【課題】 プラズマを用いた表面処理の生産性、効率性向上を図ることのできるイオン化率の計測方法及び装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ６を用いて表面処理を行う真空チャンバ１内に、少なくとも一つのイオン化率計測用基材ホルダー８に複数個のイオン化率計測用基材４を配置し、該イオン化率計測用基材４に略プラズマ電位以下の電位を印加した場合とプラズマ電位より高い電位を印加した場合について、同一時間、成膜を実施し、その後それぞれのイオン化率計測用基材４の膜厚を測定して、その膜厚測定結果からイオン化率を算出する。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を維持したまま、多数の基板の薄膜の膜厚を成膜中に測定する。
【解決手段】真空槽１２内に複数のサンプル板１６を配置し、基板の成膜面に薄膜を成長させる際に、サンプル板１６の検出面６１にも薄膜を成長させ、サンプル板１６表面に測定光を照射して薄膜の膜厚測定を行うことができる。サンプル板１６には金属電極が不要であり、高温に加熱することができるので、検出面６１に形成された薄膜を加熱して除去し、サンプル板１６を再使用することができる。その結果、真空雰囲気を維持したまま、多数枚数の基板に対する薄膜の膜厚測定を行うことができる。真空雰囲気内に複数のサンプル板１６を用意し、薄膜が形成されたサンプル板１６を加熱する間に別のサンプル板１６によって膜厚測定を行うと、薄膜除去の待ち時間は生じない。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成・制御で高い品質の透明導電膜を生成する。
【解決手段】Ｉｎ−Ｓｎ合金膜１２０をガラス基板１２上に成膜し、成膜されたＩｎ−Ｓｎ合金膜１２０を、エッチングしてパターニングした後、水蒸気生成装置４２の処理室４００に格納する。水蒸気生成装置４２によって水蒸気を生成させて、その基板１２を格納する処理室４００に水蒸気を導入する。Ｉｎ−Ｓｎ合金膜１２０が水蒸気に曝された状態を所定の時間保持することで、ＩＴＯ膜１４０となるようにＩｎ−Ｓｎ合金膜１２０を酸化反応させる。 （もっと読む）

【課題】温度の急上昇や他の原因によって共振周波数の測定値が急変したときにも正常な膜厚値を求める。
【構成】成膜開始時に、符号Ｌ₁で示すように、共振周波数の測定値が急変したとき、所定の回復時間まで測定値を異常値とし、回復時間後、最小個数の正常な測定値から、時間と共振周波数との間に成立する一次式の“傾きａ”と“ｙ切片ｂ”とを算出し、算出した一次式から、回復時間間に成長した薄膜の膜厚を求め、回復時間後の測定値から求めた膜厚に加算する。異常値が出力されている間の膜厚値が加算されるので、実際より小さい値の膜厚値を出力することが無くなる。正常状態から異常値が得られた場合も、異常値が出力されている間の膜厚は、一次式から求め、正常な測定値から求めた膜厚に加算する。 （もっと読む）

【課題】リチウムターゲットのリチウムの膜厚の測定機能を備えると共に、蒸着源をリチウムターゲットに移動させて消耗されたリチウムターゲットの再生を自動で行うことができるリチウムターゲット自動再生装置及びリチウムターゲット自動再生方法を得る。
【解決手段】リチウムターゲットのリチウムを自動で再生することができるリチウムターゲット自動再生装置１０６であって、リチウムターゲット自動再生装置１０６は、リチウムターゲットにリチウムを蒸着させるリチウム蒸着ユニット１を備え、リチウム蒸着ユニット１は、リチウムターゲット側に移動してリチウムターゲットにリチウムを蒸着させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】迅速に成膜速度を算出し、被処理基板へ供給する有機材料ガスの濃度を略一定にして良質な膜を効率良く形成することができ、保守管理も容易である成膜装置、成膜速度算出方法、成膜方法、有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１のプロセスコントローラ１１は、イオンゲージ１０に搬送ガスのみを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）₀ と、有機材料及び搬送ガスを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）との差と、成膜速度Ｄ／Ｒとの関係を示す成膜速度検量線を作成する。プロセスコントローラ１１は成膜時に（Ｉｉ／Ｉｅ）を算出し、前記成膜速度検量線を用いてＤ／Ｒを求め、求めたＤ／Ｒに基づいてマスフローコントローラ５を制御し、搬送ガスの流量を制御して、成膜処理を行う。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成として、既存のスパッタ装置に容易に搭載可能であって、スパッタ源であるターゲットをスパッタ装置に取り付けた状態で、孔の開く直前の限界まで使用することが可能となるスパッタ源終端検出機構を提供する。
【解決手段】ターゲット終端検出器１０は、スパッタ装置のターゲットホルダ２５の表面に形成された溝２５ｃに収納されて、その上に載置されているターゲットＴ１の裏面に光を照射する導光体１１と、導光体１１に接続した光源１２とを備え、導光体１１は、ターゲットＴ１におけるスパッタ装置により消費される部位の裏側に配置され、ターゲットＴ１が薄肉化して孔の開く直前になると、導光体１１から発光した光がターゲットＴ１を透過して、表面側で検知されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の膜厚の精度が向上する蒸着膜形成体の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置及び被蒸着物が準備される。蒸着装置は、真空槽及び蒸着源を備える。蒸着源は、真空槽内に設置され、蒸着材料を蒸発させる。蒸着装置及び被蒸着物が準備された後に、真空槽内に被蒸着物が収容される。真空槽内に被蒸着物が収容された後に、真空槽内からの排気が開始され、真空槽内が減圧状態にされる。真空槽内が減圧状態にされた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられ、蒸着材料からなる蒸着膜が被蒸着物に形成される。蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が終了させられる。同時に、真空槽内からの排気が終了させられ、真空槽内へ気体が導入され、減圧状態が解消される。 （もっと読む）

