【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、配向膜を形成するための有機材料の固体物を第１の温度に加熱して、有機材料の液状体を生成する第１処理装置と、第１処理装置で生成された液状体を第１の温度よりも高い第２の温度に加熱して、有機材料の蒸気を生成する第２処理装置とを備え、第２処理装置で生成された有機材料の蒸気を基板に供給して、基板上に有機材料からなる配向膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上に、斜方蒸着による蒸着膜の未成膜部分が発生するのを防止し、小型化を図りつつより多くの基板を保持することのできる成膜基板の製造装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に斜方成長膜法によって成膜する成膜基板の製造装置であって、基板１１を載置可能とする載置面１２を複数有した保持治具本体１３と、基板１１を載置面１２に保持する保持部１４と、を備え、複数の載置面１２は、保持治具本体１３の一端側から他端側にかけて並設されるとともに、水平面に対する高さが並設方向で段階的に高くなっている。 （もっと読む）

【課題】広がりのある被蒸着物の基板に対して斜方蒸着する場合、簡単な装置により必要な基板表面の膜厚・蒸着角特性を有する斜方蒸着膜を基板面全体にわたって形成すること、特に膜厚を均一な状態で蒸着する。
【解決手段】基板２を蒸着源１に対して、基板面の法線が基板２の中心と蒸着源１の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置である。基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面４に流通密度制御手段を設け、蒸気流通面４の各位置を通過する蒸気流は、蒸着源１から基板２までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御される。流通密度制御手段は、蒸気流通面４において回転する膜厚調整板５_１である。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の未成膜部分の発生を防止して、小型化を図りつつより多くの基板を保持可能とする成膜基板の製造装置を提供する。
【解決手段】側面に突部１５が設けられた基板１４の表面に斜方成長膜法によって成膜する成膜基板の製造装置は、突部１５を係合する溝部１３を有した保持基材１２を複数備え、保持基材１２を、基板１４の側面方向に対して対向するように配置し、互いに対向する保持基材１２の溝部１３どうしによって、基板１４の突部を保持するとともに、基板１４の被成膜面１４ａよりも保持基材１２の上面１２ａが突出しない形状となっている成膜基板保持治具を備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、ターゲット材料にイオン粒子を照射して、ターゲット材料より膜を形成するためのスパッタ粒子を放出させるスパッタ装置と、基板を保持して移動可能であり、ターゲット材料からのスパッタ粒子が供給可能な位置に基板を配置可能な基板保持部材と、ターゲット材料と基板との間に配置され、ターゲット材料からのスパッタ粒子の少なくとも一部が通過可能な開口を有する所定部材とを備える。所定部材は、ターゲット材料と同じ材料によって形成されている。 （もっと読む）

