【課題】鉛直状態で移送されるトレイを安定かつ高速に移送し、トレイの進入及び排出を感知することができるトレイ移送装置を提供する。
【解決手段】基板及びマスクが固着され、下端に棒状の密着部材が設置された鉛直状態のトレイ１１２の移送のためにトレイ下部に密着して移送経路を形成し、駆動源によって回転される複数のプーリー１１４を備えた移送部と、前記トレイ１１２の移送路上にセンサーを備え、トレイ１１２の進入及び排出を感知できる感知部とを含んでなる移送装置１００。 （もっと読む）

【課題】 鉛直配置されたマスクフレーム上にシャドウマスクを隣接させ、引張力を加えた状態で、マスクフレームに溶接をして付着することにより、鉛直方向への垂れを予め反映してマスク付着後のパターンの変形を防止し、整列可否を予め確認可能にしたシャドウマスクの付着方法を提供する。
【解決手段】 マスクフレームを鉛直配置する段階と、シャドウマスクを前記マスクフレーム上に付着する段階と、からなることを特徴とするシャドウマスクの付着方法が提供される。また、前記シャドウマスクを前記マスクレーム上に付着する段階は、前記シャドウマスクを前記マスクフレーム上に隣接させる段階と、前記シャドウマスクに外力を加える段階と、前記マスクフレーム上に外力が加えられた前記シャドウマスクを接合させる段階と、からなる。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、機械的強度に優れる絶縁膜を容易かつ安価に形成し得る絶縁膜の形成方法、かかる絶縁膜の形成方法により形成された絶縁膜を備える電子デバイス用基板、この電子デバイス用基板を備える電子デバイスおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】多層配線基板１は、基板２と、基板２上に設けられた第１の配線パターン３と、第１の配線パターン３を覆うように設けられた第１の絶縁膜４と、第１の絶縁膜４上に設けられた第２の配線パターン５と、第２の配線パターン５を覆うように設けられた第２の絶縁膜６とを有している。各絶縁膜４、６を得るのに本発明の絶縁膜の形成方法が適用される。本発明の絶縁膜の形成方法は、シリコーンオイルを気化させる第１の工程と、気化したシリコーンオイルをプラズマ重合して得られた重合体を堆積させて、該重合体を主としてなる絶縁膜を形成する第２の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 マスクにおける撓み発生を防止ないし抑制し、高精度な蒸着等の成膜を容易に行うことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明のマスク１００は、ベース基板１とマスク本体基板３との間に金属膜２を有してなり、ベース基板１は開口部１０を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなる一方、金属膜２はベース基板１の開口部１０と連通する開口部２０を有し、マスク本体基板３は、開口部１０及び開口部２０の平面視内側に位置する所定パターンの開口部群３１を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ルツボで気化された蒸着物質による噴射ノズルの詰まりまたはスプラッシュ現象を防止して，基板に形成される有機物層の均一度を高めることができる蒸発源の加熱制御方法，蒸発源の冷却制御方法および蒸発源の制御方法を提供すること。
【解決手段】バッファー領域と成膜領域とを有する蒸着システムで，蒸着物質を収容するルツボ２２と，上記ルツボで気化された上記蒸着物質を案内する誘導路２４と，上記誘導路に案内された上記蒸着物質を噴射する噴射ノズル部２６と，を具備した蒸発源２０の加熱制御方法において，ａ）上記誘導路および噴射ノズル部を加熱する段階と，ｂ）上記ａ段階の後に，上記ルツボを加熱する段階と，を含む。 （もっと読む）

本発明の成膜装置及び方法は、裏面に永久磁石（１０）が配置されたカソード（５）に、ＨＦ電源（１１）から高周波電圧を与えてリアクティブモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いてプラズマ重合成膜を行う。また、真空チャンバ（１）内のプラズマ源ガスの圧力を調整して、リアクティブモードではなくメタリックモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いて、ターゲットたるカソード（５）をスパッタしてマグネトロンスパッタ成膜を行う。
（もっと読む）