【課題】 表面処理中のパーティクルを計測し、パーティクルの粒度分布、荷電状態を測定し、その発生源を特定することにより、重点的・効率的なメンテナンスが可能な方法及び装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ６を用いた真空チャンバ１内に１個以上のパーティクル計測用基材４を配置し、前記パーティクル計測用基材４にプラズマ電位より高い電位、略同一の電位、低い電位のうち少なくとも１つの電圧を前記基材４に個別に印加して所定の表面処理を実施した後前記基材に付着した前記パーティクルの粒度分布を計測し、該計測結果から所定の算出式により前記パーティクルの粒度別帯電状態の分布を算出する。 （もっと読む）

【課題】光っているマクロパーティクルのみならず、光っていないマクロパーティクルについても計測すること、さらにマクロパーティクルの速度分布のみならず、マクロパーティクルの粒度分布や帯電状態（正・負・中性）を計測する。
【解決手段】マクロパーティクルが通過可能な孔を有する電極をマクロパーティクルの移動方向と垂直に配置して、１つ以上の無電界空間および電界空間を形成させ、マクロパーティクルに外部光源より光を照射して粒径を計測すると共に、マクロパーティクルが無電界空間および電界空間内において所定距離を移動するために要した時間を計測し、それに基づいてマクロパーティクルの無電界空間内における速度および電界空間内における速度変化を求め、粒径に基づいて、前記マクロパーティクルの粒度分布を計測すると共に、速度および速度変化に基づいて、マクロパーティクルの速度分布および帯電状態を計測する。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Ｌを、蒸発装置２で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器４内の基板Ｋに導き蒸着させる真空蒸着装置１であって、蒸発装置２が、有機液体材料Ｌが充填されて蒸発溶媒の排出口２２が形成された蒸発容器２０と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ１８と、排出口２２に第２開閉弁１２を介して接続された蒸発室用真空ポンプ１５と、流量調整弁１６とを有し、蒸発装置２が、流量調整弁１６を閉にすると共に、蒸発容器２０内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ１８で蒸発させた後、第２開閉弁１２を開にして上記ポンプ１５で蒸発容器２０内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 （もっと読む）

【課題】放電負荷の異常放電を、簡単な構成で、高速且つ精度良く検出する。
【解決手段】電源装置は、コンバータ２０と、ＬＣ共振回路３０と、ＣＴ５９と、異常放電検出回路６０とを備えている。コンバータ２０は、ＤＣ入力電圧をスイッチングして一定レベルのＤＣ電圧に変換し、ＤＣ出力電圧を出力する。ＬＣ共振回路３０は、コンバータ２０の出力電圧を入力し、その出力電圧を放電負荷４０へ供給すると共に、放電負荷４０における異常放電の発生時に共振電流を発生して放電負荷４０に逆電圧を印加する。ＣＴ５９は、前記共振電流のＡＣ成分を検出して電流検出結果を出力する。更に、異常放電検出回路６０は、前記電流検出結果を電圧レベルに変換し、変換された電圧レベルが閾値を超えた回数をカウントして前記異常放電の発生回数を検出する。 （もっと読む）

