【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面に反応性スパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

【目的】
露光装置の高ＮＡに対応するために、低入射角度から高入射角度にわたって反射防止効果の高い反射防止膜に有用な低屈折率フッ化物薄膜を形成する
【構成】
金属ターゲットを使用し、不活性ガスとフッ素を含むガス中で直流反応性スパッタリングを行い、ターゲットからの負イオンダメージとプラズマダメージを防止して低吸収の金属フッ化物薄膜を形成するスパッタリングにおいて、
不活性ガス分圧を高く保持してスパッタリングすることで金属フッ化物薄膜中に過剰に取り込ませ、薄膜の密度を任意に調整可能とする。また、不活性ガス分圧を基板近傍のみ高く維持可能なように基板に高速で照射する。 （もっと読む）

【課題】
運用の初期から安定した状態で薄膜が形成される成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室７１にて薄膜被形成物の表面に電子ビームを用いて薄膜が蒸着されて形成され、このとき、成膜室７１内に水蒸気が導入され、同成膜室７１内の水分が同電子ビームによって酸素と水素とに解離され、同成膜室７１内の水素分圧が所定の制限範囲に保たれるように水蒸気の流量が制御される。このため、水素分圧に所定の制限範囲が設定される成膜が、成膜装置の稼動初期から終了まで安定して行われる。また、水蒸気発生装置７２や質量分析器７６など、成膜室７１に容易に後付けできる部品を用いて水素発生量を制御するようにしたので、真空室などを設けることなく、成膜装置が容易に改造される。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法による光学多層膜形成装置において、高精度で再現性に優れた膜厚制御を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】真空槽からなるスパッタ室、スパッタ室内部で基板を保持して移動する移動部材、及び基板に光学薄膜を形成するために複数のターゲット材のプラズマを発生させる複数の対からなるスパッタカソードを備えた光学多層膜を形成するスパッタリング装置において、スパッタカソードの各対が基板の移動経路を挟んで対向する位置に配置され、基板が該スパッタカソードの各対の近傍を複数回通過するように移動部材を動作させる手段を含む構成とした。 （もっと読む）

【課題】多層膜の膜厚の合わせこみを正確に、サンプリグ間隔が長くならず、且つ廉価に行う多層膜の膜厚制御方法、及び成膜装置を提供する。
【解決手段】１）予め、目標とする多層膜、及び各層を変動させて得られた各多層膜に、入射角を変化させて入射光を照射した際の、各反射光の色度座標を色度図上に目標とする多層膜の色度点、及び各多層膜の色度点としてプロット、２）製造された多層膜に、入射角２以上の入射光を照射した際の、各反射光の色度座標を色度図上に製造された多層膜の色度点としてプロット、３）両色度点を対比し、製造された多層膜のどの層の膜厚が、どれだけ変動しているかを判断、４）多層膜の製造条件を補正、製造する多層膜の膜厚制御する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システム及び方法
【解決手段】プラズマ処理システムは、磁界を生成することができる磁界発生器と、該システムの処理チャンバ内の粒子を照射することが可能な光シートを生成することができるシート光学素子とを含む。イメージング装置は、該光シートにより照射された粒子に対応するイメージデータを獲得することができる。該磁界発生器、該シート光学素子及び該イメージング装置は、プラズマにアクセスするために、互いに関連するように配置することができる。イメージプロセッサは、該光シート内の粒子の濃度を得るために、該イメージデータを処理することができる。プラズマ処理システムにおける粒子濃度を測定する方法は、該磁界発生器、シート光学素子及びイメージング装置を、プラズマにアクセスするために互いに関連するように配置することと、該光シート内の粒子の濃度を得ることと含む。 （もっと読む）

