【課題】光軸の方向が厚み方向に変化した無機位相差補償板を斜方蒸着法により能率よく作製する。
【解決手段】 蒸着装置１０には、複数の基板１１を保持する基板保持機構１５が設けられている。基板保持機構１５は、複数の基板１１をその表面と平行に移動させる水平移動ベルト１６と、基板１１をそれぞれ保持する回転ホルダ１７を備えている。遮蔽マスク２０及び２１は、基板１１と蒸着源１２との間を遮り、基板１１に付着する蒸着材料の入射角の範囲を制限する。基板１１と蒸着源１２とが近づくと、蒸着材料の入射角が大きくなる。基板１１は回転ホルダ１７によりその法線方向を中心に回転する。複数の基板１１のそれぞれには、傾斜角度が厚み方向に変化した柱状構造からなる蒸着膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】 電解研磨または化学研磨によって金属基材の表面粗さを改善し、優れた超電導特性を有する酸化物超電導導体の提供。
【解決手段】 Ｍｏを含まないＮｉ−Ｃｒ合金からなり、その表面が電解研磨または化学研磨された金属基材上にイオンビームアシスト法によって多結晶中間薄膜が設けられ、該多結晶中間薄膜上に酸化物超電導体薄膜が設けられてなることを特徴とする酸化物超電導導体。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置内に配設する機器の構成を簡単にできながら、ルツボおよび長尺帯状基材の熱による破損が生ずることなく、基材に均一な膜を形成できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置1は、真空チャンバー2内に長尺帯状基材5を連続走行させる基材搬送装置4と、溶融された蒸発材料が収容されるルツボ3とを備える。基材搬送装置4は、長尺帯状基材5に成膜する際に、この基材面の幅方向がルツボ3内の溶湯面に対し、7°以上47°以下の範囲で傾斜するように長尺帯状基材5を搬送する。基材搬送装置4により連続走行する長尺帯状基材に、ルツボ3内で溶融された蒸発材料の蒸発分子を膜厚みが均一となるように蒸着して成膜する。 （もっと読む）

【課題】 多層膜の成膜において、膜の密着性を高め、クラックの発生を抑制し、成膜後の波長シフトの小さい光学素子の製造を可能とする。
【解決手段】 多層膜の成膜方法であって、通常蒸着により圧縮応力を示す蒸着膜を形成するステップ、及びプラズマを用いた蒸着により引張応力を示す蒸着膜を形成するステップからなる多層膜の成膜方法において、圧縮応力を示す蒸着膜と引張応力を示す蒸着膜とを交互に積層するようにした。 （もっと読む）

【課題】 高い耐光性を有すると共に、配向膜の劣化を抑制することが可能な液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】 金属酸化膜３１により配向膜１６を形成しているので、高い耐光性を有する。また、この金属酸化膜３１の表面のＳｉ原子３３のうち少なくとも一部に、ヒドロキシル基よりも水和性の低いＮ原子３２を、酸素原子を介さないように結合させるので、金属酸化膜３１の表面にヒドロキシル基が形成されるのを防ぐことができる。これにより、配向膜１６の表面の水和性が低下し、当該表面に水分が付着しにくくなるので、配向膜１６の劣化を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

蒸発した材料のビームが、反射体の衝突面に衝突して、当該反射体からシャドウマスク内の１以上の開口を通って堆積基板上へと方向が変えられるように、前記蒸発した材料のビームを前記反射体の方向に向けて、パターン化された材料層を形成することを含む、パターン化層の作成方法。
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【課題】内部応力の緩和された多層膜を備えた光学多層膜フィルタおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質層１３には空隙が存在するので、多層膜２の他の層で発生した内部応力が多孔質層１３に加わっても、多孔質層１３内部に伝わる応力が空隙の存在によって分散できる。分散された応力はあらゆる方向を向くため、多孔質層１３内で応力を打ち消すことができ、多層膜２全体としての内部応力を緩和できる。したがって、内部応力による品質への影響が少なくなり、基板の歪、膜全体あるいは膜の一部の剥離等の問題を低減できる。
また、多孔質層１３の蒸着中に、基板１０の表面が高周波振動によって微細な振動をしているので、蒸着材料が基板１０に到達した際に微細粒子化でき、形成中の層に空隙を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において生産性を向上させる。
【解決手段】真空蒸着装置１０は、ターゲットチャンバ１００、プロセスチャンバ２００及び飛行チャンバ３００を備える。各チャンバは相互に独立して真空を維持可能に構成されており、ターゲット１１０から発生する蒸発物質１１０ａは、各チャンバ内の空間を介して、プロセスチャンバ２００内で治具９００により回動可能に保持された基板２１０に蒸着される。この際、蒸発物質１１０ａは、スリット部２２１が形成された遮蔽板２２０によって基板２１０への到達が制限される。スリット部２２１は、治具９００が回動することによって生じる基板２１０上の角速度の相違に対応付けられ、角速度が大きい領域に対応する箇所程大きい開口面積を有しており、蒸着膜の膜特性が良好に制御される。 （もっと読む）

