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Fターム[4K029CA02]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 真空蒸着 (3,263) | 反応性 (559)

Fターム[4K029CA02]に分類される特許

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【課題】電気化学セルを構成する固体電解質の低抵抗化(高イオン導電性)を図ることにより、低抵抗化された前記電気化学セルを提供する。
【解決手段】電子ビーム物理蒸着法あるいは放電プラズマ焼結法などを用いて作製された、酸化物イオン導電性あるいはプロトン導電性を有し、結晶配向を制御された柱状結晶を含む固体電解質11と、固体電解質11の相対向する一対の主面上に形成された一対の電極12,13と、を具えるようにして形成された電気化学セル10。 (もっと読む)


【課題】 酸素ガスや水蒸気に対するガスバリア性に優れたガスバリア性被膜と無機酸化物の蒸着膜との反応性を向上させることにより、優れたガスバリア性を有する、透明で柔軟なガスバリア性積層フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、該蒸着膜の表面に、酸素ガスを含む混合ガスによるグロー放電プラズマ処理を行うことにより、表面自由エネルギーが70dyne以上のプラズマ処理面を形成し、該プラズマ処理面に、アルコキシドとポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合溶液から得られるガスバリア性組成物を加熱乾燥処理して、ガスバリア性塗膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】短時間化、低コスト化が可能な一次元ナノ構造体の製造方法、一次元ナノ構造体の製造装置及び電子デバイスの製造方法並びにこの方法によって製造された電子デバイスを提供すること。
【解決手段】厚さが500nm以下のアモルファス酸化バナジウム薄膜を基板上に形成し、酸素、窒素、希ガスの単独又は混合ガスを用い、減圧又は常圧の雰囲気において、室温で薄膜にエネルギー密度が1J/cm2以下のパルスレーザを照射して二酸化バナジウムを母材とし単斜晶型又はルチル型の結晶構造を有する一次元ナノ構造体としてナノワイヤを形成し、基板をエッチング処理して基板にナノワイヤを残存させる。一次元ナノ構造体の製造方法は、二酸化バナジウムの金属−絶縁体相転移を利用した各種の電子デバイスの製造に適用される。 (もっと読む)


【課題】シート表面に比較的厚い金属化合物薄膜であっても高速でかつシート幅方向の膜厚を均一に形成できる金属化合物薄膜付シートの製造装置ならびに金属化合物薄膜付きシートの製造方法を提供する。
【解決手段】シート案内面3の運動に伴ってシートを搬送する搬送手段と、シート案内面上のシートに向かって金属蒸気を飛散させる蒸発源7と、金属蒸気と反応させるためにガスを導入する反応ガス導入手段15と、金属蒸気がシートに到来する領域を制限するマスク11aとを備え、搬送されるシートに連続的に金属化合物薄膜を形成する製造装置であって、蒸発源とシート案内面とを結ぶ直線方向に関し、反応ガス導入手段により導入されたガスと蒸発源から飛来した金属蒸気とが混在する位置に、金属蒸気がシート幅方向の外部に拡散することを防止する拡散防止手段20を設けてなることを特徴とする金属化合物薄膜付シートの製造装置。 (もっと読む)


【課題】ZnO原料粉末に添加される、希土類元素群から選ばれた2種以上17種以下の元素を含む希土類元素酸化物の偏析を抑制し、組成均一性に優れたZnO蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なZnO膜が得られるZnO蒸着材を製造する。
【解決手段】ZnO粉末11と、希土類元素群から選ばれた2種以上17種以下の元素を含む希土類元素酸化物粉末12との混合粉末を用い、メカニカルアロイング処理することにより得られた平均粒径0.05〜2μmの複合粉末13から第1造粒粉末14を作製し、或いはこの複合粉末13を仮焼、解砕して固溶体化を促進した複合仮焼粉末18から第2造粒粉末19を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むZnO焼結体からなるZnO蒸着材16又は22を作製する。 (もっと読む)


【課題】MgO保護膜の結晶配向強度分布を改善する。
【解決手段】基板10の一辺を先頭して搬送しながらMgO膜を成膜すると、基板10の先頭と直角な二辺(両側辺)が、両側辺の間の中央よりも(111)結晶配向強度が低くなる。アニール用のヒーター38を複数本の細長ヒーター38aに分割し、基板10の両側辺が中央よりも高温になるよう加熱すると、両側辺の(111)結晶配向強度が高くなり、(111)結晶配向強度の面内分布が向上する。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材1と、この基材1の上にハードコート層2を介して形成された透光性の反射防止層3とを有し、反射防止層3の1つの層32の表面33がシリサイド化されているレンズ10を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、3桁〜6桁(103〜106)程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。 (もっと読む)


