【課題】大面積の基板を用いた場合でも、蒸着距離を大きくすることなく、配向の均一性を確保可能な膜の形成方法を提供する。
【解決手段】被蒸着基板上に膜を形成する方法であって、蒸着源からの蒸着種が該被蒸着基板の膜を形成する面に向かう方向が、該被蒸着基板の法線方向に対して傾斜するように被蒸着基板を保持する工程と、該被蒸着基板の膜を形成する面に面内の位置によって異なるエネルギーを与える工程と、該蒸着源から蒸発させた蒸着種を該被蒸着基板上に付着させ膜を形成する工程とを有する膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板に対する膜厚分布補正を容易に実現し、膜厚均一性及び液晶配向性に優れた配向膜を得ることのできる成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタを提供する。
【解決手段】基板１５とターゲット１１との間に、基板１５に対する粒子の入射領域を規制する遮蔽板１２０と、基板１５に対する粒子の入射量を規制するコリメータ１１０とを有し、コリメータ１１０はターゲット１１の中心と基板１５の中心とを結ぶ線分ＰｔＰｓに沿って延在し、被成膜面１５ａに対して略垂直であるとともに線分ＰｔＰｓに対して交差した姿勢で配置される規制板１１１を基板１５の搬送方向に複数並設させてなり、規制板１１１はターゲット１１から見て基板１５の被成膜面１５ａと重なるように設けられ、基板１５のターゲット１１に遠い側よりも近い側に入射する粒子の密度を低減させる。 （もっと読む）

【課題】 微粒子の吹きつけによる成膜方法であって、良好な膜質で成膜を行うことが可能な成膜方法と、当該成膜方法を実施する成膜装置を提供する。
【解決手段】 微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角が、第１の角度θ１（但し、−５°<θ１<０）、第２の角度θ２（但し、０<θ２<５°）、第３の角度θ３（但し、―９０°<θ３<−６０°）、および第４の角度θ４（但し、６０°<θ４<９０°）よりなる群より選択される角度とされることを特徴とする成膜方法。 （もっと読む）

【課題】
半導体構造の微細化に対応でき、しかも基板上に形成した被覆膜におけるビアホールやトレンチの開口部におけるオーバーハングや非対称性を改善できる成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】
スパッタリング法又はALD又はCVD法で上記基板上に金属配線を形成するための被覆膜を形成し、この被覆膜形成中又は形成後に、アルゴン、ネオンなどの希ガスのイオンを３００~１００００ｅＶのイオンエネルギーで基板に対してほぼ平行に照射して上記基板上に形成された被覆膜の形状を適切に変更する。 （もっと読む）

【課題】製造後、画素電極と対向電極とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を、確実に防止することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板及び対向基板に、液晶に駆動電圧を印加する画素電極、対向電極をそれぞれ形成するステップＳ１と、ＴＦＴ基板及び対向基板を、塩素系ガス雰囲気中で加熱しながら、画素電極、対向電極に対して脱水酸基処理を行い、画素電極、対向電極上の水酸基を除去するステップＳ２と、画素電極、対向電極上に、無機配向膜をそれぞれ形成するステップＳ３と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸着源から基板上に材料を成膜する成膜装置において、膜を構成する柱状構造体の延在方向を可変とすることで、膜の特性を任意に設定可能とする。
【解決手段】蒸着源からの材料を基板上に成膜する成膜装置であって、所定方向に基板１０Ａを搬送する基板搬送装置３０４と、上記基板１０Ａの搬送方向を含む平面と平行な基準面内において一方向に延在するライン状の蒸着源３０２と、上記蒸着源３０２を上記基準平面内において回転可能に支持する蒸着源回転装置３０３と、少なくとも上記基板搬送装置３０４及び上記蒸着源回転装３０３置を制御する制御装置３０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】製造後、ＴＦＴ基板側と対向基板側とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を確実に防止することができるとともに、液晶に対し所望のプレチルト角が得られる無機配向膜を形成することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に、画素電極９、対向電極２１をそれぞれ形成するステップＳ１と、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を、還元性雰囲気下で加熱するステップＳ２と、還元性雰囲気下で加熱しながら、各電極９、２１上に、無機配向膜１６、２６をそれぞれ形成するステップＳ３と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配向性の高いＰＺＴ薄膜を容易に製造することが可能なＰＺＴ薄膜の製造方法、配向性の高いＰＺＴ薄膜を圧電薄膜として備えた低コストのＢＡＷ共振器およびそれを用いたＵＷＢ用フィルタを提供する。
【解決手段】ＰＺＴ薄膜３０ａの製造にあたっては、結晶成長用基板１の主表面側の成長表面である最表面Ｓｕｒに電子銃２から電子ビームを照射しながらスパッタ法によりＰＺＴ薄膜３０ａを結晶成長させるので、結晶成長時の最表面Ｓｕｒ付近の電子４に起因した電場と最表面Ｓｕｒに向かって飛来するＰＺＴ粒子３の自発分極との相互作用により、自発分極の方向が厚み方向に揃った配向性の高いＰＺＴ薄膜３０ａを結晶成長させることができる。ＢＡＷ共振器における圧電薄膜の形成方法としてＰＺＴ薄膜３０ａの製造方法を利用すれば、ＢＡＷ共振器およびＵＷＢ用フィルタの低コスト化を図れる。 （もっと読む）

