【課題】微粒子に付着材料を容易に蒸着することができ、さらに、回収率を高めることが可能な、複合微粒子の製造装置を提供する。
【解決手段】微粒子を収容する回転体と、回転体内の微粒子に遠心力を付与する遠心機と、任意の傾斜角度に回転体を可動し、回転体を支持する傾斜可動手段とを備える複合微粒子の製造装置を構成する。さらに、複合微粒子の製造装置は、回転体の回転中心から重力方向に引いた垂線よりも、微粒子が最上点から下降する回転側に回転体の回転中心から重力方向に引いた垂線と直交する水平線側に設けられている撹拌手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】２以上の物質の組成比率を高精度に調整して、ＣＩＧＳ膜などの薄膜を形成する。
【解決手段】多源蒸着薄膜の組成制御方法では、チャンバ１１内に第１物質（Ｓｅ）を供給して加熱した状態において、同じ成膜工程においてチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，Ｉｎ）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された振動子２５の付着物による発振周波数の変化に基づいて検出することにより制御し、異なる成膜工程において多段的にチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，ＩｎとＣｕと）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された計測板３３の付着物の膜厚を光の薄膜干渉により検出することにより制御する。 （もっと読む）

【課題】基板に良好に薄膜を成膜する。
【解決手段】第１の電流検出部１５及び第２の電流検出部１６のいずれか一方の電流検出部により先に検出された正常放電タイミングをトリガとして計時を開始する。他方の電流検出部により正常放電タイミングが検出されたカソードに対しては、一方の電流検出部により検出された正常放電タイミングと、他方の電流検出部により検出された正常放電タイミングとの時間差を求める。そして、所定時間に時間差を加えた時間を計時した時点で放電が終了するように印加電圧を設定する。 （もっと読む）

【課題】結晶中に欠陥の発生や不純物の混入を防止することにより結晶品質の改善を図ることが可能な結晶成長方法を提供する。
【解決手段】基板上に結晶９０を成長させる際に、結晶９０中の格子欠陥の欠陥準位に対応する波長を含む光を結晶成長時に照射し、照射した光に基づいて格子欠陥に対して近接場光を発生させ、発生させた近接場光による近接場光相互作用に基づいて格子欠陥を構成する不純物３３又は欠陥周辺の原子を脱離させる。 （もっと読む）

蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）

【課題】高精度で、かつ、工程期間短くして、成膜を可能とする成膜方法およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。
【解決手段】蒸発源３からの蒸発粒子を被成膜対象に蒸着させて成膜する成膜方法であって、当該方法は、所定波長の光に基づいた被成膜対象の反射率をベースにした上記成膜膜の相対反射率が上記成膜膜の膜厚変化に応じて変化する関係を示す検量線データを得るステップと、上記成膜膜へ光を入射および反射させることで上記相対反射率を測定するステップと、上記検量線データと上記測定した相対反射率とから上記成膜膜の膜厚を演算するステップと、演算により得た膜厚を上記成膜膜の膜厚制御にフィードバックするステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部；静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部；基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、第１循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】成膜装置の状態を個別に認識した上で、プロセスガス中の特定ガスの分圧について測定値が閾値を上回っているか下回っているかを個別に認識することが可能なプロセスモニタ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプロセスモニタ装置１は、バルブにより仕切られたチャンバを有する成膜装置５０に接続して使用され、前記成膜装置に接続されたガス分析手段３０を制御するコンピュータ１０には、予め、プロセスガス中の特定ガスの分圧について、バルブが開いた第一状態における警告閾値と、バルブが閉じた第二状態における異常閾値とが、それぞれ設定されており、前記コンピュータは、前記ガス分析手段により検出された特定ガスの分圧を監視し、該分圧が、信号送信手段２０により送信された前記チャンバの状態に応じた警告閾値又は異常閾値を超えた場合に、警告信号又は異常信号を前記成膜装置に送信すること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜速度検出器のメンテナンスの頻度を低減すると共にこの成膜検出器に筒状加熱体からの熱による不具合が発生することを抑制することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着源１、筒状加熱体２、成膜速度検出器３及び遮蔽体４を備える。前記筒状加熱体２は前記蒸着源１と被蒸着基材５との間の空間を取り囲むように配設されている。前記遮蔽体４は前記筒状加熱体２の被蒸着基材５側の開口を臨む位置を通過するように連続的に移動するように設けられている。前記成膜速度検出器３は、前記遮蔽体４に対して筒状加熱体２側とは反対側の位置に配設されている。前記遮蔽体４には筒状加熱体２側から成膜速度検出器３側へ貫通する複数の孔６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】実際に成膜に使える蒸着材料の残量を正確に測定することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器１内に蒸着材料２を蒸発させる容器として坩堝２を設置し、該坩堝２において蒸発させられた前記蒸着材料２を基板４に成膜する真空蒸着装置であって、前記真空容器１外から前記坩堝３内の前記蒸着材料２の嵩を計測する計測手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】高い精度で光学膜厚及び分光特性の計測が可能な光学式膜厚計及び光学式膜厚計を備えた薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】光学式膜厚計は、投光器１１と、反射ミラー１７と、受光器１９と、分光器２０とから構成されており、測定光の入射方向に対して実基板Ｓの逆側に、測定光の光軸に対してほぼ垂直に反射面を配設された反射ミラー１７を備えている。また実基板Ｓは、測定光の光軸に対して所定の傾き角度を有して配設される。測定光（出射光と反射光）が実基板Ｓを２回透過することになり、透過率（光量）の変化量を大きくすることができ、膜厚測定の制御精度を向上させることができる。また透過位置の違いによる測定誤差の発生を防止することができ、また、測定基板を所定の経路を通って２回透過していない測定光が受光器１９側で検出されることがなくなるため、高い精度で光学膜厚及び分光特性の計測ができる。 （もっと読む）