【課題】ZnO原料粉末に添加される、希土類元素を1種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたZnO蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なZnO膜が得られるZnO蒸着材を製造する。
【解決手段】平均粒径が0.1〜10μmのZnO原料粉末15を移動状態にし、このZnO粉末に平均粒径が0.05〜5μmで希土類元素を1種含む希土類元素酸化物粉末11を含むコーティング液14を噴霧又は噴射し、その表面に厚さが0.05〜5μmの被覆層を形成して粒状体19とする。粒状体19又はこの粒状体を仮焼後に解砕して得られた仮焼粉末24を用いて、第1造粒粉末20又は第2造粒粉末29を作製し、成形、焼結を経て、ZnO焼結体22又は32からなるZnO蒸着材を作製する。 (もっと読む)


【課題】ZnO原料粉末に添加される、希土類元素群から選ばれた1種の元素を含む希土類元素酸化物の偏析を抑制し、組成均一性に優れたZnO蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なZnO膜が得られるZnO蒸着材を製造する。
【解決手段】ZnO粉末11と、希土類元素群から選ばれた1種の元素を含む希土類元素酸化物粉末12との混合粉末を用い、メカニカルアロイング処理することにより得られた平均粒径0.05〜2μmの複合粉末13から第1造粒粉末14を作製し、或いはこの複合粉末13を仮焼、解砕して固溶体化を促進した複合仮焼粉末18から第2造粒粉末19を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むZnO焼結体からなるZnO蒸着材16又は22を作製する。 (もっと読む)


【課題】α−NaFeO構造を有するLiMnOの安定構造、安定結晶の製造方法、LiMnOの結晶安定化方法、電池及び電子機器を提供する。
【解決手段】α−NaFeO構造を有するLiMnOの結晶が、結晶よりも格子定数の小さい担持体3によって担持される。結晶は、担持体3の結晶表面を覆うように薄膜2として形成される。担持体3は、Al又はLiCoOからなる。薄膜2は、パルスレーザ堆積法を用いて室温下で成長させ、大気中でアニールする。 (もっと読む)


【課題】ZnO原料粉末に添加される、希土類元素を2種以上17種以下含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたZnO蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なZnO膜が得られるZnO蒸着材を製造する。
【解決手段】平均粒径が0.1〜10μmのZnO原料粉末15を移動状態にし、このZnO粉末に平均粒径が0.05〜5μmで希土類元素を2種以上17種以下含む希土類元素酸化物粉末11を含むコーティング液14を噴霧又は噴射し、その表面に厚さが0.05〜5μmの被覆層を形成して粒状体19とする。粒状体19又はこの粒状体を仮焼後に解砕して得られた仮焼粉末24を用いて、第1造粒粉末20又は第2造粒粉末29を作製し、成形、焼結を経て、ZnO焼結体22又は32からなるZnO蒸着材を作製する。 (もっと読む)


