本発明は、ＰＶＤ（物理的蒸着）によって、特に陰極アーク蒸着によって酸化物層を製造するための方法であって、粉末冶金ターゲットが蒸着され、その粉末冶金ターゲットは少なくとも２つの金属または半金属構成要素でできており、そのターゲットの金属または半金属構成要素の組成が、液相への転移における室温からの加熱の際に、少なくとも２つの金属または半金属成分の溶融混合物の状態図に関して純粋な固相のどの相境界もが横切られないように選択される方法に関する。 （もっと読む）

【課題】シート表面に５０〜３００ｎｍという比較的厚い酸化金属薄膜であっても高速でかつ厚み方向の酸化度を均一に形成できる金属酸化物薄膜付シートの製造装置ならびに金属酸化物薄膜付きシートの製造方法を提供する。
【解決手段】シート１と接触しながらシートを搬送するシート案内面３を有し、シート案内面の運動に伴ってシートを搬送する搬送手段と、シート案内面上のシートに向かって金属蒸気１０を飛散させる蒸発源８と、金属蒸気と酸化反応させるために酸素を導入する酸素導入手段とを備え、搬送されるシートに連続的に金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜付シートの製造装置であって、酸素導入手段が導入管をシート幅方向に複数個配列するとともに、蒸発源７のシート搬送方向２５の上流側および下流側に配置され、かつ導入管が蒸発源とシート案内面との間の領域に向けて突出していることを特徴とする金属酸化物薄膜付シートの製造装置。 （もっと読む）

【課題】コストと、得られるＺｎＯ単結晶の大きさと、単結晶の品質との間の最適な妥協点を達成でき、同時に最も低いコストで最も優れた大きさと品質とが得られる、ＺｎＯ単結晶を調製するための方法が必要とされている。
【解決手段】多結晶または単結晶酸化亜鉛ＺｎＯを制御雰囲気下にてエンクロージャに配置されたシード上に調製する方法であって、エンクロージャ内部にあり、シードとは離れたるつぼ中に配置された酸化亜鉛供給源の昇華により、ガス種を形成し、ガス種を輸送し、ガス種をシード上で凝結させ、シード表面にてＺｎＯを再結合させ、多結晶または単結晶ＺｎＯをシード上で成長させ、多結晶または単結晶ＺｎＯを冷却することにより調製するための方法であり、ここで：
−酸化亜鉛供給源は、２．１０^−３気圧〜０．９気圧の圧力下にて、温度、いわゆる９００〜１，４００℃のいわゆる昇華温度に誘導により加熱される；
−ＣＯは、エンクロージャ内部に配置された固体炭素供給源上の少なくとも１つの酸化種または酸化種および少なくとも１つの不活性ガスの混合物を提供することによって昇華活性化剤としてインサイチュで発生させる；
−および、ＺｎＯの化学量論の制御は、例えば、ＺｎＯの成長界面の近位にて少なくとも１つの酸化種、または少なくとも１つの酸化種および少なくとも１つの不活性ガスの混合物の１ＳＣＣＭ〜１００ＳＣＣＭの量にて、制御された流速にて局在化した供給を達成することにより行われる、方法。
この方法を行うためのデバイス。 （もっと読む）

【課題】導電性が良好であるとともに、耐熱性に優れた導電体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｗ、Ｎ、Ｆ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｐ及びＢｉからなる群から選ばれる１又は２以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層（Ｚ）が２層以上設けられており、該２層以上のうち少なくとも１層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が０．０１〜４原子％である第２層（Ｚ２）１２であり、該第２層（Ｚ２）１２と基板１０との間に、該第２層（Ｚ２）よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第１層（Ｚ１）１１が設けられていることを特徴とする導電体。 （もっと読む）

【課題】 既存設備の大幅改造や装置コスト増大、大規模化等の問題を回避しながら電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害を極力抑え、損傷のない安定的な成膜作業を行うことが可能な巻取式真空蒸着方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明の巻取式真空蒸着方法及び装置は、フィルム基材が成膜ドラムに密着する近傍の成膜ドラムの内部、および、前記フィルム基材が成膜ドラムから剥離する近傍の成膜ドラム内部に、それぞれ永久磁石を設置するとともに、前記成膜ドラムの対極をチャンバー外壁とし、前記成膜ドラムに４０ＫＨｚ〜１００ＫＨｚの高周波電位を印加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高いプロトン伝導性を示すペロブスカイト型複合酸化物薄膜を提供すること。
【解決手段】一般式：Ａ(Ｂ_1-YＭ_Y)Ｏ_3-Zで表される組成を有するプロトン伝導性ペロブスカイト型複合酸化物を含むペロブスカイト型複合酸化物薄膜。但し、Ａは、アルカリ土類金属元素から選ばれる２種以上の元素。Ｂは、Ｚｒ及びＣｅから選ばれる１種以上の元素。Ｍは、Ｓｃ、Ｙ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、及び、Ｙｂから選ばれる１種以上の元素。０＜Ｙ＜０．２、０＜Ｚ。 （もっと読む）

