【課題】難加工性の材料を使用しても蓋体とボートとの固定が容易な蒸着用ボートを提供すること。
【解決手段】蒸着物質が載置されるボート２と、蒸着物質５の蒸気が通過する開口４を有し、前記ボート２の縁部に対して一部が重畳される蓋体１と、前記ボート２と前記蓋体１との重畳部に配設され、前記ボート２及び前記蓋体１よりも塑性変形し易く、破壊靱性が高い材料により形成された固定部材３と、を備えた蒸着用ボートを構成する。 （もっと読む）

【課題】高感度で均一かつ耐久性に優れた放射線画像変換パネルを得ることのできる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１は、真空容器２と、真空容器２の内部に設けられ支持体５に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源４と、蒸発源４に対向し所定の曲率半径を有する曲面を備えた支持体ホルダ６と、蒸発源４に対して支持体ホルダ６を回転させることによって蒸発源４から輝尽性蛍光体を支持体５に蒸着させる支持体回転機構１０と、支持体ホルダ６の曲面に当接された支持体５の両端部を挟持し、支持体５に張力が発生するように支持体ホルダ６に固定される固定部材７ａ，７ｂとを備える。固定部材７ａ，７ｂのうち支持体５の少なくとも一端を挟持するものは、スプリング８を介して支持体ホルダ６に固定する。 （もっと読む）

【課題】 高温環境において使用するための物品、及びそのような環境において物品を保護するための方法が提供される。
【解決手段】 物品（１０）は、シリコンから成る基板（２０）と；シリコンから成り、基板（２０）の上に配置されたボンディングコート（３０）と；ボンディングコート（３０）の上に配置された中間バリア（４０）であって、少なくとも１つの層（７０）を具備し、少なくとも１つの層（７０）は、希土類ケイ酸塩から成り、ムライトを実質的に含まない中間バリア（４０）と；希土類一ケイ酸塩から成り、中間バリア（４０）の上に配置されたトップコート（５０）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】排気ガスの浄化に有効に働かない触媒金属量を少なくして、触媒活性を向上しながら、コスト低減を図る。
【解決手段】ハニカム状触媒担体２のセル壁４に無機酸化物粒子を含有するコート層を形成し、触媒活性金属の蒸気を不活性ガス中で凝縮させ、この触媒活性金属のクラスター微粒子を不活性ガス流によって上記触媒担体に衝突させることによって、触媒活性金属をクラスター微粒子として上記コート層に表層部に付着させ、触媒層５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 画質の良好な放射線画像を与える放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内にて、蛍光体材料を含む蒸発源を加熱することによって発生する蛍光体成分を基板上に蒸着堆積させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、基板上の任意の箇所における蛍光体成分の堆積速度の時間変化率が０．０３乃至２μｍ／秒²の範囲にあることを特徴とする。


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本発明の目的は金属表面およびガラス質被覆を有する基板を提供することにある。この目的のため、本発明は被覆された基板、あるいは被覆された基板を備えた製品を製造する方法に関し、前記基板はガラスで被覆された少なくとも１つの金属表面を有する。この基板は少なくともその金属表面上が蒸着ガラスで被覆されている。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成された膜の特性を向上させることが可能な薄膜材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 超電導線材１は、基板２と、基板上に形成された１層または２層以上の中間薄膜層（中間層３）と、中間薄膜層（中間層３）上に形成された単結晶性薄膜層（超電導層４）とを備える。中間薄膜層（中間層３）のうちの少なくとも１つにおいて単結晶性薄膜層（超電導層４）と対向する上部表面（被研磨面１０）は研磨加工されている。 （もっと読む）

【課題】マスキングパターン部の大型化による蒸着パターンの歪曲を減らし，蒸着パターン間のトータルピッチの調整が容易な有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】開口部を有するフレームにその長手方向の両端部が固定された少なくとも二つの単位マスクを備える有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体において，各単位マスクは，複数個の蒸着用開口部を備え，各単位マスク間には，蒸着用開口部と同一な幅の第１ギャップが備えられたことを特徴とする薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体である。 （もっと読む）

