【課題】 貴金属材料の使用量を削減しつつ、低抵抗の電気配線を高い生産能力で形成することができる成膜方法等を提供する。
【解決手段】 基板５０上に薄膜５２のパターン１２を形成する成膜方法であって、マスク１０を用いて気相成長法により基板５０上に金属下地膜６０を成膜し、パターン１２を形成する第１工程と、基板５０にメッキ処理を施して金属下地層からなるパターン１２上に金属膜６５を成膜する第２工程と、を有する。
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【課題】 使用中に極めて変形が少なく、亀裂、割れなども起こらず、安定使用することが出来る蒸着用発熱体を提供すること。
【解決手段】 真空装置の蒸発源４０を蒸発させる蒸着用発熱体１０において、電力導入電極３０に固定される抵抗加熱体部分と蒸発源を蒸発させる抵抗加熱体部分を分離し、これらを伸縮させられることが出来る緩衝構造体１で再結合した。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 用いるマスクが大型の場合にも精度良く目的の膜パターンを得ることができるマスクを提供する。
【解決手段】 本発明のマスクは、開口部７を有するベース部材２と、該ベース部材２上であって前記開口部７を覆う位置に配設され且つ所定パターンのマスク開口部４を備えるマスク部材３とを有し、前記マスク開口部４は、形成したい膜の面積よりも小さい開口面積を有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、連続的に金属を供給して蒸発させるための、ＰＶＤ金属蒸着装置中の気化器本体の準備および動作に関する。気化器本体に適用される層構造が、未焼結状態である焼結可能な粉末材料とともに金属に供給され、原料の層構造の形態で気化器本体に加えられ、気化器本体を加熱することによって金属蒸着サイクル中に焼結融合される。層構造は、金属蒸着工程中に使用することができ、金属蒸着サイクルの後毎に金属蒸着装置中で直接更新することができる。
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【課題】より優れた輝尽発光輝度を有する放射線画像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層が形成された蛍光体プレートを空気又は不活性ガス雰囲気下で熱処理と有機溶剤ガス雰囲気下で熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバの空間利用効率を向上させ、かつワークの表裏面の膜厚差を小さくできる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】カセット保持枠１０を真空チャンバ１内に水平な回転軸１１を中心として回転自在に支持し、ワークＷを保持した複数のカセット１６をカセット軸１５によってカセット保持枠１０に回転自在に支持する。カセット軸１５はカセット保持枠１０に周方向に間隔をあけて保持され、カセット軸の端部には真空チャンバの内部に固定されたリングギヤ６にかみ合うピニオンギヤ１７が設けられる。蒸発源８はカセット保持枠１０の中に挿入され、蒸発源８が１箇所で済むので真空チャンバ内の空間効率を上げることができ、カセット１６を自転・公転させながらワークの表裏面を同時蒸着するので、表裏面の膜厚差を無くすことができる。 （もっと読む）

充てん物を含むポリマーマトリクス複合体から作られる製品表面の電気的接続性を改善する方法は、以下の工程を含む：室温よりも高い第一処理温度まで製品の表面を加熱する工程；表面のポリマーの除去と充てん物の除去を酸素ラジカルにより行う表面の第一プラズマ処理工程；プラズマ処理した当該製品の表面を第一処理温度よりも低い第二処理温度まで冷却する工程；表面の活性化を酸素ラジカルにより行う第一プラズマ処理によって生成された表面の第二プラズマ処理工程；第二プラズマ処理により生成された表面上でメタライゼーションを蒸着する工程。 （もっと読む）

【課題】 被成膜領域の大型化に対応することができ、しかも高い品質を経済的に維持することが可能なマスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法および電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の開口部２２を有するチップ２０を支持基板１０に複数接合してなるマスク１であって、チップ２０が支持基板１０から取り外し可能とされていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、薄膜形成装置、すなわち、たとえば半導体ウエハまたは液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造プロセスにおいて基板に様々な材料からなる薄膜を形成するための装置に関する。薄膜形成装置は、薄膜が形成される基板を搭載するための基板支持体と、基板支持体を取り囲んで適切な作動条件を有するチャンバを備える。さらに、インジウム、錫、鉛、あるいはアンチモンなどの延性金属材料を金属または合成樹脂母材に塗布することにより構成される吸着手段を、薄膜形成装置内の基板を除く部品表面に付着する。したがって、構成要素表面に形成された後、そこから剥離した不要な薄膜の一部分が基板に付着することにより生じる薄膜形成不良を根本的に防ぐことができる。
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【課題】 水晶振動子の周波数温度特性を改善し、低レート成膜にも十分に対応できる膜厚監視方法および膜厚監視装置を提供する。
【解決手段】 センサヘッド５に保持された水晶振動子の表面に成膜材料を付着させ、この成膜材料の堆積による水晶振動子の共振周波数の変化量を測定し、被処理基板Ｗ上に堆積される成膜材料の膜厚を監視する膜厚監視方法において、センサヘッド５の温度が８０℃を超えるまでは、水晶振動子１０の冷却処理を行わないようにする。また、水晶振動子１０としては、室温から８０℃付近までにおける温度ドリフトが２０ｐｐｍ以下の水晶基板を用いる。これにより、室温から８０℃付近までの温度範囲における共振周波数の温度ドリフトを微量に抑制し、高精度な膜厚監視および成膜レートの制御を実現できるとともに、数Å／ｓ程度の低レート成膜にも十分に対応可能となる。 （もっと読む）