【課題】酸化ガリウム基板部材を用いながらも表面平坦性に優れ且つ結晶品質性に優れた窒化ガリウム層を有する光デバイス用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】サーマルクリーニングを施したGa₂O₃基板部材を窒化処理してGa₂O₃基板部材の表面上に六方晶GaNからなる第１のバッファ層を形成し、第１のバッファ層の表面上に成長温度480〜520℃で六方晶GaNからなる第２のバッファ層を成長形成した後、第２のバッファ層の表面上に光デバイス用基板の表面層として成長温度650〜750℃で六方晶GaN層を成長形成する。 （もっと読む）

【課題】 金属の網目状構造により導電性を付与させた透明導電膜を、従来よりも高透過率で、かつ廃棄物の少ないプロセスで提供することを目的とする。
【解決手段】 透明基板（Ａ）上に形成された透明導電膜であって、導電性を付与するために透明基板上に形成された金属細線（Ｂ）の網目状構造（Ｃ）が、少なくともリング状のパターンを含むことを特徴とする透明導電膜（Ｄ）、透明基板（Ａ）の表面上に単分散度２０％以下の微粒子（Ｐ）を配列固定した後、微粒子（Ｐ）と透明基板（Ａ）の間隙に金属ナノ粒子（Ｑ）の分散液を導入し、さらに金属ナノ粒子（Ｑ）の分散液の分散媒を蒸発させることにより、金属ナノ粒子が凝集した網目状構造（Ｃ）を自己組織的に形成させ、次いで微粒子（Ｐ）を除去することで透明導電膜（Ｄ）を得る透明導電膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、高温高湿度の環境下でガスバリア性能を保持する透明バリアフィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム１の少なくとも一方の面に酸化珪素のバリア膜２を設けた透明バリアフィルムであって、前記酸化珪素のバリア膜２に対してＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）を行った場合、Ｓｉ２ｐ波形の解析から求めたＳｉＯ／ＳｉＯ_２比が０．１０以上０．２４以下の範囲内であることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程と、第２の被膜４上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１５．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】液状物質を収納する液体紙容器を形成するために用いられる積層部材であって、アルミニウム層やアルミニウム箔などを積層しないでも高いバリア性を示し、かつそのガスバリア性が劣化し難いようにした液体紙容器形成用積層部材の提供を目的とする。
【解決手段】紙基材の一方の面には熱可塑性樹脂層が、他方の面にはバリア性プラスチックフィルムが積層され、さらに最内層となる側にはシーラント層が積層されている積層部材であって、前記バリア性プラスチックフィルムは、プラスチックフィルム基材上のプラズマ処理面を介して酸化アルミニウムの蒸着薄膜層と、Ｓｉ（ＯＲ¹）₄およびＲ²Ｓｉ（ＯＲ³）₃（ＯＲ¹、ＯＲ³は加水分解性基、Ｒ²は有機官能基）で表されるケイ素化合物あるいはその加水分解物と、水酸基を有する水溶性高分子とが混合されているコーティング溶液からなる薄膜の加熱乾燥被膜であるガスバリア性被膜層とがこの順序で積層されている。 （もっと読む）

【課題】 薄膜形成プロセスにおいてマスク４に多量の堆積物が付着するとマスク４により規制した成膜範囲が減少する、あるいは堆積物の一部がはく離し脱落して蒸発源２に落下することでスプラッシュを起こす。堆積物を除去する必要があるが、マスク４／堆積物間の密着性が強く振動のみではく離し難い場合のはく離方法が必要である。
【解決手段】 薄膜形成法において、薄膜の形成を行う工程と、マスク４の温度を成膜中よりも低温にする工程と、堆積物に酸素を供給する工程と、堆積物を除去する工程とにより、マスク４に堆積した堆積物をはく離・除去する。 （もっと読む）