本発明は、クリーン・ルーム対応の、ＰＶＤ法またはＣＶＤ法用のコーティング・システムに関する。前記システムは、ガラス様の層、ガラス・セラミック層および／またはセラミック層が堆積される、少なくとも１つの真空コーティング・チャンバを備える。真空コーティング・チャンバの第１の開口部が、真空排気可能な別個の真空ロック・チャンバ（ロード・ロック）を介してクリーン・ルームに接続される。この真空ロック・チャンバは、基板を真空コーティング・チャンバ内に供給し、基板を真空コーティング・チャンバから取り出すために使用される輸送手段を備える。真空コーティング・チャンバの第２の開口部が、真空コーティング・チャンバをクリーン・ルームから切り離されたグレイ・ルーム領域に接続する。
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【課題】 成膜中においても基板表面近傍から基板表面を効率的に加熱することが可能な膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空槽１と、該真空槽内に配設された蒸着源３と、真空槽１内に設置され基板Ｓを保持する基板ホルダ２と、蒸着源３と基板ホルダ２との間に設置された補正板１１と、電源から電力の供給を受けて基板Ｓを加熱するためのヒータ１３と、を有する膜形成装置において、ヒータ１３を補正板１１における基板ホルダ２に対向する面に設ける。 （もっと読む）

【課題】単純な動作機構により所望の膜厚および膜組成をもつ有機薄膜機能素子を精度よく形成することが可能な有機膜の膜厚制御を実現する装置を提供する。
【解決手段】構造体の有機薄膜中のドーピング濃度を測定する測定装置であって、少なくとも成膜中に構造体に少なくとも励起光を含む波長範囲の照射光を投光する光源、照射光に対する該構造体からの少なくとも蛍光を受光し、構造体の蛍光強度を得る検出手段、有機薄膜の厚さ及び該蛍光強度に基づいて有機膜にドープされたドーピング材料の濃度を測定する濃度測定手段からなる構成とした。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、ガス出し作業や蒸着作業後の徐冷の際に、シャッタ板裏面に付着する付着物がルツボ内に落下して、ルツボ内の蒸着原料を汚染することを防止できる機能を有する真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置１０１は、真空チャンバ２と、真空ポンプ３と、半導体基板４を保持する基板ホルダ５と、蒸着原料６を収容するルツボ７と、加熱手段としての電子銃９と、集束コイル１０および偏向コイル１１と、蒸着原料６からの蒸着流１２を放出したり遮断したりする本発明の特徴である、蒸着原料６と同種の材料で成るシャッタ板１０２と、シャッタ板１０２の位置を移動させるシャッタ板駆動部１４と、成膜レートを測定する膜厚モニタ１５と、電子銃９のパワーを制御するパワー制御部１６とで構成されている。 （もっと読む）

材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 広幅かつ長尺のフィルム状基板上に機能性薄膜を長手方向だけでなく幅方向においても均一な膜厚で、再現性よく安定して形成することができる薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 真空化された空間内において、連続的に供給されるフィルム状基板に対向して配置された薄膜形成材料を加熱蒸発させて、当該フィルム状基板上に蒸着により付着させることでもって薄膜の形成を行う薄膜形成方法において、上記薄膜形成材料として昇華性材料を用い、上記フィルム状基板の供給方向に直交する幅方向における幅寸法の１．５倍以下の距離寸法だけ上記フィルム状基板の表面から離間したそれぞれの位置であって、かつ、当該基板の幅方向の異なる複数の位置に配置された上記それぞれの昇華性材料を抵抗加熱法により加熱して当該昇華性材料を蒸発させながら、上記供給されるフィルム状基板上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】電気抵抗の低温側極大現象を抑制したセラミックス焼結体を提供する。熱衝撃性と耐食性に優れた長寿命のボートを提供する。
【解決手段】ＴｉＢ_２を４０〜６０質量％、ＢＮを４０〜６０質量％、並びに金属及び／又は金属化合物を金属分として０．２〜３質量％を含み、当該金属及び／又は金属化合物の金属がＦｅ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｕ及びＳｉから選ばれた少なくとも一種であり、相対密度が９０％以上であるセラミックス焼結体。ストロンチウム及び／又はストロンチウム化合物をＳｒ分として０．２〜７．５質量％を更に含有させてなる上記セラミックス焼結体。これらのセラミックス焼結体で構成された金属蒸発用発熱体（ボート）。 （もっと読む）

