【課題】誘電体保護膜の製造方法の工夫により、ＰＤＰとしての寿命、閾値電圧、書き込み速度等を良好に維持しながら、ＰＤＰの生産性の向上を実現する。
【解決手段】ガラス基板上に電極と誘電体層とが形成された基板１０１を搬送しながら基板１０１の誘電体層上に誘電体保護膜を形成する方法において、誘電体保護膜製造装置２００を構成する成膜室２０２内に基板１０１の搬送方向に沿って誘電体保護膜を成膜するための上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６を配置し、上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６の蒸発レートを基板１０１の搬送方向の入り口側から出口側にかけて段階的に変化させて誘電体保護膜を成膜する方法からなる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着中に銀の蒸気を添加することで結晶粒の増大を図るとともに結合度の向上も図れるようにする。
【解決手段】真空蒸着装置の真空室内に蒸着源としてＮｄとＢａとＣｕとＡｇのインゴットを配置する。ついで、真空室内の所定箇所に酸化マグネシウム基板を配置し、真空室内を例えば、１０^-4程度の圧力状態とし、酸素ガスと活性化酸素ガスとの混合ガスを１．８sccmで真空室内に供給する。この状態で、真空室内に配置した各蒸着源を電子銃を用いて加熱し、各蒸着源を気化（昇華）させる。以上に示した蒸着法により、基板温度を６９０℃とした基板の上にＮｄＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ₇の薄膜が形成できる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、金属基材との密着性が強固で長寿命の熱サイクル特性を有するセラミックス被覆部材を実現することを可能とするセラミックス被覆用インゴット、セラミックス被覆部材およびその製造方法、ならびにセラミックス被服部材を用いた遮熱コーティング高温部品を提供する。
【解決手段】多層構造のセラミックス被覆部材をプラズマ溶射によって形成する場合に適用する蒸着原料となるセラミックス被覆用インゴット１０であって、セラミックス被覆部材に対応する組成からなる多層構造を有する構成とする。セラミックス被覆用インゴットは、ハフニアを主成分とするセラミックス体に、ジルコニアを主成分とするセラミックス体を積層する。 （もっと読む）

本発明は、第１には、真空中で基板上に高温超伝導体を蒸着する装置であって、高温超伝導材料の貯留器を収容する再充填装置と、エネルギ伝達媒体のビームにより蒸発ゾーンにおいて上記高温超伝導材料を蒸発させる蒸発装置と、上記高温超伝導材料を再充填装置から蒸発ゾーンに、該蒸発ゾーンに供給された高温超伝導材料が実質的に残留無しで蒸発されるように、連続的に供給する供給装置とを有するような装置に関するものである。本発明は、更に、真空中で基板上に高温超伝導材料の被覆を蒸着する方法であって、高温超伝導材料の粒体を蒸発ゾーンに連続的に導入するステップと、エネルギ伝達媒体のビームを上記の導入された粒体が上記蒸発ゾーンにおいて実質的に残留無しで蒸発されるように動作させるステップとを有するような方法にも関するものである。
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【課題】 広い温度範囲で放電応答性の変化の少ない優れた酸化マグネシウム膜を提供する。また、この酸化マグネシウム膜を用いて、パネルの“ちらつき”が減少し、輝度とコントラストの向上したプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】 酸化マグネシウム膜は、ＦセンターとＦ^＋センターとの合計数から求められる酸素欠損量が、５．０×１０^１５〜２．０×１０^１７個／ｃｍ^３である。酸化マグネシウム膜表面に存在するＦｓセンターとＦｓ^＋センターとの合計数から求められる酸素欠損量が、５．０×１０^１５〜１．０×１０^１７個／ｃｍ^３である。 （もっと読む）

【課題】 製造インラインにおいて金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を正確に評価し、品質の安定した金属薄膜磁性層を得ることのできる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 走行している非磁性支持体１の一方の面上に、真空蒸着法により酸素ガスを供給しつつ金属薄膜磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
金属薄膜磁性層の形成後に、非磁性支持体１の他方の面側から支持体１を通して金属薄膜磁性層に光を投射し、その反射光の明度を測定１５することにより金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を監視する方法。 （もっと読む）

