説明

Fターム[4K029CA02]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 真空蒸着 (3,263) | 反応性 (559)

Fターム[4K029CA02]に分類される特許

161 - 180 / 559


【課題】砂付着に対して強い耐性を有し、粒子衝突時の表面仕上げ、硬度、高サイクル疲労強度の劣化が最小限又はゼロに抑えられ、且つ、エアフォイル領域及び表面形状に与える影響が最小限になる表面を有するタービンエンジン部品を提供すること。
【解決手段】耐砂付着性を有するタービンエンジン部品10の表面14であって、基材12と、該基材上に堆積されてコーティング表面16を形成する炭化物及び/又は窒化物コーティングとから成り、該コーティングの表面の粗度(Ra)が12マイクロインチ未満である、タービンエンジン部品10の表面14。 (もっと読む)


【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ti1-xNbxN(ただし、0<x<0.3)からなるA層と、Ti1-yAlyN(ただし、0.3<y<0.7)からなるB層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、A層の厚みλaおよびB層の厚みλbはそれぞれ2nm以上1000nm以下であり、互いに接しているA層およびB層の厚みの比であるλa/λbの値は、基材に最も近い位置においては0.4<λa/λb<0.7であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および/または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては1.5<λa/λb<3となる表面被覆切削工具である。 (もっと読む)


【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ti1-x-yNbxSiyN(ただし、0≦x<0.3、0<y<0.3)からなるA層と、Ti1-zAlzN(ただし、0.3<z<0.7)からなるB層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、A層の厚みλaおよびB層の厚みλbはそれぞれ2nm以上1000nm以下であり、互いに接しているA層およびB層の厚みの比であるλa/λbの値は、基材に最も近い位置においては0.4<λa/λb<0.7であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および/または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては1.5<λa/λb<3となる表面被覆切削工具である。 (もっと読む)


【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、当該基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ti1-x-yCrxSiyN(ただし、0<x<0.3、0<y<0.3)からなるA層と、Ti1-zAlzN(ただし、0.3<z<0.7)からなるB層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、A層の厚みλaおよび前記B層の厚みλbはそれぞれ2nm以上1000nm以下であり、互いに接しているA層およびB層の厚みの比であるλa/λbの値は、基材に最も近い位置においては0.4<λa/λb<0.7であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および/または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては1.5<λa/λb<3となることを特徴とする。 (もっと読む)


コーティングを堆積させるための処理、特に、腐食の影響を受けやすい流路表面を有するディスクおよび一体型ブレードを有するガス・タービン・エンジン・ブリスクの表面を保護するのに適した耐腐食コーティング。処理には、ブリスクをコーティング材料源に隣接して配置することを、材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を発生させるように構成された装置内で行なうことが含まれる。コーティング材料源に対するブリスクの配向を、ブリスクの回転軸が、コーティング材料源からコーティング材料蒸気がブリスクへと流れる直線経路の約45度以内になるように、またブレードのより腐食の影響を受けやすい流路表面がコーティング材料源に面するように、行なう。次にブリスクをその回転軸の周りに回転させながら、コーティング材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を優先的に堆積させ、ブレードおよびディスクの腐食の影響を受けやすい流路表面上にコーティングを形成する。
(もっと読む)


【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材110と、このレンズ基材110の表面に設けられたハードコート層120と、このハードコート層120の上に設けられた反射防止層130とを備えて構成されている。反射防止層130は、屈折率が1.3〜1.5である低屈折率層と、屈折率が1.8〜2.45である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層130は、レンズ基材110側から外側に向けて順に配置された第1層131、第2層132、第3層133、第4層134、第5層135、第6層136、第7層である透明導電層137及び第8層138から構成される。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れた光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材110と、このレンズ基材110の表面に設けられたハードコート層120と、このハードコート層120の上に設けられた反射防止層130とを備えて構成されている。反射防止層130は、屈折率が1.3〜1.5である低屈折率層と、屈折率が1.8〜2.4である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層130は、レンズ基材110側から外側に向けて順に配置された第1層131、第2層132、第3層133、第4層134、第5層135、第6層である第1透明導電層136、第7層137、第8層である第2透明導電層138及び第9層139から構成される。 (もっと読む)