【課題】 大きなサイズの基板の表面に均一な厚みの薄膜を形成するために好ましく用いることのできる簡単な構成の薄膜蒸着装置を提供すること。
【解決手段】 基板の中心位置の回りを基板平面に沿って回転するように基板を保持することのできる基板ホルダと、この基板ホルダの対向位置に設定された蒸発源設置領域とを内部に備えた真空槽からなる、基板表面に薄膜を蒸着により形成する装置において、基板の半径よりも長い長さを持つ細長い一もしくは二以上の蒸着遮蔽板が、基板が保持される領域の外側に設置された支点により、所定の周期にて先端部が基板の中心位置を覆うように移動する上記支点を中心にする回転運動もしくは揺動運動が可能なように設置されていることを特徴とする薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】レンズに複数種の薄膜を形成する加工装置のサイクルタイムを短縮して、生産性を向上させる。
【解決手段】レンズの加工条件を設定する処理６３１３と、複数の蒸着原料のうちから加工条件に応じた蒸着原料を選択する処理６３１４と、レンズに形成される薄膜を測定する光学式膜厚計を加工条件に応じて設定する処理６３１５、６３１６と、蒸着原料を加熱する加熱源の制御条件を設定する処理６３１８と、設定された制御条件で加熱源を起動する処理６３２５と、加熱源により前記蒸着原料を気化させて前記レンズに薄膜を形成する処理と、を含み、薄膜を形成する処理の開始以前に、蒸着原料を選択する処理６３１４と、光学式膜厚計を設定する処理６３１５、６３１６とを並列的に行う。 （もっと読む）

【課題】下地金属層を形成する時に生ずるピンホールに起因する銅被膜部の欠落がなく、かつ絶縁体フィルムと下地金属層との密着性、耐食性に優れ、絶縁信頼性の高い銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板を提供する。
【解決手段】絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに、乾式めっき法により、チタンの割合が３〜２２重量％、クロムの割合が５〜２２重量％で残部がニッケルのニッケル−チタン−クロム合金を主として含有する膜厚３〜５０ｎｍの下地金属層を形成し、次いで該下地金属層上に湿式めっき法により銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 感度（輝度）、鮮鋭性共に良好な放射線画像変換パネル及びその製造方法。
【解決手段】 ＣＦＲＰ板又はＣＦＲＰコンポジット上の金属板（基板）上に少なくとも気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、蒸発ルツボ内液温度を制御して輝尽性蛍光体層の表面の突起数を０〜３００個とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の膜厚を均一化することができる蒸着装置および蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置３０は、前面基板２を収納する蒸着室３１と、蒸着室内を真空排気する真空排気装置３２と、を備えている。蒸着室３１内には、前面基板２の被蒸着面２ａと対向したるつぼ３７と、前面基板およびるつぼの間に位置し、複数のスリット４１を構成した複数の棒４０が配置されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の溶融時におけるスプラッシュの発生を防止し、歩留りを向上させるようにした蒸着用るつぼを提供する。
【解決手段】上方および下方に開放し、蒸着材料からなる焼結体ペレット２を収容する空洞部６を有する蒸着用るつぼ１０の外周面に、るつぼの上面１０ａと下面１０ｂを接続するガス抜き用切欠部１１を形成する。るつぼ１０をハース３のるつぼ用凹部４に装着すると、ガス抜き用切欠部１１は、るつぼ用凹部４の内壁面と接触せず、るつぼ用凹部４を開放空間とする。 （もっと読む）

【課題】成膜空間を大気開放することなく基材の脱着を行うことが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】 互いに分離及び接合可能に構成され、接合により気密な内部空間を有する殻体を形成する第１の部分２０及び第２の部分２Ｂと、第１の部分２０の内部に成膜空間を区画するように第１の部分２０に配設され、その開閉により該成膜空間を開放及び閉鎖するゲート１と、前記成膜空間に位置するように第１の部分２０に配設された膜材料蒸発装置２１と、成膜されるべき基材が取り付けられる基材取付装置６，８と、第２の部分２Ｂに配設され、第２の部分２Ｂが第１の部分２０と接合されかつゲート１が開いた状態でゲート１を通って基材取付装置６，８を前記成膜空間に進出させかつ前記成膜空間から退却させる進退駆動装置３と、第１の部分２０及び第２の部分２Ｂの内部空間をそれぞれ排気する第１及び第２の排気装置２２，１０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】乾式めっき法および電気めっき法を使用したフレキシブル配線板の製造における上記の問題点を解決し、絶縁体フィルム上に乾式めっき処理によって下地金属層を形成する時に生ずるピンホールに起因する銅被膜部の欠落がなく、かつ絶縁体フィルムと下地金属層との密着性、耐食性に優れ、絶縁信頼性の高い銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の２層フレキシブル基板は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成する２層フレキシブル基板において、前記下地金属層は、乾式めっき法により形成された、チタンの割合が５〜２２重量％、モリブデンの割合が２〜４０重量％で残部がニッケルのニッケル−チタン−モリブデン合金を主として含有する膜厚３〜５０ｎｍの下地金属層からなり、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置とその製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置は、真空チャンバ、該真空チャンバ内部をインライン（ｉｎ−ｌｉｎｅ）で移動しながら通過するドナー基板、及び該真空チャンバ内に形成され、該ドナー基板上に転写層を形成させる蒸着装置を含むことを特徴とする。前記レーザ転写用ドナー基板の製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法は、真空チャンバ内部をドナー基板がインラインに移動しながら通過し、前記真空チャンバ内に形成された蒸着装置が前記ドナー基板上に転写層を形成することを特徴とする。高真空を維持する真空チャンバ内で転写層、特に低分子有機発光層を連続して形成することができ、また該転写層で形成されたレーザ転写用ドナー基板を大量生産することができると言うメリットがある。また、これを用いた大面積の有機電界発光素子が製造できるメリットを提供する。 （もっと読む）