【課題】光量値のピーク近傍での電子銃の電力を正確に行って、薄膜の形成速度が極めて遅い場合でも、蒸着を正確かつ自動的に行って、製品の品質の確保と生産性の向上を図る。
【解決手段】薄膜が形成された被成膜体に所定の光を照射したときの透過又は反射した光量値が、予め設定した規準光量値が近似もしくは等しくなるように、加熱部の出力をフィードバック制御により調整する手順と、光量値が極大値または極小値近傍で予め設定したしきい値Ｂ２に達したときに、フィードバック制御を終了する手順と、フィードバック制御終了時点の出力を時間ｔｘだけ保持する手順と、時間ｔｘ内に光量値が極大値または極小値となっていない場合には、加熱部への出力をΔＰｗだけ増大する手順とを含む。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。
【解決手段】複数の画素パターンを有する基板１１０と、画素パターンに対応する穴部を有するマスク５０を準備する第１工程と、マスクと基板とを位置合わせし、両者を固定する前の状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定する第２工程と、マスクと基板との位置関係を固定し、この状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定し、この位置関係と第２工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第３工程と、同一のマスクを他の基板に対して位置合わせを行う際に、前記位置ずれ量をフィードバックし、マスクと該他の基板との位置関係を補正する第４工程と、蒸着源より蒸着物をマスクの穴部を介して画素パターン上に被着させることにより、画素パターン上に蒸着物層１１４を形成する第５の工程とを備える。 （もっと読む）

分子線エピタキシーシステム等の超高真空システムに用いられるフェイズセパレータである。真空チャンバ内には極低温パネルが配置されており、この極低温パネルには極低温シュラウド領域とフェイズセパレータ領域とが含まれている。液体窒素はインレットラインを介して極低温パネルに導入される。液体窒素の温度が上昇し、蒸発すると、窒素蒸気がシュラウド内の上部へ移動する。極低温パネルのフェイズセパレータ領域においては、略大気圧蒸気層が液体窒素の上にあり、その結果、窒素蒸気は、ガスバーストを形成することなくパネルからスムーズに排出される。また、液体窒素レベルの変化による極低温シュラウド表面の温度変化を防ぐため、フェイズセパレータ領域は真空ジャケットされ、これにより極低温シュラウドのポンプ安定性が高められる。分子線エピタキシーシステム（ＭＢＥ）で用いられる一実施例では、極低温パネルを第一と第二の冷却室に分割している。第一の冷却室は液体窒素を含み、被膜される基板を取り囲む。第二の冷却室は水のような異なる流体を含み、エフュージョンセルを取り囲むことによって、エフュージョンセルの動作中に発生される熱を散逸させる。
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基板と、前記基板上に形成された酸化物系ナノ素材とからなる基材を含む光触媒を開示する。前記光触媒は、同一成分を持つ従来の光触媒より高い体積対表面積比を有し、且つナノサイズの光触媒層を備えることにより、優れた光分解特性を持つ。 （もっと読む）

【課題】限られたスペースでも効率良く回転機構の組立分解を行なうことができるメンテナンス性及び作業性のよい真空装置を提供する。また、基板ドームの芯振れ防止、ベアリングから発生する粉塵による汚染防止、及び、回転機構の薄型化により成膜精度を向上する。
【解決手段】真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、回転機構をベースから真空槽底面方向に着脱可能な構成とした。 （もっと読む）