【課題】 イオンアシストを併用した斜方蒸着によりＳｉＯ₂からなる無機配向膜を形成する際のイオン照射角度を最適化する。
【解決手段】 蒸着源（ＳｉＯ₂）１２の蒸着方向（蒸着粒子堆積方向）１２ａが基板面と成す角度（蒸着角度）をθとした場合に、イオンガン１４のイオン照射方向１４ａが基板面と成す角度（イオン照射角度）が２θ（許容誤差：±０．２θ）となり、尚且つ角度範囲が２０°≦θ≦４０°となるように、例えばθ＝２０°で２θ＝４０°（許容誤差：±４°）となるようにして斜方蒸着とイオン照射とを同じ側の方向から行う。これにより、無機配向膜表面のカラム構造間に生じる微小な隙間４が減少し、無機配向膜としての機能（品質）を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 配向膜の製造に際してのメンテナンスの負荷を軽減し、これによって生産性を向上した配向膜の製造装置、配向膜の製造方法、この製造方法で製造された配向膜を有した液晶装置、電子機器を提供する。
【解決手段】 対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置の配向膜の製造装置１である。成膜室２と、成膜室２内にて基板Ｗに配向膜材料を物理的蒸着法で蒸着し、配向膜を形成するための蒸着手段３と、配向膜材料を選択的に蒸着させるためのスリット状の開口部１１を有し、蒸着手段３と基板Ｗとの間に設けられて基板Ｗの非配向膜形成領域を覆う遮蔽板４と、を備えてなる。蒸着手段３における蒸着源３ａと遮蔽板４との間で、蒸着源３ａの近傍に、蒸着源３ａの昇華方向を規制するための規制部材５を設けた。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ土類金属及びＣｅ、Ｚｒ等の金属を含み、ペロブスカイト型の結晶構造を有する酸化物からなり、高いプロトン導電性を有するとともに、水素透過性基材との密着力が高い酸化物プロトン導電性膜、及びこの酸化物プロトン導電性膜と水素透過性基材からなり、酸化物プロトン導電性膜と水素透過性基材との剥離が生じにくい水素透過構造体を提供する。
【解決手段】 化学式Ｂａ_ｘＭ_ｙＬ_ｚＯ_３（ＭはＣｅ又はＺｒを表わし、Ｌは短周期型周期表３族の元素を表わし、０＜ｚ／（ｙ＋ｚ）≦０．８である。）で表わされる酸化物よりなり、ペロブスカイト構造を有するプロトン導電性の膜であって、前記膜の一表面近傍においてｘが０．９以上であることを特徴とする酸化物プロトン導電性膜、並びに、この酸化物プロトン導電性膜、及び前記一表面と貼合わされている水素透過性基材からなることを特徴とする水素透過構造体。 （もっと読む）

【課題】 酸化物薄膜を積層してなる反射偏光子において、異方性膜を作製する際に、光学異方性を有する酸化物薄膜を２層に積層された構成とし、第２層の膜は、第１層の膜に対して、ほぼ１８０°反転した向きから成膜することにより、膜厚と光学特性の均一性が確保された反射偏光子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 異方性を有する膜を２層として、第１層の膜に対して、第２層の膜をほぼ１８０°反転した方向から斜方成長させることによって、均一な膜厚と光学特性を実現する。 （もっと読む）

【課題】 エアロゾル内における微粒子の粒径分布及び濃度を均一化する。
【解決手段】 ターゲット材料Ｔをレーザー照射によりアブレーションすることで微粒子ｓを生成し、生成した微粒子ｓをキャリアガスＧ中に分散させてエアロゾル化し、このエアロゾルＡを基材Ｂに吹き付けることによって、微粒子ｓが衝突した基材表面に構造物を形成する。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。
【解決手段】基板１０２および蒸着マスク１１０は、蒸着プロセスの間、基板および蒸着マスクが一体の要素として作用するように、間にあるスペーシング要素１０８によって固定的に取り付けられる。蒸着マスク１１０は、リソグラフィ・プロセスによって生成された複数の開口１１２を包含する。材料は、固有の蒸着角度で配向された１を越える蒸着源３００から、蒸着マスク１１０を介して基板上に蒸着される。従って、得られる基板１０２の蒸着パターンは、蒸着マスク開口１１２の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 （もっと読む）

