【課題】 複数の量子ドットの大きさの均一性を向上させることができる量子ドットアレイの製造方法及び量子ドットアレイ等を提供すること。
【解決手段】 本発明は、量子ドットを有する柱状部を基板上に複数有する量子ドットアレイの製造方法において、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第１バリア層の構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層を複数形成する工程と、量子ドットの構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層上に量子ドットを形成する工程と、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第２バリア層の構成材料を基板の表面に対して斜方蒸着し量子ドット上に第２バリア層を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

矩形状の４元組成比傾斜膜を作成する方法において、この矩形の直交する二辺方向の座標をｘ、ｙとし、上記４元物質をそれぞれＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとし、物質Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの各々のモル数をｚとしたときに、物質Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの各々のモル数ｚの分布が、ｚ＝ｘｙ、ｚ＝ｘ（１−ｙ）、ｚ＝（１−ｘ）（１−ｙ）、及びｚ＝ｙ（１−ｘ）、で表される各々の膜を積層すれば、４元物質全ての組成比が０から１００％まで変化した４元組成比傾斜膜が作成できる。
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【課題】プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】金属膜の蒸着前において原料フィルム１２に電子ビームを照射する電子ビーム照射器２１を配置すると共に、キャンローラ１４には直流バイアス電源２２の正極を接続し、補助ローラ１８には直流バイアス電源２２の負極を接続する。これにより、金属膜の蒸着前は電子ビームの照射により帯電させた原料フィルム１２をキャンローラ１４に密着させ、金属膜の蒸着後は補助ローラ１８に電気的に接続される金属膜とキャンローラ１４との間に印加したバイアス電圧によって原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。 （もっと読む）

【課題】低い温度でシリコン薄膜を形成しつつ、不純物の濃度を低く抑えることのできるシリコン薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板１をチャンバ１０内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を２５０℃以下の温度条件で行うことによって前記基板１上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。前記イオンビーム蒸着が行われるチャンバ１０の基本気圧を１０^−１２Ｔｏｒｒ以上１０^−７Ｔｏｒｒ以下に調節するのがよい。 （もっと読む）

【課題】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、液晶性化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板ペデスタル及び少なくとも１つの移動可能な傾斜ターゲットを有する物理気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態によれば、均一性の高い薄膜を堆積させることができる。 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板用ペデスタルを有する物理的気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態は、高度に均一な薄膜の堆積を容易にする。更なる実施形態において、一以上のスパッタリングターゲットがペデスタル上方に移動可能に配置される。ペデスタルに対するターゲットの配向は、横方向、垂直方向、又は角度的に調整可能である。一実施形態において、ターゲットは、約０°から約４５°の間で、ペデスタルの回転軸に対して調整されてもよい。
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【課題】 この発明は、基板の径方向に均一に傾斜した柱状構造の薄膜を精度良く形成できると共に、膜厚分布をさらに均一にすることのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、真空空間を画成する真空容器と、該真空容器内に回転可能に配された基板保持台と、該基板保持台に載置される基板と、該基板に対して所定の角度で傾斜すると共に、前記基板に対して平行に移動するカソードと、該カソードに装着され、膜形成用材料からなるターゲットとを少なくとも具備するスパッタ装置において、前記基板と平行に配され、前記基板の所定の位置を前記ターゲットに対して露出する開口部が形成されたマスクが設けられることにある。また、前記カソードの前面には、前記マスクと平行に開口する開口部を有するフードが設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性に優れ、材料の安全性が高く、密着が良好であり、クリーン性が高く、かつ高速製造によりコストダウンが可能なガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面に、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を積層してなることを特徴とするガスバリアフィルム積層体およびそのガスバリア層を減圧下で成膜する製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 広い面積に亘ってc軸が面内に配向したZnO薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 マグネトロンスパッタリング装置を用いて、薄膜の原料であるZnOターゲット２８をスパッタし、プラズマ中に陰極２３から陽極２４に向かう原料の流れ（原料流）を形成する。この原料流は中心部において密度が高く、中心部から外れるに従って密度が低いものとなる。基板２０は、原料流の形成される領域３０の中心軸から外れた位置に、該中心軸に対して傾斜して固定される。これにより、基板２０に自然に温度勾配が形成され、基板２０上に堆積するZnO薄膜のc軸は面内で温度勾配の方向に配向する。また、基板２０が原料流に対して傾斜して固定されることにより、従来よりもc軸が面内に斉合配向する面積が大きくなる。 （もっと読む）

【課題】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性、焼き付き現象の緩和及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、金属アルコラートで化学反応処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機の基材に強く付着している金属コーティングを製造する方法であって、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；（ｂ）無機又は有機の基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；（ｃ）ステップ（ｂ）の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ（ｂ）の層に電磁波を照射し；そして（ｄ）光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる方法に関する。 （もっと読む）

真空チャンバ中に物品を載置し、チャンバを排気し、加速イオンで物品の表面を処理し、処理表面上に後に形成する層を接着させる材料層を形成し、グラファイトカソードでパルス電子−アーク放電を開始し、カソード表面に沿って動く複数のカソードスポットから炭素プラズマのパルス流を生成し、物品表面の所定領域に炭素プラズマを収束して超硬質非晶質炭素被膜を形成し、物品温度を、電子−アーク放電パルスの繰り返し周波数を制御することによって２００から４５０Ｋの範囲内に維持する工程を含む真空中での超硬質非晶質炭素被膜を形成する方法であって、炭素被膜を形成する工程において、炭素プラズマのパルス流が、２３から３５eＶのイオン平均エネルギー、１０¹²から１０¹³ｃｍ^-3のイオン濃度を有し、炭素プラズマ流の軸が、物品の所定表面に対して１５から４５°の角度傾斜させ、被膜の形成工程において、物品の温度変化Δｔが、５０から１００Ｋの範囲内で維持することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 非磁性支持体を薄型化した場合でもカッピング等の発生を防止するとともに優れた電磁変換特性を達成する。
【解決手段】 非磁性支持体は、少なくとも、他主面を構成する第１の芳香族ポリアミドフィルムと、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム上に形成された第２の芳香族ポリアミドフィルムとを有するとともに、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子が上記第２の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子と比較して大とされてなり、上記非磁性支持体は、上記第１の芳香族ポリアミドフィルムを除いた厚みが２．０μｍ以上であり、上記非磁性支持体の他主面にバックコート層が形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）