【課題】光学特性の変化を抑制可能な位相差フィルムを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、基板の表面に無機材料の粒子を供給して、基板の表面に位相差フィルムを形成する動作と、形成された位相差フィルムにシランカップリング剤を供給する動作と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高い生産性で無機配向膜を形成する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の基板の内面側に無機配向膜を形成してなる。成膜室２、２と、成膜室内にて基板Ｗに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置３とを備える。スパッタ装置は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲット５ａ、５ｂと、プラズマ生成領域を挟む両側に配置されプラズマ生成領域からスパッタ粒子５ｐをそれぞれ放出する開口部３ａ、３ａとを有する。成膜室は、開口部のそれぞれに対応して設けられる。開口部は、成膜室の基板の無機配向膜形成面に対して斜め方向からスパッタ粒子を入射させる位置にそれぞれ配置される。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の液晶配向性を制御し、液晶配向欠陥の低減化を図り、配向性を向上させ、光路偏向素子、液晶光変調素子、空間光変調素子として利用した場合の、各種画像表示装置におけるコントラスト比を向上させる。
【解決手段】無機材料を主成分とし、斜方蒸着法により作製された蒸着膜であって、柱状構造体３を具備しており、柱状構造体２は多孔性を有しているものとし、この蒸着膜を光路偏向素子として利用した液晶光変調素子、投射型画像表示装置、空間光変調素子、投射型画像表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】３９０ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザー光を入射させる液晶素子において、水平配向膜として機能し、液晶分子の適切なプレチルト角が得られ、かつ簡易的な構成で形成される斜方蒸着膜を有する液晶素子を提供する。
【解決手段】液晶層を挟持する複数の透明基板を備え、おのおのの透明基板面の液晶層に接する側には、無機物材料が１層で斜方蒸着された水平配向膜が備わっており、前記水平配向膜の厚さが、５〜８ｎｍであることを特徴とする液晶素子。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス材料の利用効率を向上させ、基板の中央部における膜厚ムラを低減する。
【解決手段】基板Ｗの両端に沿って２つの蒸着源１０を移動機構２０によってそれぞれ移動させながら、有機エレクトロルミネッセンス材料を蒸着する。基板Ｗの中央部の膜厚が薄くなるのを防ぎ、かつ、基板Ｗの端部における材料の利用効率を向上させるために、角度変更手段２３によって、基板Ｗの中央に向かって角度θだけ各蒸着源１０を傾けて移動させる。また、昇降手段２２によって蒸着源１０を昇降させてもよい。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗多層膜の構造において層間結合を効果的に低減させることができる実用的な製造技術を提供する。
【解決手段】排気系３１を接続した真空容器３と、真空容器３内に設置した、反強磁性層からなる薄膜を堆積させるための基板１を保持するための基板ホルダー３２と、基板ホルダー３２を回転させるための回転機構３２１と、真空容器３内に設置した、放電を生じさせるためのカソードであって、該カソード面を前記基板ホルダー面に対して傾斜させて配置したカソード３３と、真空容器３内にアルゴンより原子番号の大きな元素のガスを導入するためのガス導入系３７と、を有する磁気抵抗多層膜製造装置を使用し、該アルゴンより原子番号の大きな元素のガスの流量を１０％以上として磁気抵抗多層膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】長期間メンテナンスを行うことなく成膜を行うことが可能な成膜装置およびそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ上に堆積させる被膜材料５Ｍを供給する被膜材料供給手段５と、被膜材料供給手段５に対して所定位置に基板Ｗを保持する基板ホルダ４と、被膜材料５Ｍを透過させるスリット６Ｋを所定位置に形成しつつ、被膜材料供給手段５と基板ホルダ４との間に配置されたマスク部材６Ｐと、スリット６Ｋから離間配置され、マスク部材６Ｐの表面に付着した被膜材料５Ｍを除去するクリーニング部と、スリット６Ｋの近傍とクリーニング部との間で、マスク部材６Ｐを循環移動させる循環移動手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】充放電サイクル特性に優れた高容量なリチウム二次電池用負極を提供する。
【解決手段】シート状の集電体と、前記集電体に担持された活物質層とを具備し、前記活物質層は、複数の柱状粒子を含み、前記柱状粒子は、ケイ素元素を含み、前記柱状粒子が、前記集電体の法線方向に対して傾斜しており、前記活物質層の空隙率Ｐが、１０％≦Ｐ≦７０％である、リチウム二次電池用負極。 （もっと読む）

