【課題】ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。
【解決手段】複数の画素パターンを有する基板１１０と、画素パターンに対応する穴部を有するマスク５０を準備する第１工程と、マスクと基板とを位置合わせし、両者を固定する前の状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定する第２工程と、マスクと基板との位置関係を固定し、この状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定し、この位置関係と第２工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第３工程と、同一のマスクを他の基板に対して位置合わせを行う際に、前記位置ずれ量をフィードバックし、マスクと該他の基板との位置関係を補正する第４工程と、蒸着源より蒸着物をマスクの穴部を介して画素パターン上に被着させることにより、画素パターン上に蒸着物層１１４を形成する第５の工程とを備える。 （もっと読む）

分子線エピタキシーシステム等の超高真空システムに用いられるフェイズセパレータである。真空チャンバ内には極低温パネルが配置されており、この極低温パネルには極低温シュラウド領域とフェイズセパレータ領域とが含まれている。液体窒素はインレットラインを介して極低温パネルに導入される。液体窒素の温度が上昇し、蒸発すると、窒素蒸気がシュラウド内の上部へ移動する。極低温パネルのフェイズセパレータ領域においては、略大気圧蒸気層が液体窒素の上にあり、その結果、窒素蒸気は、ガスバーストを形成することなくパネルからスムーズに排出される。また、液体窒素レベルの変化による極低温シュラウド表面の温度変化を防ぐため、フェイズセパレータ領域は真空ジャケットされ、これにより極低温シュラウドのポンプ安定性が高められる。分子線エピタキシーシステム（ＭＢＥ）で用いられる一実施例では、極低温パネルを第一と第二の冷却室に分割している。第一の冷却室は液体窒素を含み、被膜される基板を取り囲む。第二の冷却室は水のような異なる流体を含み、エフュージョンセルを取り囲むことによって、エフュージョンセルの動作中に発生される熱を散逸させる。
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【課題】限られたスペースでも効率良く回転機構の組立分解を行なうことができるメンテナンス性及び作業性のよい真空装置を提供する。また、基板ドームの芯振れ防止、ベアリングから発生する粉塵による汚染防止、及び、回転機構の薄型化により成膜精度を向上する。
【解決手段】真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、回転機構をベースから真空槽底面方向に着脱可能な構成とした。 （もっと読む）

【課題】 鮮鋭性の向上した放射線像変換パネルの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内にて、下記一般式（Ｉ）で表される蛍光体もしくは蛍光体原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線変換パネルの製造方法において、該放射線変換パネルの蒸着効率が１〜５０％であることを特徴とする放射線変換パネルの製造方法。
一般式（Ｉ） Ｍ¹Ｘ・ａＭ²Ｘ′₂・ｂＭ³Ｘ″₃：ｅＡ （もっと読む）

【課題】配向性カーボンナノチューブ（CNT）のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。
【解決手段】基礎基板表面上に複数個の触媒担体被膜を任意の位置にパターン形成する工程、該触媒担体被膜を含む該基礎基板表面に触媒作用を持つ金属元素あるいは化合物を焼成担持する工程、該基礎基板表面上に炭素化合物を供給し熱分解する工程により、該触媒担体被膜上に配向性CNTが集合してなる柱形状の集合体を形成させることにより、配向性CNTのパターン化された柱形状集合体を製造する。また、前記柱形状集合体を作製する工程(1)、電極基板表面に導電性バインダー形成させる工程(2)、該柱形状集合体の先端と該導電性バインダーの表面とを接着後、該導電性バインダーと接着した柱形状集合体を残して、該基礎基板を剥離して柱形状集合体を電極基板に転写する工程(3)により電界放出型冷陰極を製造する （もっと読む）

基板と、前記基板上に形成された酸化物系ナノ素材とからなる基材を含む光触媒を開示する。前記光触媒は、同一成分を持つ従来の光触媒より高い体積対表面積比を有し、且つナノサイズの光触媒層を備えることにより、優れた光分解特性を持つ。 （もっと読む）

【課題】 輝尽性蛍光体層と支持体との剥離がなく、高輝度である放射線画像変換パネルの提供。
【解決手段】 支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により形成され、該輝尽性蛍光体層と支持体との間にＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．７）を有する接着層を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 （もっと読む）

【課題】
耐性の高いナノピラーを得る。
【解決手段】
マイクロチップ基板への金薄膜の蒸着を１０〜２０ｎｍの厚さに行い、その後チップを４００〜６００度で１時間程度熱処理して自己組織化させることにより、金属によるランダムピラー構造のナノピラーを基板上に形成させる。
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【課題】安価で加工が容易な材料を用いて作成された蒸着用容器を用いて、蒸着材料の蒸着を行っても詰まりを生じさせず、安定して蒸着を行うことが可能な蒸着用容器および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着用容器のフタの側面に蛇腹構造を設ける。または、蒸着用容器のフタを蒸着源の開口部分より大きくして、加熱部に直接接するようにする。このような構成によれば、フタの開口部付近が冷えにくい構造となり、容器の胴部とフタとで温度差が生じにくくなる。従って、開口部で蒸発した材料が詰まることがなく、長時間に渡って安定して蒸着を行うことが可能となり、蒸着レートの安定化、生産性の向上を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】高湿度環境下であっても抵抗値の経時的変化を十分に防止できる透明導電材料、透明導電ペースト、透明導電膜及び透明電極を提供する。
【解決手段】酸化インジウムを含有する透明導電材料であって、（１）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３以上、好ましくはｐＨを４〜９とするものであるか、（２）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３未満とするものであり且つハロゲン元素濃度が０．２質量％以下であるか、（３）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを１以上とするものであり且つハロゲン元素濃度が１．５質量％以下である透明導電材料である。 （もっと読む）