【課題】幅広い後加工条件で後加工でき、透明性に優れるために内容物の透視が可能で且つこれにより包装された内容物の検査に際して金属探知器が使用でき、さらに高い屈曲耐性と高温高湿下での高いガスバリア性を併せて持ち、そしてこれらの諸特性が後加工後も劣化することがない、高いガスバリア性を有する包装材料の提供を目的とする。
【解決手段】無機酸化物からなるガスバリア性蒸着薄膜層４と、モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を真空蒸着し、硬化させてなるガスバリア性被膜層５と、無機酸化物からなるガスバリア性蒸着薄膜層６と、モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を真空蒸着し、硬化させてなるガスバリア性被膜層７の４層を順次積層してなる多層部が、透明プラスチック材料からなる基材３の少なくとも片面に積層して設けられていることを特徴とする、高ガスバリア性を有する透明積層体１。 （もっと読む）

材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高湿度環境下であっても抵抗値の経時的変化を十分に防止できる透明導電材料、透明導電ペースト、透明導電膜及び透明電極を提供する。
【解決手段】酸化インジウムを含有する透明導電材料であって、（１）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３以上、好ましくはｐＨを４〜９とするものであるか、（２）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３未満とするものであり且つハロゲン元素濃度が０．２質量％以下であるか、（３）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを１以上とするものであり且つハロゲン元素濃度が１．５質量％以下である透明導電材料である。 （もっと読む）

