程と、記録層１３’の表面にマスクパターン層１５’を形成する工程と、マスクパターン層１５’から露出した記録層１３’の各部にイオンを照射する工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
マスター型の表面に導電層、電鋳層、適宜裏打ち材を順次積層し、マスター型の表面と導電層の界面で剥離して、マスター型の形状を転写する電鋳法において、マスター型から強制剥離が可能で、しかも電析プロセス中には隔離しないように付着力を制御して導電層を形成する電鋳法における形状転写導電層の形成方法を提供する。
【解決手段】
マスター型Ｍの表面にアークプラズマ法によってアンカー金属７を離散的に付着させ、その後、アンカー金属とは異なる金属を物理的蒸着法によって蒸着して導電層８を形成する。具体的には、Ｓｉ単結晶からなるマスター型表面にＣｒ密度（×10¹⁰(atoms/cm²)）が６０００〜１５０００となるように付着させ、その上からＰｔ導電層を電子ビーム蒸着法で形成する。 （もっと読む）

【課題】 加飾性、金属光沢性があり、光透過性と光吸収性が両立され、さらには導電性を有する光学薄膜積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】 基材の一方の面に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を少なくとも１層以上積層した積層構造であり、且つ、前記基材の薄膜積層体が形成されている面と反対側の面に導電性薄膜層が形成されていることを特徴とする光学薄膜積層体とした。また、前記導電性薄膜層が形成されている面の表面の表面抵抗率が１．００×１０^−４Ω／□未満であることを特徴とする光学薄膜積層体とした。 （もっと読む）

【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、かつ低コストである電波透過性装飾部材を提供する。
【解決手段】該課題は、基体１２と、該基体１２上に設けられた、半導体物質からなる光反射層１４とを有する電波透過性装飾部材１０により解決され、光反射層１４としては、半導体物質の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】可視光の透過率が低く、反射明度および反射彩度が十分に大きい金属光沢を有し、光吸収機能の得られる光吸収層を備える光学薄膜積層体を提供する。
【解決手段】基材２上に、光学薄膜層３が設けられ、光学薄膜層３が、高屈折率薄膜層４，７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする光学薄膜積層体１とする。 （もっと読む）

【課題】鋼中への水素の侵入が生じにくく長寿命な水素コンプレッサ用転がり軸受を提供する。
【解決手段】深溝玉軸受は、内輪１，外輪２，転動体３，及び保持器４を備えている。そして、内輪１の軌道面１ａ，外輪２の軌道面２ａ，及び転動体３の転動面３ａには、等価弾性定数が１００ＧＰａ以上２８０ＧＰａ以下であり且つ厚さが０．２μｍ以上２μｍ以下であるダイヤモンドライクカーボン被膜Ｄが被覆されている。 （もっと読む）

【課題】裏打ち部材による熱伝導性の低下がないとともに、アーキングの発生を確実に防止することができるスパッタリングターゲットを提供し、また、そのようなスパッタリングターゲットとバッキングプレートとの間にボンディング材を密着させることができるターゲット組み立て体を提供する。
【解決手段】複数のターゲット部材４ａ〜４bの側面どうしを継ぎ合わせてなるスパッタリングターゲット２において、ターゲット部材４ａ〜４bの継ぎ目Ｔに裏打ち部材５が設けられるとともに、該裏打ち部材５は、前記継ぎ目Ｔを塞ぐ金属製テープ１１と、該金属製テープ１１の両側部をターゲット部材４ａ〜４bに固定する接着テープ１２とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】ターゲット交換に伴う非稼動時間を短縮する。
【解決手段】スパッタリングターゲットと成膜のための基板とが配置される成膜室を有したスパッタリング装置において、退避位置から作用位置へ移動することにより成膜室を互いの間が気密な２つの空間に区画し、かつ作用位置から退避位置へ移動することにより成膜室の区画を解除する可動の仕切りを設け、作用位置を成膜室における基板の配置される領域とスパッタリングターゲットの配置される領域との間の位置とし、区画された２つの空間のうちの基板が配置される領域を含む一方の空間を真空に保った状態でのターゲット交換が可能な構成とする。 （もっと読む）

【課題】低コストで、良好な外観を呈する装飾樹脂製品及びこの装飾樹脂材料の製造方法を提供する。
【解決手段】高周波スパッタリングにより平滑化された表面を有する樹脂製の基材１１と、基材１１にドライプロセスにより形成された金属層１２とを備えた装飾樹脂製品、及び、高周波スパッタリングにより樹脂製の基材１１の表面を平滑化する平滑化工程と、平滑化工程後の基材１１にドライプロセスにより金属層１２を形成する装飾工程とを備えた装飾樹脂製品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性と十分な本物感とが有利に表現され得る加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】基材１２の意匠面１８に、物理蒸着法又は化学蒸着法により金属薄膜２０を直接に形成して、金属調の加飾を施すと共に、該金属薄膜２０に対して、該基材１２と該金属薄膜２０の両方に付着する特性を備えた透明な塗膜からなるトップコート層２２を１０〜４０μｍの厚さで形成して、構成した。 （もっと読む）

【課題】
優れた耐衝撃性、耐薬品性、ハイサイクル性、寸法安定性、流動性、金属調の高級感のある光沢・深み・色調の意匠性を兼備した直接金属蒸着層とハードコート層を有する成形品用ポリエステル樹脂組成物、及び該樹脂組成物からなる成形品を提供すること。
【解決手段】
表面に金属蒸着層とハードコート層をこの順に設ける樹脂製基体用ポリエステル樹脂組成物であって、該ポリエステル樹脂組成物が、ポリエステル樹脂（Ａ）１００重量部に対してポリカーボネート樹脂（Ｂ）５〜１００重量部と、熱可塑性エラストマー（Ｃ）０．５〜４０重量部を含有してなるポリエステル樹脂組成物、及びこれを成形してなる樹脂製基体。 （もっと読む）

【課題】大気中かつ無潤滑環境下でも耐摩耗性・低摩擦性能に優れた硬質炭素被膜を提供する。
【解決手段】Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の高融点金属を含む基材１２上に、各層間の密着性を高めるためＣｒ中間層４１、および組成傾斜層４２を形成し、その上に２.７ａｔ％以上７.７ａｔ％以下のＭｏ元素、及び１.３ａｔ％以上４.６ａｔ％以下のＳ元素、及び７.０ａｔ％以上９.５ａｔ％以下のＯ元素を含む硬質炭素被膜４３を０．２μｍ以上０．３μｍ以下の厚さに形成する。 （もっと読む）