【課題】基板上に多層膜/コーティングを形成する改善された気相堆積方法及び装置を開示する。
【解決手段】多層コーティングを堆積するために使用されるものであって、基板と直接的に接触する酸化物層の厚さが、基板の化学組成に相関するものとして制御される。これにより、後に堆積される層は、酸化物層により良好に結合される。改善された方法は、多層コーティングを堆積するために使用されるが、この多層コーティングでは、酸化物層が基板上に直接的に堆積され、有機物層が酸化物層上に直接的に堆積される。典型的には、酸化物層及び有機物層が交互に配置される一連の層を形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸発源から蒸発させた蒸着粒子の流れを乱すことなく、効率よくガスを供給し、連続斜め蒸着可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】チャンバーの外部からガスを供給するノズル部31a1,31a2,31b1,31b2を、基板の表面に垂直で、かつ、基板を搬送する方向に平行な面に配置し、基板が第1および第2の蒸着領域60a,60bを通過する間に、蒸着方向の異なる2段の蒸着工程を連続して行い、量産性に優れたプロセスで、成長方向の異なる複数の層からなる蒸着膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、(AlGaIn)Nの光電子デバイス及び電子デバイスのための基材として好適な、高い品質の(AlGaIn)N構造物及びそのような構造物を形成する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る方法は、半導体構造物を分子線エピタキシー反応槽内で処理すること;基材上にAlInGa(1−(x+y))As(0≦x+y≦1)及びAlInGa(1−(x+y))P(0≦x+y≦1)のうち少なくとも1つを含むぬれ層を成長させること;上記ぬれ層をインシチューアニーリング(in−situ annealing)すること;付加的なリン又はヒ素の流体と共に、プラズマ励起された窒素を窒素源として用いて、上記ぬれ層上に第1のAlGaInN層を成長させること;上記第1のAlGaInN層の上に、窒素源としてアンモニアを用いて第2のAlGaInN層を成長させること;を含む。 (もっと読む)


【課題】酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層1の少なくとも一方の面上に、ガスバリア層2と被膜層3を順次積層してなり、ガスバリア層2は酸化アルミニウムからなり、かつ、膜厚(厚さX)が0.005μm以上0.15μm以下であり、被膜層3は、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させてなり、かつ、膜厚(厚さY)が0.1μm以上20μm以下であり、ガスバリア層2の厚さXと被膜層3の厚さYとの関係が、下記式を満たすガスバリア性積層フィルム。0.002≦XY≦0.5 (もっと読む)


【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に1層以上の無機物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、
次いで、該無機物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を形成する工程と、
次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うものである。 (もっと読む)


【課題】結晶性を向上するAlN結晶の製造方法、AlN基板の製造方法および圧電振動子の製造方法を提供する。
【解決手段】AlN結晶10の製造方法は、AlN下地基板11を準備する工程と、AlN下地基板11上にAlN結晶10を成長する工程と、AlN結晶10からAlN下地基板11を分離する工程とを備えている。AlN下地基板11およびAlN結晶10の一方は、280nm以下の波長の光に対して吸収係数が100cm-1以上である。AlN下地基板11およびAlN結晶10の他方は、220nm以上280nm以下の波長の少なくとも一部の波長域の光に対して吸収係数が100cm-1未満である。上記分離する工程では、AlN下地基板11およびAlN結晶10のうち吸収係数が低い他方側から光を照射する。 (もっと読む)


【課題】強誘電性能に優れた新規組成のペロブスカイト型酸化物を提供する。
【解決手段】ペロブスカイト型酸化物は、下記一般式で表されるものである。(A,B)(C,D,X)O(A:Aサイト元素である。A=Bi、0<a。B:1種又は複数種のAサイト元素である。0≦b<1.0。C:Bサイト元素である。C=Fe、0<c<1.0。D:1種又は複数種のBサイト元素である。0≦d<1.0。0<b+d。X:1種又は複数種のBサイト元素である。CとDの化学式上の平均価数よりも化学式上の平均価数が大きい元素である。0<x<1.0。(Aサイトの化学式上の平均価数)+(Bサイトの化学式上の平均価数)>6.0。O:酸素。Aサイト元素とBサイト元素と酸素のモル比は1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。) (もっと読む)