【課題】長期間メンテナンスを行うことなく成膜を行うことが可能な成膜装置およびそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ上に堆積させる被膜材料５Ｍを供給する被膜材料供給手段５と、被膜材料供給手段５に対して所定位置に基板Ｗを保持する基板ホルダ４と、被膜材料供給手段５と基板ホルダ４との間に配置され、被膜材料５Ｍを透過させるスリット６Ｋが所定位置に形成されたマスク部材６と、マスク部材６のスリット６Ｋの近傍に、被膜材料５Ｍと反応して揮発性物質を生成する反応ガスＧを供給して、スリット６Ｋの近傍に付着した被膜材料５Ｍを除去するクリーニング手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板の成膜領域に非成膜部分が発生するのを回避することができる成膜基板の製造方法及び成膜基板の製造装置を提供すること。
【解決手段】基板１０のうち成膜粒子の照射方向に対する基板保持部材４の影Ｓがこの非成膜領域１０ｂに重なると共に成膜領域１０ａには重ならないように基板保持部材４を配置して当該基板保持部材４によって基板の非成膜領域１０ｂを保持した状態で成膜粒子を照射するので、成膜粒子の照射時に、基板１０の成膜領域１０ａが基板保持部材４の影になるのを防止することができ、成膜粒子が基板保持部材４によって遮られるのを回避することができる。これにより、基板の成膜領域１０ａに非成膜部分が発生するのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】入射角度に依存する照度ムラのない多層膜ミラーを実現する。
【解決手段】基板１００上に、マグネトロンスパッタリングによってＳｉ層１１とＭｏ層１２を交互に成膜して多層膜ミラー１０を形成する。Ｓｉ層１１とＭｏ層１２の間に成膜中に形成される拡散層１３は、多層膜ミラー１０の反射率を低下させる性質があるため、軟Ｘ線Ｒ１の入射角度が異なるミラー周辺部分と中央部に対応するように、拡散層１３の面内方向に膜厚分布を設ける。入射角度の低いミラー周辺部分と同等になるように中央部の反射率を低くすることで、反射光Ｒ２の照度を均一にする。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、有機材料を含むターゲット部材の表面にイオン粒子を照射して、ターゲット部材より配向膜を形成するためのスパッタ粒子を放出させるスパッタ装置と、基板の表面がターゲット部材の表面と対向しないように基板を保持する基板保持部材と、ターゲット部材からのスパッタ粒子が供給可能な位置に配置され、ターゲット部材から供給されたスパッタ粒子を基板の表面に供給するようにスパッタ粒子の進行方向を変える所定面を有する所定部材とを備えている。 （もっと読む）