【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により室温で洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、マスク１０を所定のリンス液により室温でリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、重力を起因とする応力によってマスク１０の金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスク１０を保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスク１０を第１及び第２の洗浄槽２１，２２及び第１及び第２のリンス槽５１，５２へ搬送する搬送装置２４０と、を備える。ここで、搬送装置２４０は、最初に水平な状態でマスク１０を保持した後、当該マスク１０を保持したまま、垂直方向に起き上がり、上記所定の角度を以って当該マスク１０を保持する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

ＯＬＥＤ形成において、剥離可能蒸着マスク(12)を介して材料を真空蒸着する用途のための可撓性フレーム(14)に蒸着マスク(12)を取付ける方法であって、剥離可能蒸着マスクが上に形成されたプレート(38)を用意し；前記剥離可能蒸着マスクの周縁部に対応するフレーム開口を画定する周縁部(10)を有する可撓性フレームを用意し；前記剥離可能蒸着マスクの周縁部に前記可撓性フレームの周縁部を整合させてから固定し、前記可撓性フレーム及び固定された剥離可能蒸着マスクを前記プレートから取り外し；そして可撓性フレームを剥離可能蒸着マスクと共に、その後の材料の真空蒸着中に前記剥離可能蒸着マスクの平面性を維持するキャリア(26)に取付ける各工程を含む方法。
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【課題】 半導体集積回路装置における多層配線に用いられる低誘電率の絶縁膜として有用な膜を提供する。
【解決手段】 特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、成膜室に接続された減圧手段により減圧して、成膜室で蒸発源から有機化合物材料を蒸発させて成膜する際、有機化合物材料の粒子よりも小さい粒子、即ち原子半径の小さい材料からなるガス（シラン系ガス等）を微量に流し、有機化合物膜中に原子半径の小さい材料を含ませる新規な成膜方法を提供する。
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有機エレクトロルミネセンス（電子発光）表示装置の製造方法において、第１の方向においても第２の方向と同様に第１の導体を延在させる層配置が基板に適用される一方、電圧の影響下で発光する有機エレクトロルミネセンス接続が導体の交差部間に設けられ、基板はプラスチックから作られ、その基板には、少なくとも形成すべきいくつかの層のために境界を形成する表面構造が設けられる。本発明はまた、有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造する本発明に係る方法における用途を意図する基板を提供するものであり、その基板は、プラスチックから作られ、その基板には、少なくとも形成すべきいくつかの層のために境界を形成する表面構造が設けられる。本発明はさらに、本発明に係る方法により得られる有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。
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【課題】 本発明は、円板型の対向ターゲットを使用することにより、薄膜形成時に発生する高いエネルギーを有する粒子の基板衝突による膜の損傷を防止し、前記円板型の対向ターゲットの周りに複数の基板を回転させて薄膜を形成することにより、大量生産に適合したスパッタリング装置及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法を提供するためのものである。
【解決手段】 本発明は、胴体をなすチャンバーと、前記チャンバーの内壁に沿って複数の基板を装着できる基板装着部と、を備えるチャンバー部と、所定の距離を置いて対向配置されて拘束空間を形成する一対の対向スパッタリングターゲットと、前記一対のターゲットの各々の背面に設けられて前記拘束空間に磁界を発生させる磁界発生手段と、を備えてなされる。 （もっと読む）

【課題】マスク部材単体にしわ・たるみ等が発生し易い場合であっても、製造過程でそのしわ・たるみ等を除去することができ、これにより微細蒸着パターンへの対応を可能にしつつ形成パターンのパターン位置精度を高く保てるようにする。
【解決手段】薄膜金属からなるマスク部材４と、紗状のスクリーンメッシュ部材３と、方形状の枠部材２とを備え、前記スクリーンメッシュ部材３を介して前記マスク部材４が前記枠部材２内に張設されるコンビネーションマスクについて、前記スクリーンメッシュ部材３と前記マスク部材４とを仮固定する仮固定工程と、前記マスク部材４が仮固定された後の前記スクリーンメッシュ部材３に張力を与える張設工程と、前記スクリーンメッシュ部材３に張力を与えた後、仮固定されている前記マスク部材４を前記スクリーンメッシュ部材３に本固定する本固定工程と、を経て製造する。 （もっと読む）

【課題】 円筒部材（正確には複数の扇型に湾曲された湾曲部材からなる略円筒の部材）の一部をターゲットとして使用した上で、この円筒部材を用いてプラズマ重合の機能を付加することを意図した真空成膜装置を提供する。
【解決手段】 真空成膜装置１００は、内部空間を有する導電性の真空槽１３と、前記内部空間１０に複数の扇型に湾曲された湾曲部材３１、３２を並べて配置することにより、略円筒形をなすように構成された枠体１５と、前記枠体１５に囲まれた内部に配置され、前記枠体１５の周方向に沿うように磁界を形成する磁界形成手段３３と、を備え、前記湾曲部材１５、１６のうちの少なくとも一つはスパッタリングに使用するターゲットであり、かつ前記ターゲットを除いた前記枠体の領域が、プラズマ重合に使用される装置である。 （もっと読む）