【課題】 高容量電極活物質であるケイ素またはその化合物を、生産性の高い薄膜形成法で形成し、充放電特性劣化を起こさない電極とし、かつ蒸発原料の蒸気領域で、高角度入射近傍領域の成膜を行うこと。
【解決手段】 円柱状に形成した冷却キャン（１６）の周面に基板（２２）を螺旋状に複数回巻付けて走行させつつ、薄膜形成部（２３a）及び薄膜形成部（２３b）を通過する際の基板（２２）に対して、薄膜形成源（１９）から原料粒子が、入射角４５°〜７５°の範囲で飛来するように、遮蔽板（２０）を配置する。 （もっと読む）

【課題】高温領域での酸化劣化を抑えながらも高耐衝撃性を発現できる表面被覆材料及びこれを利用する切削工具並びに工作機械を提供する。
【解決手段】高速度工具鋼や超硬合金からなる基材１１と、基材１１の表面に設けられてアルミニウム（Ａｌ），ジルコニウム（Ｚｒ），クロム（Ｃｒ），珪素（Ｓｉ），チタン（Ｔｉ）のうちの少なくとも一種の窒化物（Ｎ）からなる金属窒化物層１２と、金属窒化物層１２の表面に設けられてスズ（Ｓｎ）及びジルコニウム（Ｚｒ）の少なくとも一方とアルミニウム（Ａｌ）との酸化物（Ｏ）からなる金属酸化物層１３とを備えてなる表面被覆材料１０とした。 （もっと読む）

【課題】視感反射率が小さく、視感透過率が高いという優れた反射防止膜を有するだけでなく、光学部材のＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃からなる成膜原料を用いてなる低屈折率層の薄膜において、膜密度を向上させ、耐スクラッチ性に優れた光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、ＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃とからなる成膜原料を用いてなる層を具備し、該層はナノインデンテーション測定法において、押し込み荷重０．９８ｍＮのときの押し込み深さが７０〜９５ｎｍである低屈折率層の反射防止膜を有する光学部材。 （もっと読む）

【課題】 蒸着材料を蒸着している領域に供給すると、蒸着源の温度が下がり、蒸着速度が安定せず、蒸着速度を長時間安定に行うことができない。
【解決手段】蒸着材料１０４に電子ビームを照射して溶解した材料を、電子ビームを照射して蒸発する少なくとも２つの領域１０１，１０３とつながり、蒸発せずに溶解した部分１０２に供給することで、急激な温度差が発生しにくいため、材料供給時にスプラッシュが発生しにくく、また料供給時に、蒸発源温度の低下が抑制でき、２つの蒸発領域１０１，１０３の蒸発面高さを一定にすることができるので、蒸着レートの変動を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】複数の基板に同時に蒸着するときに、複数の基板に均質な膜を成膜することができる真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】この蒸着装置は、複数の基板３を保持する基板保持部材２と、基板３上に成膜される蒸着物質を保持する蒸着源４と、基板３面にガスイオンを放射するためのイオン銃５と、イオン銃５から照射されるガスイオンの放射方向Ｄ１を整流するための補正板６とを有している。そして、補正板６を調整することにより、基板保持部材２内のガスイオンの濃度分布を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】紫外波長域における反射率が十分に低い反射防止膜を形成する。
【解決手段】真空排気された処理室１内で、無機材料である酸化シリコンを主材料ボート４から電子ビームにより加熱蒸発させて蒸発粒子を生成する。処理室１内にプラズマガス有機材料であるシロキサンガスとの混合ガスを導入し、プラズマ発生用電極７に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、イオンプレーティング法により基材９の表面に、シロキサンをバインダーとした酸化シリコンの重合膜を形成する。シロキサンは紫外波長域での光の吸収が大きく反射率を下げることができるとともに、重合度が高いので基材９への密着性が良好になる。 （もっと読む）

【課題】所定の有機膜と無機膜とを有する機能性フィルムの製造において、目的とする性能を有する機能性フィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】基板の表面に有機膜を成膜し、その後、真空成膜法によって無機膜を成膜し、かつ、真空装置内で有機膜に接触する部材は、機能発現部分以外に接触する構成とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ガラス基板のマスク部及び成膜部との温度差を低減し、基板割れの
生じにくい基板トレイおよび基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置さ
れる基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、
所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、前記マスク両表面に表面粗さＲaが３〜１０μｍの凹凸を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）