【課題】精度よく、成膜対象物に均一な膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出させるための成膜源と、前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記成膜源から放出される前記成膜材料の放出量を測定するための測定用水晶振動子と、前記測定用水晶振動子を校正するための前記校正用水晶振動子と、を備える成膜装置であって、前記測定用水晶振動子は、前記移動手段内に設けられ、前記校正用水晶振動子は、前記移動手段が前記成膜待機位置にあるときの前記移動手段の上方に設けられることを特徴とする成膜装置、及びこの成膜装置を用いた成膜方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー５０と、基板保持機構と、蒸着源３０と、モニタ用膜厚センサー２０と、制御系６０と、校正用膜厚センサー１０と、を有し、モニタ用膜厚センサー２０と校正用膜厚センサー１０のうち計測精度を高める方の膜厚センサーから前記蒸着源の開口部の中心までの距離が、他方の膜厚センサーから前記蒸着源の開口部の中心までの距離よりも短いことを特徴とする、真空蒸着装置１。 （もっと読む）

【課題】基板に入射する電子を効果的に減らす。
【解決手段】蒸着装置１Ａは、基板Ｐの表面に成膜材料を蒸着させる蒸着装置である。成膜材料５０を蒸着可能な範囲として予め設定された所定の範囲Ａ１に、基板Ｐの蒸着面Ｐａを下方に向けて基板Ｐを配置可能な基板配置部３と、基板配置部３の下方に配置され、所定の範囲Ａ１に放射される成膜材料５０を収容する収容部４と、収容部４に電子ビームＥＢを照射する照射部５と、収容部４の側方に配置され、電子を吸着する吸着部６と、収容部４から所定の範囲Ａ１に向う成膜材料５０の放射範囲Ａ２の外側における少なくとも吸着部６の上方に配置され、上方に向う電子を水平方向に偏向させる磁界Ｍ３を発生させる磁界発生部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】精度よく、成膜対象物に均一な膜を成膜することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出させるための成膜源２１と、前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記蒸着源から放出される前記成膜材料の放出量を測定するための測定用水晶振動子２２と、前記測定用水晶振動子を校正するための校正用水晶振動子２３と、を備える成膜装置であって、前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子が、前記成膜源の所定の成膜待機位置の上方に固定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、成膜対象物上に形成される薄膜の膜厚管理を正確な精度で行うことができる成膜装置及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出するための成膜源２１と、成膜源２１を所定の成膜待機位置と成膜位置との間で移動させるための移動手段（成膜源ユニット２０）と、成膜源２１から放出される前記成膜材料の蒸気の量をモニタするための測定用水晶振動子２２と、測定用水晶振動子２２に付着した前記成膜材料の膜から測定値を校正するための校正用水晶振動子２３と、を有し、成膜対象物に前記成膜材料からなる膜を形成する成膜装置１であって、前記移動手段が、測定用水晶振動子２２及び校正用水晶振動子２３を保持することを特徴とする、成膜装置１、及び成膜装置１を利用して行う成膜方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー５０と、基板保持機構と、蒸着源３０と、モニタ用膜厚センサー２０と、校正用膜厚センサー１０と、制御系６０と、を有し、蒸着源３０の開口部３２の中心から校正用膜厚センサー１０までの距離Ｌ₁と、蒸着源３０の開口部３２の中心からモニタ用膜厚センサー２０までの距離Ｌ₂との間にＬ₁≦Ｌ₂の関係が成り立ち、かつ、蒸着源３０の開口部３２の中心から基板４０の成膜面に下ろした垂線と、蒸着源３０の開口部３２の中心と校正用膜厚センサー１０とを結ぶ直線とでなす角度θ₁と、蒸着源３０の開口部３２の中心から基板４０の成膜面に下ろした垂線と、蒸着源３０の開口部３２の中心とモニタ用膜厚センサー２０とを結ぶ直線とでなす角度θ₂との間にθ₁≦θ₂の関係が成り立つ。 （もっと読む）