粒子状材料を気化させて表面上に凝縮させることで層を形成する1つの方法では、ある量の粒子状材料を、その粒子状材料が自由に通過できるサイズの開口部を有する第1の容器に供給する。その粒子状材料は、開口部を通じてスクリュー構造の中に移される。そのスクリュー構造の少なくとも一部を回転させて粒子状材料を第1の容器から供給路に沿って気化ゾーンに移し、その気化ゾーンでその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させて表面に供給することで層を形成する。スクリュー構造のサイズは、粒子状材料が開口部を自由に通過するのが容易になるように選択されている。
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本発明は、原子層蒸着法において、基材上または多孔性固体の中あるいは上に銅膜を形成するための新規な原子層蒸着法に関する。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス周期を長期化し、高品質の薄膜の成膜が可能となる蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置を提供。
【解決手段】 蒸発源１に充填した成膜材料２を加熱して蒸発させ、基板３上に付着させることでこの基板３上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の前記基板３側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞する閉塞部４を、回動軸の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部４間を前記経路を開放する開放部７としたシャッタ部５を前記回動軸に設け、このシャッタ部５は、前記回動軸を回動して、前記シャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する状態と、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設ける。 （もっと読む）

粒子状材料を気化させて表面上に凝縮させることで層を形成する本発明の方法では、ある量の第1の粒子状材料を、第1の開口部を有する第1の容器に供給し、ある量の第2の粒子状材料を、その第1の容器と離れていて第2の開口部を有する第2の容器に供給する。第1の粒子状材料は第1の容器の第1の開口部を通じてマニホールドの中に移され、そのマニホールドの中で第1の粒子状材料が気化する。第2の粒子状材料は第2の容器の第2の開口部を通じて上記マニホールドの中に移され、マニホールドの中で第2の粒子状材料が気化することにより、第1の粒子状材料と第2の粒子状材料が混合する。この気化した混合材料がマニホールドから表面に供給されて層を形成する。
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【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた気相堆積法による成膜時の基板温度をより正確に管理し、これにより、これら薄膜の位置精度を向上させること。
【解決手段】本発明の方法は、絶縁基板ＳＵＢとその上に形成され且つ表示素子ＯＬＥＤを含んだ構造体とを具備した表示装置を製造する方法であって、真空中で、マスクを用いた気相堆積法により、前記絶縁基板ＳＵＢ上に、前記構造体の一部として前記マスクのパターンに対応したパターンを有する薄膜を形成する工程を含み、前記薄膜を形成する前及び／又は前記薄膜を形成している間、金属基板とその一主面を被覆し且つ前記金属基板よりも赤外線吸収率がより高い赤外線吸収層とを備えた冷却板を、前記赤外線吸収層が前記絶縁基板ＳＵＢと向き合うように配置することにより、前記絶縁基板ＳＵＢを冷却することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 用いるマスクが大型の場合にも精度良く目的の膜パターンを得ることができるマスクを提供する。
【解決手段】 本発明のマスクは、開口部７を有するベース部材２と、該ベース部材２上であって前記開口部７を覆う位置に配設され且つ所定パターンのマスク開口部４を備えるマスク部材３とを有し、前記マスク開口部４は、形成したい膜の面積よりも小さい開口面積を有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 被成膜領域の大型化に対応することができ、しかも高い品質を経済的に維持することが可能なマスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法および電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の開口部２２を有するチップ２０を支持基板１０に複数接合してなるマスク１であって、チップ２０が支持基板１０から取り外し可能とされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】ウエハ上に半導体素子を形成する方法が提供されている。エッチング層が、ウエハの上に形成される。フォトレジストマスクが、エッチング層の上に形成される。フォトレジストマスクは、ウエハの外縁付近のみ除去されて、ウエハの外縁付近のエッチング層が露出される。炭素および水素を含有する種を備えた蒸着ガスが供給される。蒸着ガスから、プラズマが形成される。ポリマ層が、ウエハの外縁付近の露出エッチング層に蒸着される。この時、ポリマは、蒸着ガス由来のプラズマから形成される。フォトレジストマスクと、ウエハの外縁付近の露出エッチング層に蒸着されたポリマとが消費されつつ、フォトレジストマスクを介してエッチング層がエッチングされる。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性及び撥水性の耐久性により優れた光学部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 プラスチック基材と、このプラスチック基材上に真空蒸着法で形成された多層反射防止膜と、この多層反射防止膜上に形成された撥水層とを有する光学部材であって、前記多層反射防止膜の最外層が、二酸化ケイ素を含有する無機物質と、有機ケイ素化合物及び／又はケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として真空蒸着法で形成され、かつ酸素及び／又はアルゴンイオンが照射されてなるハイブリッド層であり、前記撥水層が、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料が電子銃による加熱処理で、前記最外層に蒸着されてなる層である光学部材である。 （もっと読む）