本発明は、第１には、真空中で基板上に高温超伝導体を蒸着する装置であって、高温超伝導材料の貯留器を収容する再充填装置と、エネルギ伝達媒体のビームにより蒸発ゾーンにおいて上記高温超伝導材料を蒸発させる蒸発装置と、上記高温超伝導材料を再充填装置から蒸発ゾーンに、該蒸発ゾーンに供給された高温超伝導材料が実質的に残留無しで蒸発されるように、連続的に供給する供給装置とを有するような装置に関するものである。本発明は、更に、真空中で基板上に高温超伝導材料の被覆を蒸着する方法であって、高温超伝導材料の粒体を蒸発ゾーンに連続的に導入するステップと、エネルギ伝達媒体のビームを上記の導入された粒体が上記蒸発ゾーンにおいて実質的に残留無しで蒸発されるように動作させるステップとを有するような方法にも関するものである。
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【課題】 正常時に経時変化するパラメータに対して異常変動が生じた場合に、異常を検知することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 まず、異常判断部は、受信部より所定時刻（第２時刻）の第２印加電圧値を入力する（Ｓ１０１）。そして、所定時刻の直前の時刻（第１時刻）に受信部から入力した正常な第１印加電圧値に基づいて、許容範囲を設定する（Ｓ１０２）。続いて、設定した許容範囲に第２印加電圧値が入っているかを判断する（Ｓ１０３）。そして、第２印加電圧値が設定した許容範囲から外れている場合、第２印加電圧値が異常値であると異常判断部は判断してアラームを送信部に出力する（Ｓ１０４）。一方、第２印加電圧値が設定した許容範囲に入っている場合、第２印加電圧値が正常値であると異常判断部は判断する（Ｓ１０５）。以下、上述した動作を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 基板への膜の形成直後に即座に検査することにより、膜の不良を早期に検出できるとともに、長期間、安定して正確な検出精度を得ることが可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 受渡ホルダ６０によって、基板２が成膜処理室側に受け渡され、スパッタリングによる成膜処理が施された後、再びロードロック室３０側に戻される。支持部材５１を上昇させることにより、受渡ホルダ６０上の基板２を、支持部材５１と搬送ホルダ４２との間に挟持し、機械的チャック４２ａによって基板２の中心孔を係止する。光学式透過率センサの発光部７１から出射したレーザ光を、窓部４２ｂ，５１ａ，１ｂを介して受光部７２が受光することによって、基板２上の膜の透過率が検出され、その結果に応じて、不良品として廃棄されるか、その後のディスク製造工程に進むかが判定される。 （もっと読む）

本発明は、金属及び合金の熱蒸発による、真空蒸着方法及び真空蒸着装置に関するものである。図１に提案された装置は、融解金属（液体金属）（２）を有する融解るつぼ（１）と、真空チャンバ（５）内の蒸発装置（４）の１つあるいは複数のるつぼ（３）と、融解物の圧力が固定の磁気流体力学（ＭＨＤ）回路（７）を介して上記融解るつぼを上記蒸発るつぼに接続する、加熱された液体金属パイプ（６）とを備えている。回路（７）は、ＭＨＤポンプ（８）と、ＭＨＤポンプに隣接した液体金属パイプ（６）の区域と、加熱された液体金属パイプ（９），（１０），及び（１１）と、液体金属パイプ（１１）を介してＭＨＤパイプの前の液体金属パイプ６の区域に接続され、上記のパイプ（９）に取り付けられた拡張器（１３）に液体金属パイプ（１０）を介して接続される加熱容器（１２）とを備えている。上記拡張器内と上記容器内との融解物上の空間は、図示しない真空ポンプシステムに接続されたパイプ（１４）に連結される。融解物の高さＬの２つの電気センサ（１５）は、上記拡張器に取り付けられる。上記拡張器内と上記蒸発乾燥器内との融解物の高さＬは、上記ＭＨＤ回路容器内の融解物の高さＬ_０と比較してΔｈ分高い、すなわち、ＭＨＤポンプはΔｈの圧力を供給するべきである。本発明の技術の解決案は、長期にわたる処理における金属及び合金の蒸発の安定性を高めることを可能にし、これにより生産性を高める。上記解決案は、電気、冶金、および機械技術において様々な機能を有するコーティングの蒸着のために用いられる。本発明の方法を用いて、亜鉛、マグネシウム、カドミウム、リチウム、および亜鉛化マグネシウム合金を蒸発させることが可能である。
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同時蒸発蒸着プロセスによって製造される銅インジウムガリウムジセレン化物（ＣＩＧＳ）太陽電池の組成制御のためのインライン製造装置および方法について述べる。蒸着条件は、蒸着されたＣｕ過剰全体組成が、最終ＣＩＧＳ膜であるＣｕ不足全体組成に変換されるようになっている。モリブデン層を備えた基材（２１）は、ＣＩＧＳプロセスチャンバ（７）内を一定の速度で移動する。基材上での銅豊富組成から銅不足組成への転移は、転移に関する物理パラメータ、たとえば放射を検知するセンサを使用することによって検知される。本発明の代わりの好ましい実施形態において、蒸着層中の元素の組成を検知するセンサ（２０）が提供される。センサに接続されたコントローラ（１７）は、基材の幅に渡って均一な組成および均一な厚さのＣＩＧＳ層を提供するために、蒸発物源（１１、１２、１３）からの流量を調整する。２列の蒸発物源の使用は、基材の幅に渡るＣＩＧＳ層の元素組成および厚さの調整を可能にする。 （もっと読む）