【課題】成膜方法および成膜装置において、成膜に用いる真空槽を大型化することなく、効率よく容易に多元系の薄膜の成膜を行うことができるようにする。
【解決手段】真空槽２内で被処理体３上に多元系の薄膜を成膜する成膜方法であって、構成元素あるいは組成が異なる２種類以上のターゲット片を有するターゲット組立体６を、独立に出力調整可能な複数の電源１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄの陰極に電気的に接続されたバッキングプレート７上に設置し、２種類以上のターゲット片のそれぞれに対して電圧印加するため、電源１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄの陽極に個別の配線を介して電気的に接続された電極を配置して、電源１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄの各出力電力をそれぞれ０％〜１００％の範囲で個別に調整して、ターゲット片からの原子または分子の放出量を変化させて、前記被処理体上に多元系の薄膜を成膜する方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】蒸発材料を劣化させずに長時間放出を継続できる技術を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に加熱側筒体２３と冷却側筒体２４とを、加熱側筒体２３が上になるように配置して、それらの内部に蒸発材料１５が配置された蒸発材料容器２６を挿入し、蒸発材料１５の上部の所定量が、加熱側筒体２３の内側に配置されて、加熱側筒体２３から加熱されて蒸気が放出されるようにする。このとき、蒸発材料１５の下部は、冷却側筒体２４によって冷却され、不必要に加熱されず、劣化しないようになる。 （もっと読む）

【課題】ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源のプラズマに含まれるイオンの生成分布を安定して検出する。
【解決手段】ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源で発生したプラズマに含まれるイオンをＴＯＦ質量分析にかけて、イオンの生成分布を検出する。その際、プラズマからの光を検出し、ＴＯＦ分析装置におけるイオンの飛行時間の開始時刻をプラズマからの光に基づき定める。ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源に対向するＴＯＦ質量分析装置の開口部はスパッタ源のターゲットより低い電位とする。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との隙間を介して侵入する蒸着物質によって生じる輪郭ボケや回り込み等のない、高品位な薄膜パターンを得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２０の裏面の、マスクフレームの内側であって、マスクの開口領域１０の外側の領域を、基板の対向する２辺に沿った線状に、押圧体３０によって押圧することにより、マスク開口部の変形を招くことなく、基板とマスクとを略水平状態にして密着させることができる。 （もっと読む）

【課題】アライメント動作回数を少なくすることによって、基板とマスクへのダメージを低減し、且つ、マスク蒸着の生産性を向上したアライメント方法、及びアライメント装置を提供する。
【解決手段】搬入直後の基板３の重力方向の振動をレーザー振動計２で計測し、得られた振動データに基づいて、振動制御部４が逆位相の振動波を発生し、該振動波を基板３に付与して基板３の振動を低減した後、基板３とマスク４とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の回収手段を備えた蒸着装置において、蒸着材料の回収効率を向上し、生産性の改善を図る。
【解決手段】材料容器９から噴出部５までの第１流路１１と、材料容器９から材料回収容器１０までの第２流路１２に、検出口６，７を設け、該検出口６，７から噴出する蒸着材料の噴出状態を検知する検出器３，４を配置し、材料容器９から検出口６までのコンダクタンスと、材料容器９から検出口７までのコンダクタンスを等しく構成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所定の形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
材料ガス放出装置３０は、内部に材料ガスが配置される中空の蒸気タンク３２ｈ、３２ｄと、載置面１３と対面する位置に配置され、蒸気タンク３２ｈ、３２ｄにそれぞれ接続された複数の放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃と、各放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃を、載置面１３に平行で薄膜形成方向５と直角な成分を有する方向にそれぞれ個別に移動する位置調整装置とを有している。材料ガス放出装置３０と処理台１２を一の薄膜形成方向５に沿って相対移動させながら、各放出装置本体３１₁、３１₂、３１₃から材料ガスを真空槽１１内に放出させて載置面１３上の成膜対象物２０に到達させ、直線状の薄膜を複数本同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】長時間に亘る蒸着でもコンタミネーションの発生を抑制可能な蒸発装置及び該蒸発装置を有した蒸着装置を提供することである。
【解決手段】薄膜材料４０を保持する材料保持部２１を複数有し、さらに１又は２以上の材料保持部２１内の薄膜材料４０を加熱する加熱手段２２と、材料保持部２１に薄膜材料４０を供給する材料供給手段２４と、材料保持部２１を移動させる保持部移動手段２３を有し、１又は２以上の材料保持部２１を使用し、材料保持部２１に対して材料供給手段２４によって連続的に又は間欠的に薄膜材料４０を供給すると共に、材料保持部２１に供給された薄膜材料４０を加熱手段２２によって加熱して蒸発させ、一定要件を満足することを条件の一つとして保持部移動手段２３によって材料保持部２１ａを移動し、新たな材料保持部２１ｂに交換する。 （もっと読む）