【課題】成膜においてステップカバレージを向上させる。
【解決手段】アーク放電によりターゲットの正イオンを含むプラズマビームを生成し、そのプラズマビームを基板上に照射して薄膜を成膜する成膜方法において、プラズマビームに向けて不活性ガスを導入し、この導入した不活性ガスによりプラズマビームを散乱させ、散乱させたプラズマビームを基板上に照射する。プラズマビームを散乱させることで、プラズマビーム中に含まれる正イオンの進行方向を、基板面に対して一方向（垂直方向）に限らず種々の方向として、基板面に対するイオンの入射角を分散させ、これによって、側壁への膜付着の確率を高め、ステップカバレージを向上させる。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が均一な膜を成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２０とターゲットとの間の位置には膜厚制御用遮蔽部１６が配置されており、膜厚制御用遮蔽部１６に設けられた膜厚制御用透過部１７はターゲット側の幅が狭く、ターゲットとは反対側の幅が広くなっている。ターゲットから遠い程、スパッタ粒子の密度は小さくなるので、基板２０のターゲットから遠い部分は密度の低いスパッタ粒子に長時間晒され、基板２０のターゲットから近い部分は密度の高いスパッタ粒子に短時間晒されることになり、結局、成膜面上には膜厚分布が均一な膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】プレチルト角制御性に優れ、大面積基板上へ均一に無機配向膜を形成可能な、液晶配向膜の形成に好適な蒸着薄膜の成膜装置を提供する。
【解決手段】被蒸着基板１１を移動させるための基板可搬手段１７と、該基板可搬手段が移動する軌跡が描く線分に対して、それぞれ一定の角度を有して蒸着を行う複数の蒸着源１２、１３と、該基板可搬手段と蒸着源の間に設けられた、複数のスリット１５、１６を有する防着部材１４と、該複数の蒸着源を同時に作動させ、かつ複数の蒸着源の投入電力量を独立して制御することが可能な蒸着源制御手段を具備する蒸着薄膜の成膜装置。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でターゲットに対する基板の姿勢を調整することが可能な成膜装置用の基板搬送系を提供する。
【解決手段】基板搬送系５０は、ターゲット１１から放出された粒子の飛行領域を横切るように、ターゲット１１に対して相対的に基板１５を移動させるものであり、基板１５が搭載されるトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃと、トレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃにおけるターゲット１１に近い第１位置ＰＴ１とターゲット１１から遠い第２位置ＰＴ２とを支持し、かつ第１位置ＰＴ１と第２位置ＰＴ２とを通る軸線を横切る方向（移動中心軸５１方向）にトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃを搬送する搬送機構５４と、トレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃの第１位置ＰＴ１及び／又は第２位置ＰＴ２に配設され、搬送機構５４に対するトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃの高さを規定する高さ規定部材５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃとを有する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによるターゲットの消費効率を低下させずに、段差に成膜される薄膜の被覆性を改善する。
【解決手段】基板の端部７１Ｌの表面に段差のある基板２１に薄膜を成膜する場合、まず（Ａ）に示すように基板２１をターゲットに対して傾斜させながら薄膜９１を成膜する。次に、（Ｂ）に示すように基板２１をターゲットに対して傾斜させながら薄膜９１の上に薄膜９２を成膜する。薄膜９１と薄膜９２を順に成膜することで、（Ｃ）に示すように、段差の側面９７Ｌ，９７Ｒ及び底面９８に被覆性の良い薄膜が成膜される。また、ターゲットに対して基板２１の角度を連続的に変化させながら薄膜９６を成膜する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングにより成膜される無機質膜の緻密性を向上させることができるスパッタリング成膜装置を提供する。
【解決手段】軸心方向２ａに回転する筒状をなし外面に複数の基板４を周方向に離間して保持する基板ホルダー２と、基板に対向して配置されるターゲット材６を保持するターゲットホルダー８と、基板表面に対するターゲット材表面の角度を変化させるためにターゲットホルダーの取付角度を変えるターゲットホルダー取付角度可変機構１２とを有する。 （もっと読む）

表面の特性を決定する方法は、
特性決定を実行される表面（３）上へ中性原子または分子のビーム（２）を方向づけるステップと、
前記特性決定を実行される表面（３）により前方向へ散乱された前記ビームの前記中性原子または分子を位置感応式に検出するステップとを含み、
前記ビーム（２）の性質は、前記前方向へ散乱される中性原子または分子の少なくとも幾分かが前記特性決定を実行される表面により回折されるようにして選択される。
このような方法を実装するためのデバイスは、このような中性原子または分子のビーム（２）を発生するための手段（１）と、前記特性決定を実行される表面（３）により前方向へ散乱される前記中性原子または分子を検出するための位置感応性の検出器手段（４）とを備える。
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【課題】 アスペクト比４以上のホールの内面にボトムカバレッジ率よく成膜を行えるようにする。
【解決手段】 チタン等の金属製のターゲット２をスパッタして基板５０に所定の薄膜を作成するスパッタチャンバー内に所定のガスを導入するガス導入手段４は、ターゲット２から放出されるスパッタ粒子に反応して、ホール５００の側面５０１に対する付着性がスパッタ粒子単体の場合よりもより低く且つホール５００の底面５０２において解離可能な化合物を生成する水素等の反応性ガスを導入することが可能である。狭いホール５００の底面５０２まで効率よくスパッタ粒子が到達できるので、ホール５００の底面５０２での膜堆積が促進され、ボトムカバレッジ率が向上する。 （もっと読む）

【課題】蒸発源と基板との間の距離を大きくすることなく、基板面内における蒸着物質の蒸着角度の均一化を図る。
【解決手段】本発明では、スリット２２ａを有するスリット板２２の移動制御と、基板支持台１７の回転角度制御による蒸着物質の入射角制御とを同時に行うことによって、基板Ｗ面内における蒸着角度の均一化を図る。すなわち、スリット板２２が基板Ｗ上の被蒸着領域を画定し、この画定された被蒸着領域に対する蒸着物質の入射角を基板Ｗの回転角度で制御することによって、基板Ｗ面内において蒸着物質の入射角の一様化を図り、蒸着角度の均一化を図る。好適には、基板Ｗ表面に対する蒸着物質の入射角の制御を、スリット板２２の移動位置に対応して行う。基板Ｗの回転角度とスリット板２２の位置とを互いに関連させることによって、蒸着角度の均一化を効率よく行うことができる。 （もっと読む）