【課題】 処理される流体に含まれる分子や粒子等が効率よく透過可能な無機多孔質膜を有する無機多孔質体、及びそのような多孔質体を製造する方法の提供。
【解決手段】 無機多孔質体は、多孔質基材表面に略膜厚方向に配向した複数の孔を有する無機多孔質膜を備える。その孔の平均孔径は好ましくは２〜２００ｎｍにある。この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。多孔質膜形成工程は、基材温度が１０００℃以下に設定された略一定の温度条件下において行うことが好ましい。パルスレーザの照射回数は２０００００回以下であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、金属物品に適用するための、溶解されたＺを含むＮｄ_ｘＺｒ_１−ｘＯ_ｙの式を有するセラミックコーティングによる遮熱セラミックコーティングを提供し、ここで０＜ｘ＜０．５及び１．７５＜ｙ＜２であり、そしてここにおいて、Ｚは、Ｙ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｈｆ及びこれらの混合物からなる群から選択される金属の酸化物である。一つの態様において、Ｎｄが７モル％の濃度まで加えられる。もう一つの態様において、Ｚは、イットリウムであり、そして少なくとも６重量％の濃度で加えられる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一種類の高融点の金属（３）の炭化物から成る層を少なくとも１つの対象物（８）に高率電子ビーム蒸着によって真空チャンバ（１）内で析出するための方法に関する。本発明によれば、真空チャンバ（１）内に反応性ガスの流入によって炭素含有の雰囲気を発生させ；高融点の金属（３）を電子ビーム（５）によって蒸発させ；析出をプラズマによって助成し、この場合、該プラズマを拡散アーク放電によって、蒸発させたい高融点の金属（３）の表面に発生させ；被覆率が、少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出の間の対象物温度を５０℃〜５００℃の間に保持することが提案される。
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【課題】 従来技術の欠点を回避するべき、表面および表面近傍の固体領域のポリマー化合物である基体材料と他の材料との間の確り接合した複合体の提供。
【解決手段】 この課題は、表面および表面近傍の固体領域に僅かな活性表面エネルギーのポリマー化合物を有する基体材料と他の材料との接合複合体において、接合される物質（１，４）相互の間に、ナノ組織化されたナノ複合材料（５）を有する変移領域（６）が、該変移領域が２０ｎｍ〜２０μｍの層厚を有しそして専らナノ複合材料（５）で形成されており、該ナノ複合体は基体材料（１）と他の材料（４）で構成されそして基体材料（１）と他の材料（４）との割合が基体材料（１）の直ぐ近くの専ら基体材料から他の材料（４）の直ぐ近くの専ら他の材料に亙って変化するように形成されており、その結果基体材料（１）が他の材料（４）中でナノ組織化されて変移することを特徴とする、上記接合複合体によって解決される。
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薄い被覆層としてシート、たとえば包装シートに被着されるファブリ・ペローフィルタは、関心を引く色効果を得ることができる。本発明は、フィルタの両反射層がアルミニウムから成りかつ両反射層の間の中間層が酸化アルミニウムから成る被覆層の層構造を提案している。このような被覆層の光学的な特性は、中間層として二酸化ケイ素化合物が使用される従来既知の被覆層に類似している。しかし、さらに、本発明による層構造は、フィルタを、ただ１つの蒸発装置を備えた真空被覆設備において１回の作業工程で形成することができるという利点を有している。
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１５ｃｍを超える大面積と、少なくとも１ｍｍの厚さと、５Ｅ５ｃｍ^−２を超えない平均転位密度と、２５％未満の転位密度標準偏差比率と、を有する大面積で均一な低転位密度単結晶ＩＩＩ−Ｖ族窒化物材料、たとえば窒化ガリウム。かかる材料は、（ｉ）たとえばＩＩＩ−Ｖ族窒化物材料の成長表面の少なくとも５０％にわたってピットを形成するピット化成長条件下で、ＩＩＩ−Ｖ族窒化物材料を基板上に成長させる第１段階であって、成長表面上のピット密度が、成長表面において少なくとも１０^２ピット／ｃｍ^２である段階と、（ｉｉ）ピット充填条件下でＩＩＩ−Ｖ族窒化物材料を成長させる第２段階と、を含むプロセスによって基板上に形成することができる。
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基板および基板上に配置されている第１のバッファ膜を含む超電導体物品。第１のバッファ膜は、（ｉ）第１のバッファ膜の面内を延びる第２の方向に有意のテクスチャを有さない第１のバッファ膜の面外を延びる第１の結晶方向のテクスチャ、または（ｉｉ）第１のバッファ膜の面外を延びる第２の方向に有意のテクスチャを有さない第１のバッファ膜の面内を延びる第１の結晶方向のテクスチャを特徴とする単軸結晶テクスチャを有する。２軸方向の結晶テクスチャを有する第２のバッファ膜は、前記第１のバッファ膜上に配置されている。超電導体層は、前記第２のバッファ膜上に配置することができる。前記第２のバッファ膜を堆積するために、イオン・ビーム・アシスト蒸着（ＩＢＡＤ）を使用することができる。
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本発明は、硫黄含有の多元素の薄膜組成物を基板上に真空蒸着する方法である。前記方法は、１又は２以上の材料を蒸着する間に前記薄膜組成物の少なくとも一部を構成する１又は２以上の原料物質でガス又は蒸気の硫黄種の供給源を対象とする処理を有する。前記ガス又は蒸気の硫黄種が１又は２以上の原料物質に到達したときに硫黄種が高温で加熱され、前記薄膜組成物の堆積の間に前記１又は２以上の原料物質からの蒸発物と前記ガス又は蒸気の硫黄種との化学相互作用が生じる。前記方法は、高誘電率を有する厚膜フィルムの誘電層を用いるフルカラーの交流エレクトロルミネセントディスプレイ用の発光体の堆積に特に有用である。 （もっと読む）

本発明は、基材および基材上の層を含む複合材料の調製方法であって、トリアジン化合物を含む化合物を１０００Ｐａ未満の圧力で基材上に蒸着させ、それによって前記層を形成する蒸着ステップを含み、蒸着ステップ中、基材の温度が−１５℃〜＋１２５℃である方法に関する。さらに、本発明は、開示する方法によって得ることができる複合材料に関する。 （もっと読む）

【課題】 非磁性支持体を薄型化した場合でもカッピング等の発生を防止するとともに優れた電磁変換特性を達成する。
【解決手段】 非磁性支持体は、少なくとも、他主面を構成する第１の芳香族ポリアミドフィルムと、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム上に形成された第２の芳香族ポリアミドフィルムとを有するとともに、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子が上記第２の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子と比較して大とされてなり、上記非磁性支持体は、上記第１の芳香族ポリアミドフィルムを除いた厚みが２．０μｍ以上であり、上記非磁性支持体の他主面にバックコート層が形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）