【課題】 テスト成膜による成膜の無駄を省き、成膜効率を向上させることが可能な薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 ターゲット（２９ａ，２９ｂ）をスパッタして回転ドラム（１３）に保持され回転する基板（Ｓ）及びモニタ基板（Ｓ０）に、第１薄膜であるＡ膜を目標膜厚Ｔ１で形成した後、Ａ膜の形成に使用したターゲット（２９ａ，２９ｂ）をさらにスパッタし、Ａ膜と同一組成の別薄膜である第２薄膜であるＣ膜を目標膜厚Ｔ３で形成するための方法であって、膜厚監視工程Ｓ４，Ｓ５と、停止工程Ｓ７と、実時間取得工程Ｓ８と、実速度算出工程Ｓ９と、必要時間算出工程Ｓ２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】成膜した基板の膜厚寸法のばらつきを防止することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】基板１４を成膜するための成膜源と、基板１４の中心を中心軸として回転させる基板回転手段２０と、基板１４の回転座標を検出する回転座標検出手段２２と、基板１４の成膜領域から外側にある位置を回転軸として回転することにより、成膜源と基板１４との間を開放又は遮断するシャッタ３０と、シャッタ３０を回転軸の軸回りに回転させるシャッタ駆動手段２８と、シャッタ３０が成膜源と基板との間を開放開始するときの基板１４の回転座標を記憶する記憶手段３８Ａと、記憶手段３８Ａに記憶された基板１４の回転座標と同じ回転座標のときにシャッタ３０が成膜源と基板１４との間を遮断開始するようにシャッタ駆動手段２８を制御する制御手段３８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板をｙ方向に搬送しつつ蒸着によって成膜を行う際に、光源や受光器を成膜材料で汚染することなく、原子吸光法によって、ｙ方向と直交するｘ方向の蒸着フラックスを測定する。
【解決手段】測定光をｙ方向と直交するｘ方向に通過させ、かつ、測定光の光路より蒸発源側に配置される蒸着フラックスを遮蔽する遮蔽板を用い、測定光の光路と遮蔽板とを相対的に移動することにより、遮蔽板によって遮蔽されない蒸着フラックスに対する、測定光のｘ方向の通過位置を変更することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板をｙ方向に搬送しつつ蒸着によって成膜を行う際に、光源や受光器を成膜材料で汚染することなく、原子吸光法によって、ｙ方向と直交するｘ方向の蒸着フラックスを測定する。
【解決手段】ｘ方向に延在し、ｙ方向に離間して配置される、ｘ方向に延在する測定光透過領域を有し、前記蒸着による成膜空間と気密に分離される第１および第２の筒状部と、第１の筒状部において、光源をｘ方向に移動する光源移動手段、および、第２の筒状部において、光源の移動に同期して受光器をｘ方向に移動する受光器移動手段とを有することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板に薄膜を成膜させるのと同時に、膜厚の制御を行うことが可能な蒸着処理装置を提供する。
【解決手段】蒸着によって基板に薄膜を成膜させる蒸着処理装置であって、材料ガスを供給する減圧自在な材料供給部と、前記基板に薄膜を成膜する成膜部を備え、前記成膜部は前記基板に噴射される材料ガスの蒸気濃度を測定する検知手段を有し、前記検知手段における測定結果に基づいて成膜条件を制御する制御部を設けた、蒸着処理装置が提供される。 （もっと読む）