連続ロール間堆積被覆装置および帯基材のエッジに連続被覆する方法が開示される。本発明は、緻密な被覆と基材との間の密着が向上した硬い、耐摩耗性被覆金属帯を得ることを目的とする。前記堆積被覆装置は、堆積領域（１１８）の上流のエッチング領域（１１６）を含む真空処理チャンバー（１１４）；前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置（１２０）；および前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置（１２２）を含んでなり、前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲット（１２４）を含み、前記帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部（１４０）を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、前記帯基材の第１エッジ部が第１遠位部に向かって第１近位部（１４４）から先細になっている少なくとも第１傾斜表面（１４２）を含み、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線（１５０）を有し、前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線（１２８）を有するターゲット表面（１２６）を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である。
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【課題】集電能力などの電極性能に優れた電極、その電極を備えた固体電解質型燃料電池セル及び固体電解質型燃料電池スタックを提供すること。
【解決手段】固体電解質型燃料電池セルに用いられ、基材上に形成される電極であって、（Ａ_1-xＢ_x）_yＭＯ₃₊δで表されるペロブスカイト型酸化物からなる柱状結晶を備え、その柱状結晶の少なくとも一部が、基材に対して斜めに形成されていることを特徴とする（但し、Ａは希土類元素、Ｂはアルカリ土類金属であり、０≦ｘ≦１、０．９≦ｙ≦１．１、Ｍは、Ｍｎ、Ｆｅ及びＣｏの少なくとも１種）。そして、柱状結晶の少なくとも一部が、基材に対して斜めに形成されているので、柱状結晶同士の接触が良くなり、横方向（基材表面に対して平行な方向）の電気伝導性が高くなる。よって、発電に寄与する三相界面を多く利用でき、発電量が増加する。 （もっと読む）

【課題】製造工程で発生する太陽電池の損失を最小化し、低コストの工程でも可能な集積型薄膜太陽電池及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、（ａ）基板上に隣接している、互いに所定の間隔に離間するようにパターニングされた導電性物質を形成するステップと、（ｂ）前記（ａ）ステップによる基板上に、太陽電池（半導体）層を形成するステップと、（ｃ）前記太陽電池（半導体）層上に、第１透明導電性物質を斜めに蒸着するステップと、（ｄ）前記第１透明導電性物質をマスクとして、前記太陽電池（半導体）層をエッチングするステップと、（ｅ）前記（ｄ）ステップによる基板上に、第２透明導電性物質を斜めに蒸着して、前記導電性物質と前記第１透明導電性物質とを電気的に接続させるステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機化合物を含む発光素子を製造するための装置および方法に関する。
【解決手段】これらの素子には、有機発光ダイオードが備えられており、ディスプレイまたはかかる発光ダイオードを有する照明素子であってもよい。本発明の目的は、製造のために使用する時間のコストに関する製造経費を低減することである。この場合、既に前処理された基板が連続式真空コーティングプラントにおいてさらに加工される。かかる基板上には、その上方に発光のために適合する有機化合物の少なくとも一つの層が蒸着することが意図されている電極が形成される。蒸着は相違する角度分布を備えて行われる。このためにはシャドーマスクが使用される。蒸着における角度分布は、シャドーマスクから基板までの間隔および／または上部電極および有機物層を蒸着するためのソースの基本圧を変化させることによって適応させることができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性（耐光性）に優れるとともに、例えば、液晶分子の配向状態を規制する機能に優れる無機配向膜を備える電子デバイス用基板、かかる電子デバイス用基板を製造する電子デバイス用基板の製造方法、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶パネル１は、ＴＦＴ基板１７と、ＴＦＴ基板１７の内表面に接合された無機配向膜３と、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２の内表面に接合された無機配向膜４と、無機配向膜３と無機配向膜４との空隙に封入された液晶分子を含有する液晶層２と、ＴＦＴ基板１７の外表面に接合された偏光膜７と、液晶パネル用対向基板１２の外表面に接合された偏光膜８とを有している。無機配向膜３、４は、それぞれ、ＴＦＴ基板１７または液晶パネル用対向基板１２の内表面にほぼ平行、かつ、長軸がほぼ一定方向に向くように配設された複数の角柱状の無機粒子で構成されている。 （もっと読む）

イオンビームスパッタリング法を用いて、表面に凹欠点を有する基板上にＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法であって、前記基板をその中心軸を中心に回転させつつ、前記基板の法線と前記基板に入射するスパッタ粒子とのなす角度αの絶対値を３５°≦α≦８０°に保持してイオンビームスパッタリングを実施することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜の成膜方法。
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