【課題】蒸着すべき材料の使用効率が低下するのを防止し得る蒸発装置を提供する。
【解決手段】所定の真空度下で所定の材料を蒸発させる蒸発装置４であって、真空ポンプ１２に接続されるとともに上壁部１１ｃに蒸発された蒸発材料Ｂを放出し得る材料放出穴１７が設けられた蒸発用容器１１と、この蒸発用容器１１内に昇降用シリンダ装置１３により昇降自在に設けられるとともに蒸着材料Ａを収納した材料収納容器１４を載置し得る載置台１５とを具備し、上記蒸発用容器１４の材料放出穴１７の周囲に、材料収納容器１４が載置台１５を介して上昇された際にその外周を覆うことにより蒸発材料の当該蒸発用容器１１内への放出を抑制する筒状の隔壁部材１９を設け、且つ上記載置台１５および隔壁部材１６に材料収納容器１４を加熱する加熱手段２１を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】 従来得られなかった特性を有する多層光学薄膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】 まず、基板１の上に、溶解液に溶ける溶解物質２を成膜し、その上に、薄膜材料３を成膜する（ｂ）。続いて、溶解物質２をその上に成膜するが、そのときマスク４を使用して、その下にある薄膜材料３の左右端部には溶解物質２が成膜されないようにする。（ｃ）。続いて、その上に、薄膜材料３を成膜する（ｄ）。続いて、（ｃ）の工程と同じように、溶解物質２をその上に成膜する（ｅ）。続いて、（ｄ）の工程と同じように、その上に、薄膜材料３を成膜する（ｆ）。最後に、溶解物質２を溶剤で溶解すると、溶解物資２があった部分に空隙５が形成されると共に、基板１が分離し、図においては、薄膜材料３が３相、空隙５を挟んで積層された光学薄膜が形成される（ｇ）。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源に入るのを可及的に防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】 化学的安定性が高く、かつ、発光材料、高温ガスセンサー、導電材料、触媒、電界放出材料などに使用できる、炭素膜で被覆された酸化ガリウムナノケーブル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ガリウム粉末と活性炭粉末との混合物を、不活性ガス気流中で加熱することによって、酸化ガリウムナノワイヤーを炭素で被覆する。この酸化ガリウムナノワイヤーは長さが１００ｎｍ以上の結晶性酸化ガリウムでなり、ナノサイズの炭素膜で被覆される。例えば、長さ数μｍ、直径約５０ｎｍの炭素膜で被覆された酸化ガリウムナノケーブルが得られる。炭素膜で被覆した酸化ガリウムナノケーブルは、化学的に安定で、発光材料、高温ガスセンサー、導電材料、触媒、電界放出材料などに利用できる。 （もっと読む）

【課題】 成膜室の容積を小さくして同成膜室の雰囲気を速く減圧にすることのできるコンパクトな真空成膜装置、薄膜素子の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに基板搬送室２と独立させるためのゲートバルブＧＢを備えた。また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、極力材料の無駄が発生しない蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸着装置１０ａは、各基板１４間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板１４に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源１２を備える。基板１４を真空チャンバーＡ，Ｃに出入したりアライメントしたりする間に他の基板１４を蒸着する。材料の無駄が非常に少なく、製造されるＯＬＥＤの製造コストを下げることができる。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源の上部を覆うことを防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】 単純な開口形状を有するマスクを用いて、短時間で所望の膜厚分布を有する薄膜を形成することができる新規な薄膜形成方法、並びに、この方法で用いるマスク及びそのマスクを用いた薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 本発明に用いるマスクは、蒸発源から飛散する物質を通過させる開口部を複数の同一形状の開口部に分割して有している。このように開口部が複数の開口部に分割されているので、個々の開口部の面積を一層小さくすることができ、これにより、開口部を通過する物質の分布を一層均一にすることができる。また、分割された複数の開口部を基板の相対移動方法に配列させているので、蒸着効率を低下させることなく所望の膜厚分布の薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、精密金型としての寸法精度、離型性に優れた含フッ素薄膜撥が得られる。
【解決手段】 基材表面に形成され、該含フッ素薄膜は基材表面に蒸着法によって堆積できる含フッ素有機物質と、イオンビームスパッタ法によって堆積できる物質とが同時に堆積されてなり、上記含フッ素有機物質がパーフルオロ系高分子であり、該高分子は、少なくとも１個の二重結合もしくは三重結合炭素、−ＣＯＯＨ基、または、−Ｓｉ（ＯＲ）₃基（Ｒはアルキル基を表す）を分子内に含み、上記含フッ素有機物質が非晶質パーフルオロ樹脂である。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性、耐スカッフィング性および相手材の摩耗を増加させない特性（相手攻撃性）に優れた皮膜が被覆された摺動部材（ピストンリング）を提供する。
【解決手段】 摺動部材（ピストンリング）の外周面３にＢがＣｒ−Ｎ合金に含有されてなるＣｒ−Ｂ−Ｎ合金皮膜４を被覆することによって、上記課題を解決する。このＣｒ−Ｂ−Ｎ合金皮膜が、物理的蒸着法、特にイオンプレーティング法、真空蒸着法またはスパッタリング法で形成されることが好ましく、Ｂ含有量が、０．０５〜２０重量％であることが好ましい。摺動部材の外周面３に設けられるＣｒ−Ｂ−Ｎ合金皮膜４は、耐摩耗性、耐スカッフィング性および相手攻撃性に優れるので、摺動部材の摺動環境が過酷になっても、要求性能を満足させる摺動部材を提供できる。また、摺動部材の全周面又は少なくとも外周面３に窒化層５が設けられ、窒化層５上にＣｒ−Ｂ−Ｎ合金皮膜４が被覆されていることが好ましい。 （もっと読む）