【課題】自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板にテンションをかけずにマスクと非接触に支持して、基板とマスクの位置検出用マークの位置を正確に検出して、高精度にアライメントすること。
【解決手段】パターンが形成されたメタルマスク１２をマスク台４に保持し、マスクの隅部に設けられた位置検出用のマーク１４を光源８と反射板組立体とで下側から光照射して上方のＣＣＤカメラ１０で撮影し、蒸着する表面を下向きにしてマスク１２の上方に搬送された透明基板１１の両側部をフック部材でマスクと隙間を開けて支持し、基板の隅部に設けられたマーク１３を光源９で上から光照射してカメラ１０で撮影し、演算装置２０で、マスクと基板のマークを撮影した画像の処理によって得られるマークの位置情報から、基板とマスクの相対位置を演算し、基板とマスクの相対位置が所定の許容範囲内になるように、基板を演算された相対位置に基づいて移動させて、基板とマスクのアライメントを得る。 （もっと読む）

【課題】 蒸着膜を形成する場合、形成される蒸着膜の膜厚の制御性が良好となる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 内部に被処理基板を保持する処理容器と、前記被処理基板に蒸着する蒸着材料を保持する蒸着源と、を有する蒸着装置であって、前記処理容器内に堆積した蒸着膜の膜厚を測定する測定手段を有し、前記測定手段は、前記蒸着膜に光を照射することで前記膜厚を測定することを特徴とする蒸着装置 （もっと読む）

【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本来の形状寸法を維持しつつ、できるだけ多数回、蒸着マスクの使用を可能にすることのできる蒸着マスクのクリーニング方法を実現する。
【解決手段】 堆積物が付着した蒸着マスク１に対し、蒸着マスク１における堆積物が付着した面の振動を誘起するレーザービーム１５を照射し、蒸着マスク１から堆積物を剥離する。 （もっと読む）

【課題】 ＥＬパネルを構成する透明基板とマスク板とをアライメントするときに、透明基板の撓みによって透明基板とマスク板とを接触することを防止し、高精度にアライメントを行う。
【解決手段】 透明基板１とマスク板２とのアライメントは、夫々の角隅部に形成されたアライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５により観察して行われるが、カメラ５の被写界深度内で行うために、両アライメントマークはできる限り近接させた状態でアライメントを行う。このとき、透明基板１の中央部分に撓みが生じて透明基板１とマスク板２とを接触させないために、予め透明基板１を反自重方向に向けて僅かに凸形状に湾曲させた状態で、透明基板１とマスク板２とを近接させる。 （もっと読む）

【課題】蒸気発生源から基板への物質の流れを中断する問題、および同時に気化物質を節約する問題を解決することにある。
【解決手段】本発明は、蒸気発生源および該蒸気発生源と基板との間の蒸気バリヤを備えた基板のコーティング装置に関する。蒸気バリヤは、少なくとも気化すべき物質の気化温度以上の温度に維持される。蒸気バリヤは、可動ロッドに連結された球状閉鎖部分を備えた石英弁として実施される。この球状閉鎖部分は、第１の位置において、蒸気発生源に連結された蒸気導入チューブを閉じ、かつ第２の位置において、石英チューブをシールしている球状キャップに当接する。 （もっと読む）

【課題】 複数のマスク部２を備えたメタルマスク１の４辺を複数のクランプ１８で引張ってゆがみやたるみの無い状態に引き伸ばす際に、メタルマスクのコーナー部を挟んで配置されたクランプ同士の干渉を避けてコーナー部まで所定の寸法精度で引き伸ばすことを可能とする。
【解決手段】 メタルマスク１のコーナー部を挟んで配置されるクランプ１８を、引張力付加方向に直角な方向に移動可能としておき、メタルマスクがコーナー部をはさんで隣接したクランプ１８、１８で互いに直角なＡ方向、Ｂ方向に引っ張られた際、クランプ１８がそのメタルマスクの移動に追従して移動することで、クランプ同士の干渉を避け、メタルマスク１をコーナー部まで支障なく引き伸ばし可能とする。 （もっと読む）