【課題】本発明は薄膜形成用蒸着装置に関する。
【解決手段】本発明は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される原料容器と、前記原料容器の上方に前記原料容器と連通されるように結合され、前記原料容器から気化した原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化した原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記気化チャンバーの内部又は前記原料容器の内部で前記原料物質の上方に設けられ、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料物質に熱を供給する第１のヒーターと、前記気化チャンバーの内部で前記第１のヒーターの上方に配置され、前記第１のヒーターにより前記原料物質に熱が供給される間、前記原料容器に収容された原料物質又は不純物が飛散して前記噴射口に付着するのを遮断する遮断板と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置３０は、筒状体１の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体１を保持するための筒状体ホルダ２と、第１の蒸着材料１１を充填するための内部空間を有する第１の蒸着容器１２と、第２の蒸着材料１２を充填するための内部空間を有する第２の蒸着容器２２とを備えている。筒状体ホルダ２と第１および第２の蒸着容器１２、２２とは、筒状体１の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体１の延在する方向に延びる仮想の軸線Ａ−Ａを中心として互いに相対的に回転可能である。 （もっと読む）

【課題】光量を高めた特殊な光源や感度の高い特殊な検出器を用いることなく、成膜される光学薄膜の膜厚を、高い精度で計測する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置を得ることである。
【解決手段】モニター基板と、真空チャンバーの外に設置され、透明窓を介してモニター基板にモニター光を投射する発光手段と、モニター基板から反射され、真空チャンバーの外に導出されるモニター光を受光する受光手段と、受光手段で計測したモニター光の強度変化から、被成膜部材に形成される薄膜の膜厚を算出する手段とを有する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置であって、モニター基板が、平面に半導体でなる膜厚が１００ｎｍ未満の第１の薄膜を備えているものである。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発源は蒸着材料１７を収容し、蒸気１６を外部に放出するノズル１６を有する坩堝１４と、坩堝１４を加熱するヒーター１３で構成されている。蒸気１５が放出されるノズル１４の先端に金属で形成されたリング状の信号検出センサー１１を配置する。蒸着材料１７が過熱されて分解されたときに発生する荷電粒子が信号検出センサー１１に衝突すると微弱電流が流れる。この微弱電流を蒸着室の外部に設置された第１の制御装置１８によって検出し、第１の制御装置１８からの信号を用いる第２の制御装置１２によって蒸発源のヒーター１３に加える電力を制御することによって蒸着膜厚を制御する。 （もっと読む）

【課題】成膜不良を防止すること。
【解決手段】成膜対象に薄膜が成膜される雰囲気を生成するスパッタ処理室５と、その雰囲気に配置されている荷重測定対象１５と、荷重測定対象１５から支持部材１４に印加される荷重を測定するセンサ１６−１〜１６−３とを備えている。このような成膜装置１は、その荷重に基づいて、その雰囲気に配置される物体に堆積した付着膜の一部が剥がれ落ちたかどうかを検出することができ、その雰囲気の成膜処理に対する適否を判別することができる。このため、成膜装置１は、その雰囲気が不適切と判別されたときにその雰囲気で成膜処理を実行しないことにより、その雰囲気で成膜される成膜対象の成膜不良を防止することできる。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の利用効率が高く、かつ大面積の基板に均一な厚みの薄膜を成膜できる真空蒸着装置及び薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
薄膜材料の蒸気を生成する蒸発源３１〜３６と、成膜対象物５１が配置される真空槽１１と、真空槽１１内を真空排気する真空排気装置１２と、蒸発源３１〜３６から蒸気が供給され、真空槽１１内に蒸気を放出させる放出装置２１とを有し、放出装置２１を移動させながら成膜対象物５１に蒸気を到達させ、成膜対象物５１の表面に薄膜を形成する真空蒸着装置１０ａであって、蒸発源３１〜３６を放出装置２１と一緒に移動させる移動装置１５を有する真空蒸着装置１０ａである。 （もっと読む）

【課題】被成膜材料の有無を検出する検出機能を確保することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、ワークＷに成膜材料を成膜する成膜装置であって、ワークＷを収納し成膜処理を行う成膜室２と、成膜室２の内部に設けられ、ワークＷを搬送する搬送装置７と、成膜室２を画成する壁３ａに設けられ、光を透過する防着ガラス２７を有し、成膜室２の外部から内部への投光を可能とするビューポート１３と、成膜室２の外部に設けられ、ビューポート１３の防着ガラス２７を透過させてセンサー光を投光し成膜室２の内部のワークＷの有無を検出する走行センサ１１と、防着ガラス２７への成膜材料の堆積を抑制するためのヒータ３１と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板表面に堆積させた不純物のラジカルの厚さ（量）を比較的高精度に測定し、その結果に基づいて所望量の不純物のラジカルに含まれる元素を基板に導入することができるプラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法を提供する。
【解決手段】プラズマ生成室１２と、プラズマ生成室１２に連通して設けられて処理対象である基板Ｓを保持するステージ３１が設けられた処理室１３と、を備え、プラズマ生成室１２で生成されたプラズマ中の不純物のラジカルに含まれる元素を基板に導入するプラズマドーピング装置１０であって、ラジカルの生成量を測定する測定手段５０を備える構成とする。 （もっと読む）