真空室内で回転するマグネトロンを用いて基板に成膜する方法であって、基板の運搬方向にマグネトロンに沿って基板を通過させて、マグネトロンと接続されたターゲットから放出される材料を用いて、場合によっては、その材料を真空室内に有る反応ガスと反応させて、成膜する方法に関し、ターゲットの回転に対して動作点を安定化させることによって、基板上の膜の均質性を改善することを課題とする。本課題は、ターゲットの回転によって引き起こされる第一のプロセスパラメータの周期的な変化を第二のプロセスパラメータの所定の大きさの周期的な変化によって補正することと、回転数の異なる二つのマグネトロンを配備することの一方又は両方によって解決される。
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【課題】面粗度の悪い基板や、金属箔、金属積層基板、並びに高融点の蒸着材料を用いる場合においても十分な冷却を可能とし、高密度な成膜を行うことを目的とする。
【解決手段】長尺状の基板６を、その蒸着面側が少なくとも蒸着源５に対向する領域において、蒸着源５に対して凹状となる走行経路Ｒ１〜Ｒ３に沿って走行させながら蒸着を行う。蒸着直後に複数の冷却ローラ７に基板６の両面が接触するように走行させて良好に冷却を行う。 （もっと読む）

【課題】多層膜ミラーの面内応力分布を簡単な方法で制御する。
【解決手段】成膜室内にスパッタガスを導入し、基板を回転させながらターゲットに対して相対的に走査させて成膜する工程で、基板の走査位置に応じて、スパッタガスに添加する水又は水素ガスの混合比を変化させる。例えば、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の各層を成膜中に、回転する基板上の成膜速度が基板の走査位置によって変化することで膜の内部応力値が変わるため、水又は水素ガスの混合比を変化させると膜の内部応力が変化することを利用して応力分布を均一にする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成膜炉内のパーティクル数を抑制できる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜炉内に基板を配置し該基板上に成膜を行う成膜装置であって、該成膜炉と、該成膜炉に接続されたパージガス導入管と、該成膜炉に接続されたパージガス排気管と、該成膜炉内のパーティクル数を測定する測定手段と、該測定手段により測定されたパーティクル数が多いほど、該成膜前に該パージガス導入管から該成膜炉へ導入するパージガスの量を増加させる手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に係り、これを具現するために、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着源；蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の第１スリットが形成される第１ノズル；蒸着源と対向するように配され、第１方向に沿って複数個の第２スリットが形成される第２ノズル；第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を区画するように、第１方向に沿って配された複数個の遮断壁を具備する遮断壁アセンブリ；第２ノズルと基板との間隔を制御する間隔制御部材と、第２ノズルと基板との間のアラインを調節するアライン制御部材とのうち、少なくとも一つ；を含む薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の利用効率を向上させつつ、基板へのスプラッシュの付着を阻止することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置において、蒸発源４０は、複数のチムニ（筒状部）４２を有し、これらチムニから蒸着材料の蒸気を放出することで、対向する基板Ｔ上に蒸着膜を形成する。チムニの先端部と基板との間の距離Ｌ１を１００ｍｍ以下とすることで、チムニの直上に位置する基板に対する蒸発物質の付着量を増加させる。これにより、蒸着レートが向上するとともに、蒸着材料の利用効率を高めることが可能となる。また、チムニを有することで、スプラッシュが基板へ到達することを効果的に阻止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における膜厚を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１を用いて基板１００の表面に成膜を行う成膜装置１は、ターゲット１０１が載置される載置面を有する材料設置部４と、基板１００を材料設置部４に載置されたターゲット１０１に対向させて支持する基板ホルダ６と、基板ホルダ６の材料設置部４に対向する面の第一の領域及び第二の領域の成膜環境を測定可能に配置されたセンサ部８と、センサ部８の測定結果に基づいて第一の領域及び第二の領域の成膜環境を比較し、両者の差が所定値以上であるときに材料設置部４と基板ホルダ６との位置関係を変化させるよう制御する制御部１０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚が異なる複数種類の薄膜を同一バッチで成膜可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１、１０２を用いて基板１００の表面に成膜を行う成膜装置１は、ターゲット１０１、１０２が載置される材料設置部２０と、基板１００を材料設置部２０に載置されたターゲット１０１、１０２に対向させて支持する基板ホルダ１１Ａ、１１Ｂと、材料設置部２０と基板ホルダ１１Ａ、１１Ｂとの間を退避可能に遮蔽するシャッタ部１３Ａ、１３Ｂとを有する複数の基板支持部１０Ａ、１０Ｂと、シャッタ部１３Ａ、１３Ｂと接続された制御部とを備え、制御部は、各々の複数の基板支持部１０Ａ、１０Ｂのシャッタ部１３Ａ、１３Ｂをそれぞれ異なるタイミングで動作させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理工具により使用される消耗材料からなるスラブの寿命検出システムと方法を提供する。
【解決手段】ウェハに対してプロセスを進行する処理工具の動作中に、少なくとも１個の検出器により発生する信号値が、設定値に等しいか、設定値を超えているかの判断がなされる。第１予告は、前記信号値が予告設定値に等しいか、または予告設定値と警告設定値との間にある場合に発せられ、プロセス終了後に処理工具の動作を停止して、残余のプロセスしうるウェハロットの数をＸに設定する。警告は、前記信号値が警告設定値に等しいか、または警告設定値を超える場合に発せられ、プロセス終了後に処理工具の動作を停止して、残余のプロセスしうるウェハロットの数をＺに設定する。ここでは、Ｚ＜Ｘとなる。 （もっと読む）