支持体（１０）上に感光性高分子材料の層（１１）の形成、高分子層の一部に化学的な変性を引き起こすために高分子層の選択的露光、高分子層の上記のようにして露光された部分又は上記のようにして露光されなかった部分の１方のみを溶媒で除き、そうして高分子層内の空洞（１２、１２’・・・）の形成、上記空洞の底部および残りの高分子上に陰極析出によりゲッタ材料の薄い層（１３）の形成、そして支持体表面の上に少なくとも１つのゲッタ材料蒸着層（１３１、１３１’、・・・、２０）を残して、第１溶媒で除かれなかった高分子部分を第２溶媒により除く、各工程を含む小型ゲッタ蒸着層の形成方法が記載される。同様に、本発明はこの方法によって得られた小型ゲッタ蒸着層に関する。
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【課題】 水分や不純物等の浸入を防止することが可能な、液晶装置６０を提供する。
【解決手段】 基板本体１０Ａの表面に突起８１が形成され、その表面に倣って形成された無機配向膜１６の表面に凸部８２が形成され、また基板本体２０Ａの表面に溝９１が形成され、その表面に倣って形成された無機配向膜２２の表面に凹部９２が形成され、そして凸部８２および凹部９２の表面にシール材１９が配設されて、液晶層５０が封止されている構成とした。 （もっと読む）

【課題】柱状結晶膜を成膜する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は、遮蔽部材５を有しており、入射角度θｘが２０°を超える蒸気は遮蔽部材５に付着し、入射角度が２０°以下の蒸気が基板１１表面に到達するように、遮蔽部材５の形状や位置と、蒸着源２０の位置が定められている。成膜材料２５にハロゲン化Ｃｓを用いた場合には、入射角度θｘが２０°以下であれば、基板１１表面に柱状結晶が成長するので、本発明によれば、基板１１と蒸着源２０との間の距離を大きくしなくても、柱状結晶の膜を成膜することができる。 （もっと読む）

非常に高い堆積レートで、二軸配向フィルムを連続的に移動する金属テープ基板上に堆積する方法が開示される。これらの方法は、フィルムを基板上に、基板法線から約５°から約８０°の斜め入射角を持つ堆積フラックスで堆積し、同時に、該堆積フィルムを該フィルムの最良イオン配向方向または第２の最良イオン配向方向のいずれかに沿って設けられたイオンビーム入射角でイオンビームを使って照射し、それにより二軸配向フィルムを形成することを含み、堆積フラックス入射面は二軸配向フィルムが早い面内成長速度を持つ方向に沿って平行に設けられる。基板、前記方法で前記基板上に堆積された二軸配向フィルム、及び二軸配向フィルム上に堆積された超伝導層を含む超伝導物品が同様に開示される。
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【課題】 スパッタ面から基板へ飛んでくる二次電子や負イオン等の負荷電粒子を捕捉して、該二次電子及び負イオン等による基板の損傷及び、基板上に形成される薄膜の破壊、損傷を減らすことができる対向ターゲット式スパッタ装置及び方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、一対のターゲット１ａ，１ａを対向配置した対向ターゲット式スパッタ装置及び方法において、一対のターゲットと成膜される基板との間に、スパッタ面から基板へ飛ぶスパッタ粒子の流路Ｒに面するよう介在し、断続又は連続的に正電位に印加されるアノード部を設ける。
また、一対のターゲット１ａ，１ａを対向配置した対向ターゲット式スパッタ装置及び方法において、一対のターゲットと成膜される基板との間に、スパッタ面から基板へ飛ぶスパッタ粒子の流路Ｒに面するよう介在し、断続又は連続的に正電位に印加されるアノード部を設けることと併せて、ターゲットに印加するＤＣにＲＦを重畳することにより放電電圧を低くする。 （もっと読む）

【課題】
所望の多層膜周期長を有する多層膜反射鏡、その製造装置（成膜装置）等を提供すること。
【解決手段】
膜厚補正板の厚さをｄ、傾斜角をθとする場合、開口部内側面の遮蔽部としての寄与はｄ×ｓｉｎθである。厚さを０．５ｍｍとすると、膜厚補正板を３０°傾斜させた場合、膜厚補正板を傾けない場合に比べて開口率は約７１％に減少する。膜厚補正板の一部削って厚さを０．４ｍｍに減少させると、膜厚補正板を傾けない場合と比べた開口率の減少幅は縮小し、開口率は約７７％に縮小する。そこで、中央部分の厚さが０．５ｍｍであり、周辺部に向かって板の厚さが徐々に減少し、最周辺部で０．４ｍｍであった場合、この膜厚補正板を３０°傾けて配置して成膜を行えば、周辺部の開口率が周辺部に比べて約８％大きい状態で成膜を行うことができる。 （もっと読む）