【目的】 表面保護膜を複数面に備えた光学要素において、表面保護膜の成膜工数を低減できる光学要素の製造方法を提供すること。
【構成】 光学レンズの両面（光学面）に表面保護膜（撥水／防汚処理膜）を備えた光学レンズの製造方法。反射防止膜成膜室（真空室）２２内での反射防止膜成膜に続いて、表面保護膜成膜室（真空室）２４内に保持されたワーク（レンズ基材）ｗの両面に対面させた各加熱蒸発源３２、３２Ａを用いて各表面保護膜を同時的に成膜する。 （もっと読む）

【課題】インライン形態の薄膜蒸着システムにおいて、基板を固定及び支持して鉛直蒸着を具現し、移送中微細粒子の影響を最小化してマスクの平坦度を充分に確保することができる整列システム、垂直型トレイ移送装置及びこれを具備した蒸着装置を提供すること。
【解決手段】鉛直に基板１０が固着された基板トレイ１００と、前記基板トレイ１００と整列されるように鉛直にマスク３０が固着されたマスクトレイ３００と、前記基板トレイ１００とマスクトレイ３００が締結部によって締結されるトレイホルダーと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 窓枠形状のフレームにテンションを付加した状態のメタルマスクを固定した構造のメタルマスクユニットにおいて、フレームの厚さを増大させて剛性を高めることなくメタルマスクユニットに生じる反りを抑制して平面度を高める。
【解決手段】 窓枠形状のフレーム１３の表面に、縦方向及び横方向にテンションを付加したメタルマスク１１を取り付けたメタルマスクユニット１０において、フレーム１３の４辺の裏面に、テンションを付加した状態の金属テープ１７、１８を取り付けて、フレーム１３の反りを抑制する構造とする。 （もっと読む）

【課題】別途の電子注入層を必要とせず，且つ電子注入特性の向上したカソードを備えることが可能な有機電界発光素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の有機電界発光素子は，アノード１１０と，マグネシウム−カルシウム膜のカソード１８０と，アノード１１０と上記カソード１８０との間に介在し，少なくとも有機発光層１４０を備える有機機能膜Ａとを含む。 （もっと読む）

【課題】昇華精製後の材料への酸素や水の吸着を防止することができる生産性の高い蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。
【解決手段】成膜を行う真空チャンバー、真空チャンバー外に設置された蒸着材料を充填する第１の容器、第１の容器と真空チャンバーを連結するチューブ、チャンバーへ繋がるチューブを開閉するバルブ、第１の容器を加熱する手段、チューブを加熱する手段から構成され、蒸着開始以前に蒸着材料の沸点より低い温度で蒸着材料から低沸点物質を除去する手段を含んで蒸着装置を構成する。又、蒸着材料を充填した第１の容器と、第１の容器に連結された低沸点物質を除去する手段を持つことを特徴とする蒸着装置において、蒸着開始前に低沸点物質を除去し、低沸点物質除去後の材料を外気に暴露させないで基板に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板上に略均一な厚さとなるよう再現性良く、蒸着膜を蒸着することのできる蒸着装置を提供することを課題とする。。
【解決手段】 蒸着材料を収容する収容部１０１と、収容部１０１を加熱する加熱手段１０３と、収容部１０１にキャリアガスを導入するためのガス導入口１０１Ａと、キャリアガスにより、気化又は昇華された蒸着材料を放出する放出口１０１Ｂと、放出口１０１Ｂに設置され、収容部１０１内の圧力を調整する圧力調整手段１０４と、収容部１０１を冷却する冷却部１０８とを備えた蒸着源を複数設け、複数の蒸着源を断熱部材１１０を介して供給用管路９２に接続した。 （もっと読む）