【課題】従来の中屈折率の蒸着材料や光学薄膜が有していた、水分や二酸化炭素との化学反応性、組成ズレ、光吸収及び溶融性における問題点がすべて解消された、蒸着材料、光学薄膜及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】GdTaxy〔10/90≦x≦90/10の実数、(3+3x)/2≦y≦(3+5x)/2の実数〕で表わされることを特徴とする蒸着材料、光学薄膜及びそれらの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高温・高湿環境でガスバリア性に対して優れた耐久性を有するガスバリア積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】プラスチックフィルム基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層するガスバリア積層体において、前記プラスチックフィルム基材の前記酸化珪素膜を積層する面の中心線平均粗さRaが3〜30nmであり、高分解能ラザフォード後方散乱法(HR−RBS法)測定によって算出される前記酸化珪素膜の密度が1.9〜2.6g/cmの範囲内であること、酸素と珪素の比(O/Si)が1.4〜2.0の範囲内であることにより、高温高湿環境下でガスバリア性の劣化を抑えることができるガスバリア積層体を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】昇華する昇華材料を安定的に合成樹脂フィルム上に付着させることにより成膜して合成樹脂フィルムの上の成膜の特性を向上させること。
【解決手段】本発明の真空成膜装置1は、真空雰囲気下にある真空室内において合成樹脂フィルム7の少なくとも一方の面に昇華される昇華材料を蒸着して成膜する。真空成膜装置1は、材料容器9に収容された昇華材料9aを電子線発生手段8の電子線により昇華させる手段と、昇華材料9aの近傍に加熱水蒸気を供給する加熱水蒸気供給手段14と、昇華材料9a及び前記加熱水蒸気の両方にマイクロ波を照射させて昇華材料9aの蒸気を酸化反応させるマイクロ波発生手段12と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】厳しい熱環境での使用を意図した、超合金基板上の遮熱コーティングとして有用な組成物を提供する。
【解決手段】このコーティングは、主に正方晶相の状態において安定化したジルコニアを含む。組成物は、基本的にジルコニア(ZrO2)又はジルコニアとハフニア(HfO2)との組合せから成るセラミック成分と、YbO1.5、HoO1.5、ErO1.5、TmO1.5、LuO1.5、及びそれらの組合せより選択される第1の補助安定剤、並びにTiO2、PdO2、VO2、GeO2、及びそれらの組合せより選択される第2の補助安定剤を組み合わせて含む安定剤成分とを含む。任意で、この安定剤成分はY23を含む。この安定剤成分は、コーティング中で主に正方晶相の状態を実現するのに有効な量だけ存在する。
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【課題】ZnO原料粉末に添加される、希土類元素を2種以上17種以下含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたZnO蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なZnO膜が得られるZnO蒸着材を製造する。
【解決手段】ZnO原料粉末12と希土類元素を2種以上17種以下含む希土類元素酸化物粉末13との原料混合粉末14を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体19或いはグリーン積層体20又は29を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末25又は31を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むZnO焼結体からなるZnO蒸着材34を作製する。 (もっと読む)


【課題】(111)結晶配向性及び膜密度分布の良いMgO膜を成膜する。
【解決手段】成膜室22内の搬送機構29よりも成膜材料室23側で、開口28よりも外側、かつ、搬送機構29によるガラス基板10の搬送経路上で、開口28の上流側の端部よりも上流側と、下流側の端部よりも下流側に2つのガス噴出管33a、33bを設けて、ガラス基板10の、搬送方向と平行となる二辺部分に、中央部に対し相対的に多くの反応ガスを吹き付けながら成膜した。その結果、(111)結晶配向強度が向上し、MgO膜の(111)結晶配向強度の差が小さくなることで分布のばらつきが減り、さらに、MgOの膜密度分布も改善された。 (もっと読む)


【課題】(111)結晶配向性及び膜密度分布の良いMgO膜を成膜する。
【解決手段】搬送方向と平行な方向に向けられており、搬送方向と直交する方向に複数の細長ヒーター36aを並べ、中央部の細長ヒーター36aを両端部の細長ヒーター36aよりも高温とし、ガラス基板10を加熱しながらMgO膜の成膜を行った結果、(111)結晶配向強度が向上し、MgO膜の(111)結晶配向強度の差が小さくなることで分布のばらつきが減り、さらに、MgOの膜密度分布も改善された。 (もっと読む)


本発明は、フライス、切削インサート、射出成形用金型などのような工具のための摩耗保護層、特に物理的蒸着法を使用して蒸着させた摩耗保護層であって、当該層が、AlNbXの一般的な組成を有し(式中、Xは、N、C、B、CN、BN、CBN、NO、CO、BO、CNO、BNO、またはCNCOを表す)、Nbの割合が40原子%未満であり、かつ/または当該製造プロセスにおいて使用されるアルミニウム粉体が、アルミニウムに対して10〜50原子%のジルコニウムと混合されることを特徴とする摩耗保護層に関し、さらに摩耗保護層を製造するための方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】不純物のドープ量を容易に制御して添加できるプラズマ援用反応性薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生用コイル4を、薄膜にドープする元素からなる物質、またはその元素を含む物質で一部または全体が構成されるか被覆されたものとする。そのプラズマ発生用コイル4によってチャンバ10内にプラズマを発生させ、蒸発源のルツボ6によって蒸発される原料の元素と気体導入口7から導入される気体の元素とがプラズマ雰囲気中で活性化し、前記プラズマ発生用コイル4の表面からスパッタリングされて飛び出す上記物質(例えばCu)の元素とともに基板2の表面において反応し、該物質の元素をドープした薄膜を成膜する。 (もっと読む)


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