【課題】成膜中に膜材料の表面に付着または析出した異物を落下し易くできる成膜方法、膜材料、および成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜方法は、膜材料22を蒸発させて基板28の表面28aに成膜する成膜方法であって、膜材料22は、表面が曲面で構成された形状を有する固体からなり、複数の膜材料22をハース20に収容し、膜材料22の表面を加熱することにより膜材料22を蒸発させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、内部応力が小さい酸化亜鉛薄膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される酸化亜鉛薄膜であり、該薄膜はCuKα線を用いたX線回折法により酸化亜鉛の(002)面からの回折線が得られ、最大ピーク強度If(cps:酸化亜鉛)を膜厚(nm)と透明基材が示すハローの最大ピーク強度Is(cps:透明基材)とで除した数が0.15以下とすることとし、さらに該薄膜の波長550nmにおける屈折率が1.98以下とすること。 (もっと読む)


【課題】 InN結晶を分子線エピタキシャル成長法で成長させようとする場合、基板温度が低いと結晶品質が悪く基板温度が高いと窒素が解離してしまう。窒素解離を抑制して基板温度をより高くして成長させるようにする。
【解決手段】基板面にガスを吹き付けることにより窒素解離を防ぎ基板温度を高めて成長させる。ガスは分子線の経路を遮らないようなガスノズルから吹き出させる。ガスを真空チャンバの外側或いは内側において加熱して基板に吹き付けるようにすると、部品表面での組成原子の脱離の防止やマイグレーション距離を制御することもできる。 (もっと読む)


【課題】圧電性能に優れた強誘電性酸化物を提供する。
【解決手段】特定構造の結晶対称性を有する下記一般式(a1)で表される組成を有する強誘電性酸化物においてAサイト元素となり得るイオン半径及びイオン価数を有するAサイト元素Aと、Bサイト元素となりうるイオン半径及びイオン価数を有するBサイト元素Bを選択して構成元素を決定し、特定構造の結晶対称性を有する強誘電性酸化物に対して、自発分極方向に電界を印加して自発分極方向へ変位させた時のBi元素のBorn有効電荷が、同じ特定構造のBiFeOのBi元素のBorn有効電荷より大きくなるように組成を決定し、この組成の強誘電性酸化物を製造する。
ABO・・・(a1)
(式(a1)中、AはBiを主成分とする1種又は複数種のAサイト元素、Bは1種又は複数種のBサイト元素、Oは酸素。) (もっと読む)


【課題】基材フィルムの少なくとも一方の面にアンカーコート層、無機酸化物層を順次形成してなる透明ガスバリアフィルム、及びそれを用いた透明包装材料において、無機酸化物層の厚さを増大させることなくガスバリア性を確保するフィルムの提供。
【解決手段】アンカーコート層と無機酸化物層との界面について、連続傾斜TEM像(−60°〜+60°、1°ステップ)を撮影した後、Fiducial Marker法による画像位置補正を行うことで3次元再構成像を得た際の界面における表面粗さRmsが1.0nm以下である透明ガスバリアフィルム。 (もっと読む)


本発明は、基板と、対応する電極構造物とを有する電子音響部品(1)、特に、表面音波またはバルク音波で動作する部品に誘電体層(3)を形成する製造方法に関し、多重部品システムとしてのホウケイ酸ガラスなどの蒸着ガラス材料や、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどの単部品システムからなる、蒸着材料のグループから選ばれる少なくとも一つの蒸着材料が、熱蒸着により析出するので、上記誘電体層(3)が、少なくとも部分的に形成される。本発明は、さらに、電子音響部品に関する。
(もっと読む)


161 - 180 / 559